CN109923450A - 相位差膜、椭圆偏光板和使用其的显示装置 - Google Patents
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- 230000010287 polarization Effects 0.000 title claims abstract description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 177
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 171
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 123
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims abstract description 9
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- -1 pyrimidine - 2,5- diyl Chemical group 0.000 claims description 187
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 148
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 123
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 78
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 52
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000002462 isocyano group Chemical group *[N+]#[C-] 0.000 claims description 24
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 22
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 14
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 13
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 claims description 12
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 11
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N selenophene Chemical compound C=1C=C[se]C=1 MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- URMVZUQDPPDABD-UHFFFAOYSA-N thieno[2,3-f][1]benzothiole Chemical compound C1=C2SC=CC2=CC2=C1C=CS2 URMVZUQDPPDABD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 claims description 3
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 13
- DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)C Chemical compound C[Si](C)C DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 claims 1
- HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N barbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=O)N1 HNYOPLTXPVRDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 170
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 124
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 87
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 description 37
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N alpha-methacrylic acid Natural products CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 31
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 25
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 19
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 18
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 17
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 9
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DECIPOUIJURFOJ-UHFFFAOYSA-N ethoxyquin Chemical compound N1C(C)(C)C=C(C)C2=CC(OCC)=CC=C21 DECIPOUIJURFOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 230000010415 tropism Effects 0.000 description 9
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 6
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 6
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 6
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 6
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 6
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 150000002118 epoxides Chemical group 0.000 description 5
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 5
- 229940068984 polyvinyl alcohol Drugs 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 4
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- 230000018199 S phase Effects 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 3
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Natural products OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 210000000713 mesentery Anatomy 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000004781 supercooling Methods 0.000 description 3
- CTLDMRCJDQGAQJ-UHFFFAOYSA-N (1,1-dimethoxy-2-phenylethyl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)CC1=CC=CC=C1 CTLDMRCJDQGAQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNRDGHFESOHOBF-UHFFFAOYSA-N 1-benzoselenophene Chemical compound C1=CC=C2[se]C=CC2=C1 BNRDGHFESOHOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-(2-phenylpropan-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 4-[[3,5-bis[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-2,4,6-trimethylphenyl]methyl]-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CC1=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)=C1CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VSAWBBYYMBQKIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N Chalcone Natural products C=1C=CC=CC=1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- MOYAFQVGZZPNRA-UHFFFAOYSA-N Terpinolene Chemical compound CC(C)=C1CCC(C)=CC1 MOYAFQVGZZPNRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 159000000013 aluminium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910000329 aluminium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- JPOXNPPZZKNXOV-UHFFFAOYSA-N bromochloromethane Chemical compound ClCBr JPOXNPPZZKNXOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000005513 chalcones Nutrition 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 2
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N dimethyl disulfide Chemical compound CSSC WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GKHRLTCUMXVTAV-UHFFFAOYSA-N dimoracin Chemical compound C1=C(O)C=C2OC(C3=CC(O)=C(C(=C3)O)C3C4C(C5=C(O)C=C(C=C5O3)C=3OC5=CC(O)=CC=C5C=3)C=C(CC4(C)C)C)=CC2=C1 GKHRLTCUMXVTAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical compound CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 150000002220 fluorenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004250 tert-Butylhydroquinone Substances 0.000 description 2
- 235000019281 tert-butylhydroquinone Nutrition 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical class OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000012991 xanthate Substances 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFDXODALSZRGIH-QPJJXVBHSA-N (E)-3-(4-methoxyphenyl)prop-2-enoic acid Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C(O)=O)C=C1 AFDXODALSZRGIH-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- GRIOAXBQGCFYLV-UHFFFAOYSA-N (phenyl-$l^{2}-iodanyl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1IC1=CC=CC=C1 GRIOAXBQGCFYLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUDLIFVTNPYZJH-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetraphenylethylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZUDLIFVTNPYZJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQNXQYZMPJLQX-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CN2C(N(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(=O)N(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C2=O)=O)=C1 VNQNXQYZMPJLQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYXJKPCGSGVSBO-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[(4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylphenyl)methyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C)=C1CN1C(=O)N(CC=2C(=C(O)C(=CC=2C)C(C)(C)C)C)C(=O)N(CC=2C(=C(O)C(=CC=2C)C(C)(C)C)C)C1=O XYXJKPCGSGVSBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004958 1,4-naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSMSBSWKLKKXGG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-chlorophenyl)-2-isopropylaminoethanol Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=CC=C1Cl SSMSBSWKLKKXGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLXWPFULSSRAJJ-UHFFFAOYSA-N 1-o-methyl 2-o-(2-prop-2-enoyloxyethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C FLXWPFULSSRAJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBOXFQPJZTYNFM-UHFFFAOYSA-N 1-o-methyl 2-o-(2-prop-2-enoyloxyethyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1CCCCC1C(=O)OCCOC(=O)C=C BBOXFQPJZTYNFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDQRQJVPEFGVRK-UHFFFAOYSA-N 2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound C1=CC=CC2=NSN=C21 PDQRQJVPEFGVRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQGVRLYVSSROJJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-Methylenesuccinic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C(=C)C(O)=O PQGVRLYVSSROJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(dodecylsulfanylmethyl)-6-methylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCSCC1=CC(C)=C(O)C(CSCCCCCCCCCCCC)=C1 VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHAUBUMQRJWWAT-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenethiol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S)=C1 NHAUBUMQRJWWAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004959 2,6-naphthylene group Chemical group [H]C1=C([H])C2=C([H])C([*:1])=C([H])C([H])=C2C([H])=C1[*:2] 0.000 description 1
- BOSPHQRXWAPYSU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;methyl prop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C=C.OCCOCCO BOSPHQRXWAPYSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOARLESXCKBSKT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethanol methyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC.C(COCCOCCOCCO)O AOARLESXCKBSKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSRJVOOOWGXUDY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 QSRJVOOOWGXUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]ethylsulfanyl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCSCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPMSWJCWKUXRH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[9-[4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)phenyl]fluoren-9-yl]phenoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical class C1=CC(OCCOC(=O)C=C)=CC=C1C1(C=2C=CC(OCCOC(=O)C=C)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YCPMSWJCWKUXRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFMXKZGZSGFZES-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-sulfanylacetic acid Chemical class OC(=O)CS.OC(=O)CS.OC(=O)CS.CCC(CO)(CO)CO RFMXKZGZSGFZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPZFLZYXYGBAPL-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-methyl-1,3-dioxolane Chemical class CCC1(C)OCCO1 UPZFLZYXYGBAPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGZOGDWCOYSGJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenoxy]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1OC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 LYGZOGDWCOYSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVWBTVJBDFTVOW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropylperoxy)propane Chemical compound CC(C)COOCC(C)C TVWBTVJBDFTVOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAQDPWONDFRAHF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(2-methylpentan-2-ylperoxy)pentane Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(C)(C)CCC YAQDPWONDFRAHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- RWNISPVLLBWJBU-UHFFFAOYSA-N 2-sulfonyl-1h-pyridine Chemical compound O=S(=O)=C1C=CC=CN1 RWNISPVLLBWJBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GISWNRNUVGGVOS-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydroxybutan-2-yl prop-2-enoate Chemical class OCC(O)C(C)OC(=O)C=C GISWNRNUVGGVOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRJJOYCFCCGPX-UHFFFAOYSA-N 3-ethyloxetane Chemical compound CCC1COC1 CGRJJOYCFCCGPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enamide Chemical compound CC(C)=CC(N)=O WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWZOQAGVRGQLDV-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl)ethoxy]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1CCOC(=O)CCC(O)=O SWZOQAGVRGQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWQVDPOCTCRXHW-UHFFFAOYSA-N 4-[2-methyl-1-(2-methylsulfanylphenyl)propan-2-yl]morpholine Chemical compound CSC1=CC=CC=C1CC(C)(C)N1CCOCC1 LWQVDPOCTCRXHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOBHIPMYQAROLL-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-6-imidazol-1-ylpyrimidine Chemical compound C1=NC(Cl)=CC(N2C=NC=C2)=N1 BOBHIPMYQAROLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBVKVAIECGDBTC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylidenebutanamide Chemical compound NC(=O)C(=C)CCO SBVKVAIECGDBTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical group OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004861 4-isopropyl phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZWAPMFBHEQZLGK-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylamino)-2-methylidenepentanamide Chemical compound CN(C)CCCC(=C)C(N)=O ZWAPMFBHEQZLGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100026788 ATP synthase subunit C lysine N-methyltransferase Human genes 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQJZLAVOEOSBMH-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)OC.C(C)(=O)OOC(C)=O Chemical compound C(C)(=O)OC.C(C)(=O)OOC(C)=O SQJZLAVOEOSBMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTEBEHXYQSENAU-UHFFFAOYSA-N C(C1CO1)C(C(C(O)CC1CO1)O)O.C(COCCO)O Chemical compound C(C1CO1)C(C(C(O)CC1CO1)O)O.C(COCCO)O VTEBEHXYQSENAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATZVEMOEMBMNBW-UHFFFAOYSA-N C(CC)(=O)O.S1SSC=C1 Chemical compound C(CC)(=O)O.S1SSC=C1 ATZVEMOEMBMNBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXNICUVVDOTUPD-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)C1=CC=CC=C1 SXNICUVVDOTUPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULTREDCOZGRKGJ-UHFFFAOYSA-N CC1C2(CC3CC(CC1C3)C2)C.CC(C(=O)O)=C Chemical compound CC1C2(CC3CC(CC1C3)C2)C.CC(C(=O)O)=C ULTREDCOZGRKGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOEMSRWQFGPZQS-UHFFFAOYSA-N CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(CO)(CO)CO Chemical compound CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(CO)(CO)CO NOEMSRWQFGPZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100023033 Cyclic AMP-dependent transcription factor ATF-2 Human genes 0.000 description 1
- 208000005156 Dehydration Diseases 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSRJKNPTNIJEKV-UHFFFAOYSA-N Guaifenesin Chemical compound COC1=CC=CC=C1OCC(O)CO HSRJKNPTNIJEKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000833848 Homo sapiens ATP synthase subunit C lysine N-methyltransferase Proteins 0.000 description 1
- 101000974934 Homo sapiens Cyclic AMP-dependent transcription factor ATF-2 Proteins 0.000 description 1
- 101000997829 Homo sapiens Glial cell line-derived neurotrophic factor Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical class CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMEWLCATCRTSGF-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethyl-4-nitrosoaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N=O)C=C1 CMEWLCATCRTSGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical compound CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical class C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical class 0.000 description 1
- 125000005599 alkyl carboxylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001388 alpha-terpinene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910021502 aluminium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930014669 anthocyanidin Natural products 0.000 description 1
- 150000001452 anthocyanidin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000008758 anthocyanidins Nutrition 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N antipyrene Natural products C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N benzoic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2-butyl-2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]propanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)C(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)(CCCC)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical group CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNJTIWCTNEOSW-UHFFFAOYSA-N carbamothioylsulfanyl carbamodithioate Chemical compound NC(=S)SSC(N)=S CSNJTIWCTNEOSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001840 cholesterol esters Chemical class 0.000 description 1
- HVYWMOMLDIMFJA-DPAQBDIFSA-N cholesterol group Chemical group [C@@H]1(CC[C@H]2[C@@H]3CC=C4C[C@@H](O)CC[C@]4(C)[C@H]3CC[C@]12C)[C@H](C)CCCC(C)C HVYWMOMLDIMFJA-DPAQBDIFSA-N 0.000 description 1
- WCLNGBQPTVENHV-MKQVXYPISA-N cholesteryl nonanoate Chemical compound C([C@@H]12)C[C@]3(C)[C@@H]([C@H](C)CCCC(C)C)CC[C@H]3[C@@H]1CC=C1[C@]2(C)CC[C@H](OC(=O)CCCCCCCC)C1 WCLNGBQPTVENHV-MKQVXYPISA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N cumene hydroperoxide Chemical compound OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- FNIATMYXUPOJRW-UHFFFAOYSA-N cyclohexylidene Chemical group [C]1CCCCC1 FNIATMYXUPOJRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentenylidene Natural products C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N decane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCCCCCC(S)S WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N diazene Chemical class N=N RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRMJAFKKJLRDLE-UHFFFAOYSA-N dotarizine Chemical compound O1CCOC1(C=1C=CC=CC=1)CCCN(CC1)CCN1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LRMJAFKKJLRDLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- WCZHHZGITDJUQI-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;methyl prop-2-enoate Chemical compound OCCO.COC(=O)C=C WCZHHZGITDJUQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007046 ethoxylation reaction Methods 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- FATAVLOOLIRUNA-UHFFFAOYSA-N formylmethyl Chemical compound [CH2]C=O FATAVLOOLIRUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- JBFHTYHTHYHCDJ-UHFFFAOYSA-N gamma-caprolactone Chemical compound CCC1CCC(=O)O1 JBFHTYHTHYHCDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002268 gamma-terpinene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N heptane - octane Natural products CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORTRWBYBJVGVQC-UHFFFAOYSA-N hexadecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCS ORTRWBYBJVGVQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCC(S)S ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N hexylene glycol Natural products CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N limonene Chemical compound CC(=C)C1CCC(C)=CC1 XMGQYMWWDOXHJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 230000002535 lyotropic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- ZJTLZYDQJHKRMQ-UHFFFAOYSA-N menadiol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(C)=CC(O)=C21 ZJTLZYDQJHKRMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 description 1
- UNBDCVXGGDKSCP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylidenetetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(=C)C(=O)OC UNBDCVXGGDKSCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIJWDPRXCXJDPK-UHFFFAOYSA-N methyl 3-cyclopropyl-3-oxopropanoate Chemical compound COC(=O)CC(=O)C1CC1 RIJWDPRXCXJDPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- ZARXZEARBRXKMO-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(ethenyl)aniline Chemical compound C=CN(C=C)C1=CC=CC=C1 ZARXZEARBRXKMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAPHJTXTXCTDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-1-(4-methylphenyl)-2-[(4-morpholin-4-ylphenyl)methyl]butan-2-amine Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1CC(N(C)C)(CC)CC1=CC=C(C)C=C1 YAPHJTXTXCTDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 1
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- SZAQKMSBGFBBAA-UHFFFAOYSA-N nitroazaniumylidynemethane Chemical compound [O-][N+](=O)[N+]#[C-] SZAQKMSBGFBBAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBAUOPQYSQVYJV-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[4-hydroxy-3,5-di(propan-2-yl)phenyl]propanoate Chemical compound OC1=C(C=C(C=C1C(C)C)CCC(=O)OCCCCCCCC)C(C)C MBAUOPQYSQVYJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFDXODALSZRGIH-UHFFFAOYSA-N p-coumaric acid methyl ether Natural products COC1=CC=C(C=CC(O)=O)C=C1 AFDXODALSZRGIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 1
- 238000007699 photoisomerization reaction Methods 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical compound CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940080818 propionamide Drugs 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012222 talc Nutrition 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GEKDEMKPCKTKEC-UHFFFAOYSA-N tetradecane-1-thiol Chemical group CCCCCCCCCCCCCCS GEKDEMKPCKTKEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006177 thiolation reaction Methods 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- ZBZJXHCVGLJWFG-UHFFFAOYSA-N trichloromethyl(.) Chemical compound Cl[C](Cl)Cl ZBZJXHCVGLJWFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Abstract
本发明所要解决的课题是提供一种不仅在相对于膜的直角方向上而且在宽角度上防反射功能都优异的光学膜(相位差膜),同时,提供一种即使在暴露于高温状态后也持续维持其功能的光学膜,进一步提供使用了这些光学膜的椭圆偏光板、显示装置。发明提供一种光学膜,其为具有第一相位差层和第二相位差层的光学膜,第一相位差层由含有至少1种以上的满足下述(式1)的具有3个以上聚合性基团的化合物A以及至少1种以上的满足下述(式2)的化合物B的聚合性组合物的固化物形成,第二相位差层由含有至少1种以上的满足(式1)的化合物和/或满足(式2)的化合物B的聚合性组合物的固化物形成。
Description
技术领域
以往,关于由1片相位差板构成的1/4波长板,赋予1/4波长相位差的波长限定为特定的波长,因此当作为用于抑制显示器等的表面反射的防反射滤光器使用时,对于赋予1/4波长相位差的特定波长附近以外的波长,无法获得充分的防反射性能,有显示器等着色而可见蓝、紫、红等的视觉辨认性差的问题。
针对该问题,提出了将多个相位差板按照它们的光轴交叉的方式层叠而成的相位差板(专利文献1~3)。例如根据专利文献2,报道了当使用波长450nm处的相位差Re(450)与波长550nm处的相位差Re(550)之比即Re(450)/Re(550)所表示的相位差比来定义相位差板的波长特性时,在将一方相位差板的相位差比为1.16、另一方相位差板的相位差比为1.025的2片相位差板层叠而成的相位差板中,获得了良好的防反射性能。另外,根据专利文献3,报道了在将两方相位差板的相位差比为1.005的2片相位差板层叠而成的相位差板中,获得了良好的防反射性能。
然而,专利文献1~3的相位差板的任一者中,赋予1/4波长相位差的波长域的宽度均不足,另外,当在该相位差板上层叠偏光板而制成圆偏光板时,赋予优异的防反射性能的波长域的宽度也不足,因此,包含相位差板或者圆偏光板的显示器等的视觉辨认性的改善不够。具体而言,在倾斜地观察显示器等时,必然会产生无法完全防止的极少反射光,但这极少的反射光并不是没有色彩,存在着色而可见蓝、紫、红等的问题。该着色意味着观察者的周边环境、特别是荧光灯、太阳对显示器等着色为蓝、紫、红等并映入,从显示器等的视觉辨认性的观点考虑,是极为严重的问题。
进一步,专利文献1~3的任一者中,为了层叠膜厚为数十μm的拉伸膜,层叠的相位差板的厚度为150~200μm,在要求薄型化的显示器等中,经常有相位差板的厚度过厚的问题。
除此之外,专利文献1~3的任一者中,使用了慢轴被固定于拉伸方向的拉伸膜,因此在按照相位差板的慢轴与偏光板的透射轴交叉的方式将相位差板与偏光板层叠的工序中,有必须采用生产效率差的单张方式的问题。
另一方面,专利文献4中示出了作为宽带域的相位差板有用的使用了具有逆波长分散特性的化合物的相位差板。然而,仅使用该相位差板时,相对于倾斜入射的光,相位差的值会偏离,因此有视野角特性变差的问题。
需说明的是,在智能手机等所使用的显示器的情况下,大多要求高可靠性,要求高温放置后的光学特性几乎没有变化。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平10-68816号公报
专利文献2:日本特开平10-90521号公报
专利文献3:日本特开平11-52131号公报
专利文献4:日本特开2002-267838号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明所要解决的课题在于提供一种不仅在相对于膜的直角方向上而且在宽角度上防反射功能都优异的光学膜(相位差膜),同时,提供一种即使在暴露于高温状态后也持续维持其功能的光学膜,进一步提供使用了这些光学膜的椭圆偏光板、显示装置。
用于解决课题的手段
本发明为了解决上述课题而反复潜心研究,结果提供本发明。
即,本发明为一种光学膜,其为具有第一相位差层和第二相位差层的光学膜,第一相位差层由含有至少1种以上的满足下述(式1)的具有3个以上聚合性基团的化合物A以及至少1种以上的满足下述(式2)的化合物B的聚合性组合物的固化物形成,
第二相位差层由含有至少1种以上的满足下述(式1)的化合物和/或满足下述(式2)的化合物B的聚合性组合物的固化物形成,
Re(450)/Re(550)<1(式1)
Re(450)/Re(550)>1(式2)
(式中,Re(450)表示将所用的化合物制成膜时在波长450nm处的面内相位差,Re(550)表示将所用的化合物制成膜时在波长550nm处的面内相位差。)
并且,第一相位差层表现为nx>ny≒nz,第二相位差层表现为nx≒ny<nz(nz表示厚度方向的折射率,nx表示面内产生最大折射率的方向的折射率,ny表示面内相对于nx的方向正交的方向的折射率。)。
另外,同时还提供使用了该光学膜的椭圆偏光板、显示元件、有机发光显示元件。
发明效果
本发明的光学膜具有适于防反射功能的光学特性,因此能够抑制各种显示装置的表面反射,尤其是如果用于有机EL显示器,则能够得到优异的视觉辨认性。另外,即使暴露于高温状态也能维持其特性、功能,因此最适合于室外用途等的显示元件。
具体实施方式
以下针对根据本发明的光学膜的最佳方式进行说明。
本发明的光学膜提供一种光学膜,其为具有第一相位差层和第二相位差层的光学膜,第一相位差层由含有至少1种以上的满足下述(式1)的具有3个以上聚合性基团的化合物A以及至少1种以上的满足下述(式2)的化合物B的聚合性组合物的固化物形成,
第二相位差层由含有至少1种以上的满足下述(式1)的化合物和/或满足下述(式2)的化合物B的聚合性组合物的固化物形成,
Re(450)/Re(550)<1(式1)
Re(450)/Re(550)>1(式2)
(式中,Re(450)表示将所用的化合物制成膜时在波长450nm处的面内相位差,Re(550)表示将所用的化合物制成膜时在波长550nm处的面内相位差。)
并且,第一相位差层表现为nx>ny≒nz,第二相位差层表现为nx≒ny<nz(nz表示厚度方向的折射率,nx表示面内产生最大折射率的方向的折射率,ny表示面内相对于nx的方向正交的方向的折射率。)。
(化合物A)
本发明的光学膜中,作为第一相位差层,含有至少1种以上的满足下述(式1)的具有3个以上聚合性基团的化合物A。
Re(450)/Re(550)<1(式1)
(式中,Re(450)表示将所用的化合物制成膜时在波长450nm处的面内相位差,Re(550)表示将所用的化合物制成膜时在波长550nm处的面内相位差。)
前述化合物A优选使用通式(9)所表示的聚合性液晶化合物。需说明的是,本发明中,“液晶性化合物”想要表示的是具有介晶性骨架的化合物,化合物单独而言可以不显示液晶性。另外,聚合性的意思是能够通过紫外线等光照射或加热进行聚合处理从而发生聚合物化(膜化)。
[化1]
(通式(9)中,P91、P92各自独立地表示聚合性基团,
S91、S92各自独立地表示间隔基或者单键,S91、S92存在多个时它们各自可以相同也可以不同,
X91、X92各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X91、X92存在多个时它们各自可以相同也可以不同(其中,P91-(S91-X91)-以及P92-(S92-X92)-中不包含-O-O-键。),
m9、n9各自独立地表示0至5的整数,
MG91表示通式(a9),
[化2]
(通式(a9)中,A91、A92各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基或者1,3-二烷-2,5-二基,这些基团可未取代或被1个以上的L1取代,A91和/或A92出现多个时各自可以相同也可以不同,
通式(a9)中,Z91和Z92各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-、-N=CH-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,Z91和/或Z92出现多个时各自可以相同也可以不同,
通式(a9)中,M9表示选自下述的式(M-91)至式(M-101)的基团,
[化3]
这些基团可未取代或被1个以上的L1取代,
通式(a9)中,G9为下述的通式(G-91)至通式(G-95)。
[化4]
(式中,R93表示氢原子或碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,另外该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,进一步该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,
W91表示具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团,该基团可未取代或被1个以上的L1取代,
W92表示P93-(S93-X93)j93-所表示的基团,P93表示聚合性基团,S93表示间隔基或者单键,S93存在多个时它们可以相同也可以不同,X93表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X93存在多个时它们可以相同也可以不同(其中,P93-(S93-X93)j93-不包含-O-O-键。),j93表示0至10的整数,
W93表示卤原子、氰基、羟基、硝基、羧基、氨基甲酰氧基、氨基、氨磺酰基、具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团、碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至20的环烷基、碳原子数2至20的烯基、碳原子数3至20的环烯基、碳原子数1至20的烷氧基、碳原子数2至20的酰氧基、碳原子数2至20的或者烷基羰基氧基,前述烷基、环烷基、烯基、环烯基、烷氧基、酰氧基、烷基羰基氧基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,
其中,当上述M9选自式(M-91)~式(M-100)时G9选自式(G-91)~式(G-94),当M9为式(M-101)时G9表示式(G-95),M9和G9中的*表示连接部分,M9中的*以外的2个连接键分别与存在的Z91或者A91、存在的Z92或者A92连接,
L1表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基(ペンタフルオロスルフラニル基)、硝基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-的基团取代,化合物内L1存在多个时它们可以相同也可以不同,
j91、j92以及j93分别独立地表示1至5的整数,j91+j92表示2至6的整数。))
通式(9)中,聚合性基团P91以及P92各自独立地优选表示选自下述的式(P-1)至式(P-20)的基团,
[化5]
这些聚合性基团通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合和阴离子聚合来聚合。尤其是作为聚合方法而进行紫外线聚合时,优选式(P-1)、式(P-2)、式(P-3)、式(P-4)、式(P-5)、式(P-7)、式(P-11)、式(P-13)、式(P-15)或者式(P-18),更优选式(P-1)、式(P-2)、式(P-7)、式(P-11)或者式(P-13),进一步优选式(P-1)、式(P-2)或者式(P-3),特别优选式(P-1)或者式(P-2)。
通式(9)中,S91以及S92各自独立地表示间隔基或者单键,S91、S92存在多个时,它们可以相同也可以不同。另外,作为间隔基,优选表示1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-、-C≡C-或者下述的式(S-1)取代的碳原子数1至20的亚烷基。
[化6]
从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,S91以及S92更优选存在多个时各自可以相同也可以不同,且各自独立地表示1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-取代的碳原子数1至10的亚烷基或者单键,进一步优选各自独立地表示碳原子数1至10的亚烷基或者单键,特别优选存在多个时各自可以相同也可以不同并且各自独立地表示碳原子数1至8的亚烷基。
通式(9)中,X91以及X92各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X91以及X92存在多个时它们可以相同也可以不同(其中,P91-(S91-X91)-以及P92-(S92-X92)-中不包含-O-O-键。)。另外,从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,存在多个时各自可以相同也可以不同,X91以及X92各自独立地优选表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,各自独立地更优选表示-O-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,特别优选存在多个时各自可以相同也可以不同并且各自独立地表示-O-、-COO-、-OCO-或者单键。
通式(9)中,m9、n9各自独立地表示0至5的整数,从液晶性、原料的易获得性和易合成性的观点考虑,各自独立地优选表示0至4的整数,各自独立地更优选表示0至2的整数,各自独立地进一步优选表示0或者1,特别优选均表示1。
通式(a9)中,A91和A92各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基或者1,3-二烷-2,5-二基,这些基团可未取代或被1个以上的L1取代,A91和/或A92存在多个时各自可以相同也可以不同。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,A91和A92各自独立地优选表示可未取代或者被1个以上的L1取代的1,4-亚苯基、1,4-亚环己基或者萘-2,6-二基,各自独立地更优选表示选自下述的式(A-1)至式(A-11)的基团,
[化7]
各自独立地进一步优选表示选自式(A-1)至式(A-8)的基团,各自独立地特别优选表示选自式(A-1)至式(A-4)的基团。
通式(a9)中,Z91和Z92各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-OCO-NH-、-NH-COO-、-NH-CO-NH-、-NH-O-、-O-NH-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-、-N=CH-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,Z91和/或Z92存在多个时各自可以相同也可以不同。从化合物的液晶性、原料的易获得性和易合成性的观点考虑,Z91和Z92各自独立地优选表示单键、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CF2O-、-OCF2-、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-CH=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,各自独立地更优选表示-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-CH=CH-、-C≡C-或者单键,各自独立地进一步优选表示-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,各自独立地特别优选表示-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-COO-、-OCO-或者单键。
通式(a9)中,M9表示选自下述的式(M-91)至式(M-101)的基团,
[化8]
这些基团可未取代或被1个以上的L1取代。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,M9各自独立地优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的式(M-91)或者式(M-92)或未取代的式(M-93)至式(M-96)的基团,更优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的式(M-91)或者式(M-92)的基团,特别优选表示选自未取代的式(M-91)或者式(M-92)的基团。
通式(a9)中,G9表示选自通式(G-91)至通式(G-95)的基团。
[化9]
通式(G-91)至通式(G-95)中,R93表示氢原子或碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,另外该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,进一步该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,R93优选氢原子、或者碳原子数1至5的烷基,更优选氢原子。
通式(G-91)至通式(G-95)中,W91表示具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团,该基团可未取代或者被1个以上的L1取代。
通式(G-91)至通式(G-95)中,W91中所包含的芳香族基可以为芳香族烃基或者杂芳基,也可以包含这两者。这些芳香族基可以通过单键或者连接基(-OCO-、-COO-、-CO-、-O-)连接,也可以形成缩合环。另外,W91除了包含芳香族基以外,还可包含芳香族基以外的非环式结构和/或环式结构。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,W91中所包含的芳香族基优选选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-1)至式(W-19)所表示的基团。
[化10]
式(W-1)至式(W-19)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,形成将选自这些基团的2个以上的芳香族基以单键连接而成的基团,Q1表示-O-、-S-、-NR4-(式中,R4表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)或者-CO-。式(W-1)至式(W-19)中的芳香族基中的-CH=各自独立地可被-N=取代,-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-NR4-(式中,R4表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)或者-CO-取代,但不包含-O-O-键。
作为上述式(W-1)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-1-1)至式(W-1-8)的基团。
[化11]
上述式(W-1-1)至式(W-1-8)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键。
作为上述式(W-7)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-7-1)至式(W-7-7)的基团。
[化12]
上述式(W-7-1)至式(W-7-7)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键。
作为上述式(W-10)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-10-1)至式(W-10-8)的基团。
[化13]
上述式(W-10-1)至式(W-10-8)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。
作为上述式(W-11)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-11-1)至式(W-11-13)的基团。
[化14]
上述式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。
作为上述式(W-12)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-12-1)至式(W-12-19)的基团。
[化15]
上述式(W-12-1)至式(W-12-19)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。
作为上述式(W-13)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-13-1)至式(W-13-10)的基团。
[化16]
上述式(W-13-1)至式(W-13-10)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。
作为上述式(W-14)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-14-1)至式(W-14-4)的基团。
[化17]
上述式(W-14-1)至式(W-14-4)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。
作为上述式(W-15)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-15-1)至式(W-15-18)的基团。
[化18]
上述式(W-15-1)至式(W-15-18)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。
作为上述式(W-16)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-16-1)至式(W-16-4)的基团。
[化19]
上述式(W-16-1)至式(W-16-4)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。
作为上述式(W-17)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-17-1)至式(W-17-6)的基团。
[化20]
上述式(W-17-1)至式(W-17-6)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。
作为上述式(W-18)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-18-1)至式(W-18-6)的基团。
[化21]
上述式(W-18-1)至式(W-18-6)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。
作为上述式(W-19)所表示的基团,优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的下述式(W-19-1)至式(W-19-9)的基团。
[化22]
上述式(W-19-1)至式(W-19-9)中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。
W91中所包含的芳香族基更优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的上述式(W-1-1)、式(W-7-1)、式(W-7-2)、式(W-7-7)、式(W-8)、式(W-10-6)、式(W-10-7)、式(W-10-8)、式(W-11-8)、式(W-11-9)、式(W-11-10)、式(W-11-11)、式(W-11-12)或者式(W-11-13)的基团,特别优选表示选自可未取代或者被1个以上的L1取代的式(W-1-1)、式(W-7-1)、式(W-7-2)、式(W-7-7)、式(W-10-6)、式(W-10-7)或者式(W-10-8)的基团。进一步,W91特别优选表示选自下述的式(W-a-1)至式(W-a-6)的基团。
[化23]
上述式(W-a-1)至式(W-a-6)中,r表示0至5的整数,s表示0至4的整数,t表示0至3的整数。
需说明的是,前述W91进一步特别优选表示选自上述式(W-a-5)或者式(W-a-6)的基团,从波长分散特性、保存稳定性、液晶性和易合成性的观点考虑,前述W91中所包含的π电子的总数优选为4至24。
通式(G-91)至通式(G-95)中,W92表示P93-(S93-X93)j93-所表示的基团。
W92基中,P93表示聚合性基团,优选的聚合性基团优选表示选自下述的式(P-1)至式(P-20)的基团,
[化24]
这些聚合性基团通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合和阴离子聚合进行聚合。尤其是作为聚合方法而进行紫外线聚合时,优选式(P-1)、式(P-2)、式(P-3)、式(P-4)、式(P-5)、式(P-7)、式(P-11)、式(P-13)、式(P-15)或者式(P-18),更优选式(P-1)、式(P-2)、式(P-7)、式(P-11)或者式(P-13),进一步优选式(P-1)、式(P-2)或者式(P-3),特别优选式(P-1)或者式(P-2)。
W92基中,S93表示间隔基或者单键,S93存在多个时它们可以相同也可以不同。另外,作为间隔基,优选表示1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-、-C≡C-或者下述的式(S-1)取代的碳原子数1至20的亚烷基。
[化25]
从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,S93存在多个时各自可以相同也可以不同,各自独立地更优选表示1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-取代的碳原子数1至10的亚烷基或者单键,各自独立地进一步优选表示碳原子数1至10的亚烷基或者单键,存在多个时各自可以相同也可以不同且各自独立地特别优选表示碳原子数1至8的亚烷基。
W92基中,X93表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X93存在多个时它们可以相同也可以不同。另外,从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,存在多个时各自可以相同也可以不同,X93各自独立地优选表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,各自独立地更优选表示-O-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,存在多个时各自可以相同也可以不同且各自独立地特别优选表示-O-、-COO-、-OCO-或者单键。其中,P93-(S93-X93)j93-不包含-O-O-键。
W92基中,j93表示0至10的整数,j93优选表示0、1、2或者3,更优选1、2或者3。
W93表示卤原子、氰基、羟基、硝基、羧基、氨基甲酰氧基、氨基、氨磺酰基、具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团、碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至20的环烷基、碳原子数2至20的烯基、碳原子数3至20的环烯基、碳原子数1至20的烷氧基、碳原子数2至20的酰氧基、碳原子数2至20的或者烷基羰基氧基,前述烷基、环烷基、烯基、环烯基、烷氧基、酰氧基、烷基羰基氧基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代。W93更优选选自氰基、硝基、羧基、1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的烷基、烯基、酰氧基、烷基羰基氧基的基团,W93特别优选选自氰基、羧基、1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的烷基、烯基、酰氧基、烷基羰基氧基的基团。
前述通式(a9)中,L1表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或者1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,该烷基中的任意氢原子可被氟原子取代。从液晶性、易合成性的观点考虑,L1优选表示氟原子、氯原子、五氟硫烷基、硝基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、或者任意的氢原子可以被氟原子取代且1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-的基团取代的碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,L1更优选表示氟原子、氯原子、或者任意的氢原子可以被氟原子取代且1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被选自-O-、-COO-或者-OCO-的基团取代的碳原子数1至12的直链状或者分支状烷基,进一步优选表示氟原子、氯原子、或者任意的氢原子可被氟原子取代的碳原子数1至12的直链状或者分支状烷基或烷氧基,L1特别优选表示氟原子、氯原子、或者碳原子数1至8的直链烷基或直链烷氧基。
通式(9)中,连接于MG91的各个取代基与上述通式(a9)的A91、A92、M9和/或G9连接。
前述通式(a9)中,j91和j92各自独立地表示1至5的整数,j91+j92表示2至5的整数。从液晶性、易合成性和保存稳定性的观点考虑,j91和j92各自独立地优选表示1至4的整数,更优选表示1至3的整数,特别优选表示1或者2。j91+j92优选表示2至4的整数。
作为通式(9)所表示的化合物,具体而言,优选下述的式(9-a-1)至式(9-a-8)所表示的化合物。
[化26]
[化27]
(式中,n表示1~10的整数。)这些聚合性液晶化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
关于上述通式(9)所表示的聚合性液晶化合物的合计含量,相对于形成第一相位差层的聚合性组合物中使用的聚合性液晶化合物的总量,优选含有10~99质量%,更优选含有30~98质量%,特别优选含有50~97质量%。
(化合物B)
进一步,在本发明的光学膜的第一相位差层中,除了含有满足(式1)的具有3个以上聚合性基团的化合物A,还含有满足下述(式2)的化合物B。
Re(450)/Re(550)>1(式2)
(式中,Re(450)表示将所用的化合物制成膜时在波长450nm处的面内相位差,Re(550)表示将所用的化合物制成膜时在波长550nm处的面内相位差。)
另外,本发明的光学膜的第二相位差层中也可含有该化合物B。
作为该化合物B,可列举通式(1-b)、和/或通式(2-b)所表示的聚合性液晶化合物。第一相位差层中使用的由化合物B表示的聚合性液晶化合物的合计含量相对于形成第一相位差层的聚合性组合物中使用的聚合性液晶化合物的总量优选含有1~90质量%,更优选含有2~70质量%,特别优选含有3~50质量%。
[化28]
通式(1-b)~通式(2-b)中,P011、P021以及P022各自独立地表示聚合性基团,各自独立地优选表示选自下述的式(P-1)至式(P-20)的基团,
[化29]
这些聚合性基团通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合和阴离子聚合进行聚合。尤其是作为聚合方法而进行紫外线聚合时,优选式(P-1)、式(P-2)、式(P-3)、式(P-4)、式(P-5)、式(P-7)、式(P-11)、式(P-13)、式(P-15)或者式(P-18),更优选式(P-1)、式(P-2)、式(P-7)、式(P-11)或者式(P-13),进一步优选式(P-1)、式(P-2)或者式(P-3),特别优选式(P-1)或者式(P-2)。
通式(1-b)~通式(2-b)中,S011、S021以及S022各自独立地表示间隔基或者单键,S011、S021以及S022存在多个时它们可以相同也可以不同。另外,作为间隔基,优选表示1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-、-C≡C-或者下述的式(S-1)取代的碳原子数1至20的亚烷基。
[化30]
从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,S011、S021以及S022存在多个时各自可以相同也可以不同,各自独立地更优选表示1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-取代的碳原子数1至10的亚烷基或者单键,各自独立地进一步优选表示碳原子数1至10的亚烷基或者单键,存在多个时各自可以相同也可以不同且各自独立地特别优选表示碳原子数1至8的亚烷基。
通式(1-b)~通式(2-b)中,X011、X021以及X022各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X011、X021、以及X022存在多个时它们可以相同也可以不同。(其中,各P-(S-X)-键不含-O-O-。)另外,从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,存在多个时各自可以相同也可以不同,X011、X021以及X022各自独立地优选表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,各自独立地更优选表示-O-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,存在多个时各自可以相同也可以不同且各自独立地特别优选表示-O-、-COO-、-OCO-或者单键。
通式(1-b)~通式(2-b)中,m11表示0~8的整数,从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,m11优选1~3,更优选1。
通式(1-b)~通式(2-b)中,m02、n02各自独立地表示0至5的整数,从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,m02、n02各自独立地优选1~3,更优选1。
通式(1-b)~通式(2-b)中,R011表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,R011优选碳原子数1至20的直链烷基(该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-取代)、或者氰基,R011更优选碳原子数1至8的直链烷基(该烷基中的1个-CH2-可被-O-取代)。
通式(1-b)~通式(2-b)中,MG011~MG021各自独立地表示式(b)。
[化31]
式(b)中,A83、A84各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基或者1,3-二烷-2,5-二基,这些基团可未取代或被1个以上的L2取代,A83和/或A84存在多个时各自可以相同也可以不同。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,A83、A84各自独立地优选1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、或者萘-2,6-二基(这些基团可未取代或被1个以上的L2取代)。
式(b)中,Z83和Z84各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-、-N=CH-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,Z83和/或Z84出现多个时各自可以相同也可以不同。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,Z83和Z84各自独立地优选-COO-、-OCO-、或者单键。
式(b)中,M81表示选自1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、1,4-环己烯基、四氢吡喃-2,5-二基、1,3-二烷-2,5-二基、四氢噻喃-2,5-二基、1,4-二环(2,2,2)亚辛基、十氢萘-2,6-二基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡嗪-2,5-二基、噻吩-2,5-二基-、1,2,3,4-四氢萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、萘-1,5-二基、萘-1,6-二基、萘-2,6-二基、菲-2,7-二基、9,10-二氢菲-2,7-二基、1,2,3,4,4a,9,10a-八氢菲-2,7-二基、苯并[1,2-b:4,5-b‘]二噻吩-2,6-二基、苯并[1,2-b:4,5-b‘]二硒吩-2,6-二基、[1]苯并噻吩并[3,2-b]噻吩-2,7-二基、[1]苯并硒吩并[3,2-b]硒吩-2,7-二基、或者芴-2,7-二基的基团,这些基团可未取代或被1个以上的L2取代。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,M81各自独立地优选1,4-亚苯基或者1,4-亚环己基(这些基团可未取代或被1个以上的L2取代)。
式(b)中,L2表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,任意的氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-的基团取代,化合物内L2存在多个时它们可以相同也可以不同。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,L2各自独立地优选氟原子、亚甲基、甲氧基。
式(b)中,j83和j84各自独立地表示0至5的整数,j83+j84表示1至5的整数。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,j83和j84各自独立地优选为0或者1。
作为上述通式(1-b)所表示的化合物,具体而言,可列举下述的式(1-b-1)至式(1-b-39)所表示的化合物。
[化32]
[化33]
[化34]
[化35]
[化36]
(式中,m11、n11分别独立地表示1~10的整数,R111和R112分别独立地表示氢原子、碳原子数1~10的烷基、或者氟原子,R113表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或者1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,该烷基中的任意氢原子可被氟原子取代。)这些聚合性液晶化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
作为通式(2-b)所表示的化合物,具体而言,可列举下述的式(2-b-1)至式(2-b-34)所表示的化合物。
[化37]
[化38]
[化39]
[化40]
[化41]
[化42]
(式中,m和n分别独立地表示1~18的整数,R表示氢原子、卤原子、碳数1~6的烷基、碳数1~6的烷氧基、氰基。这些基团为碳数1~6的烷基、或碳数1~6的烷氧基时,全部为未取代、或可被1个或2个以上的卤原子取代。)这些聚合性液晶化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
使用上述通式(1-b)、和/或(2-b)所表示的化合物作为第一相位差层中使用的由化合物B表示的聚合性液晶化合物时,上述通式(1-b)、和/或(2-b)所表示的化合物的使用合计含量相对于形成第一相位差层的聚合性组合物中使用的聚合性液晶化合物的总量优选含有1~90质量%,更优选含有2~70质量%,特别优选含有3~50质量%。
另外,使用上述通式(1-b)、和/或(2-b)所表示的化合物作为第二相位差层中使用的由化合物B表示的聚合性液晶化合物时,上述通式(1-b)、和/或(2-b)所表示的化合物的使用合计含量相对于形成第一相位差层的聚合性组合物中使用的聚合性液晶化合物的总量优选含有0~100质量%,更优选含有50~100质量%,特别优选含有90~100质量%。
(其他聚合性液晶化合物)
本发明的光学膜的第1相位差层中,除了含有上述化合物A、化合物B以外,还可以含有选自下述通式(1)~(7)所表示的聚合性化合物的至少1种以上的聚合性化合物。
另外,本发明的光学膜的第2相位差层中,作为满足上述(式1)的聚合性化合物,也可含有选自下述通式(1)~(7)所表示的聚合性化合物的至少1种以上的聚合性化合物。
[化43]
(通式(1)~(7)中,P11~P74表示聚合性基团,
S11~S72表示间隔基或者单键,S11~S72存在多个时它们各自可以相同也可以不同,
X11~X72表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X11~X72存在多个时它们各自可以相同也可以不同(其中,各P-(S-X)-键不含-O-O-。),
MG11~MG71各自独立地表示式(a),
[化44]
(式中,
A11、A12各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基或者1,3-二烷-2,5-二基,这些基团可未取代或被1个以上的L3取代,A11和/或A12存在多个时各自可以相同也可以不同,
Z11和Z12各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-、-N=CH-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,Z11和/或Z12出现多个时各自可以相同也可以不同,
M表示选自下述的式(M-1)至式(M-11)的基团,
[化45]
这些基团可未取代或被1个以上的L3取代,
G为下述的式(G-1)至式(G-6)。
[化46]
(式中,R3表示氢原子或碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,
W81表示具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团,该基团可未取代或被1个以上的L3取代,
W82表示氢原子或碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-取代,或者W82也可表示与W81同样的含义,另外,W81和W82可以互相连接而形成同一环结构,
W83和W84分别独立地表示卤原子、氰基、羟基、硝基、羧基、氨基甲酰氧基、氨基、氨磺酰基、具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团、碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至20的环烷基、碳原子数2至20的烯基、碳原子数3至20的环烯基、碳原子数1至20的烷氧基、碳原子数2至20的酰氧基、碳原子数2至20的或者烷基羰基氧基,前述烷基、环烷基、烯基、环烯基、烷氧基、酰氧基、烷基羰基氧基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,其中,当上述M选自式(M-1)~式(M-10)时G选自式(G-1)~式(G-5),当M为式(M-11)时G表示式(G-6),
L3表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,任意的氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-的基团取代,化合物内L3存在多个时它们可以相同也可以不同,
j11表示1至5的整数,j12表示1~5的整数,j11+j12表示2至5的整数。),R11和R31表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,m11表示0~8的整数,m2~m7、n2~n7、l4~l6、k6各自独立地表示0至5的整数。)
通式(1)至通式(7)中,聚合性基团P11~P74优选表示选自下述的式(P-1)至式(P-20)的基团,
[化47]
这些聚合性基团通过自由基聚合、自由基加成聚合、阳离子聚合和阴离子聚合进行聚合。尤其是作为聚合方法而进行紫外线聚合时,优选式(P-1)、式(P-2)、式(P-3)、式(P-4)、式(P-5)、式(P-7)、式(P-11)、式(P-13)、式(P-15)或者式(P-18),更优选式(P-1)、式(P-2)、式(P-7)、式(P-11)或者式(P-13),进一步优选式(P-1)、式(P-2)或者式(P-3),特别优选式(P-1)或者式(P-2)。
通式(1)至通式(7)中,S11~S72表示间隔基或者单键,S11~S72存在多个时,它们可以相同也可以不同。另外,作为间隔基,优选表示1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-、-C≡C-或者下述的式(S-1)取代的碳原子数1至20的亚烷基。
[化48]
从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,S存在多个时各自可以相同也可以不同,各自独立地更优选表示1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-取代的碳原子数1至10的亚烷基或者单键,各自独立地进一步优选表示碳原子数1至10的亚烷基或者单键,存在多个时各自可以相同也可以不同且各自独立地特别优选表示碳原子数1至8的亚烷基。
通式(1)至通式(7)中,X11~X72表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X11~X72存在多个时它们可以相同也可以不同(其中,P-(S-X)-键不含-O-O-。)。另外,从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,存在多个时各自可以相同也可以不同,各自独立地优选表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,各自独立地更优选表示-O-、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,存在多个时各自可以相同也可以不同且各自独立地特别优选表示-O-、-COO-、-OCO-或者单键。
上述式(a)中,A11和A12各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基或者1,3-二烷-2,5-二基,这些基团可未取代或被1个以上的L取代,A11和/或A12出现多个时各自可以相同也可以不同。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,A11和A12各自独立地优选表示可未取代或者被1个以上的L3取代的1,4-亚苯基、1,4-亚环己基或者萘-2,6-二基,各自独立地更优选表示选自下述的式(A-1)至式(A-11)的基团,
[化49]
各自独立地进一步优选表示选自式(A-1)至式(A-8)的基团,各自独立地特别优选表示选自式(A-1)至式(A-4)的基团。
上述式(a)中,Z11和Z12各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-OCO-NH-、-NH-COO-、-NH-CO-NH-、-NH-O-、-O-NH-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-、-N=CH-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,Z11和/或Z12出现多个时各自可以相同也可以不同。从化合物的液晶性、原料的易获得性和易合成性的观点考虑,Z11和Z12各自独立地优选表示单键、-OCH2-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CF2O-、-OCF2-、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-CH=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,各自独立地更优选表示-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-CH=CH-、-C≡C-或者单键,各自独立地进一步优选表示-CH2CH2-、-COO-、-OCO-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-或者单键,各自独立地特别优选表示-CH2CH2-、-COO-、-OCO-或者单键。
上述式(a)中,M表示选自下述的式(M-1)至式(M-11)的基团,
[化50]
这些基团可未取代或被1个以上的L3取代。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,M各自独立地优选表示选自可未取代或者被1个以上的L3取代的式(M-1)或者式(M-2)或未取代的式(M-3)至式(M-6)的基团,更优选表示选自可未取代或者被1个以上的L3取代的式(M-1)或者式(M-2)的基团,特别优选表示选自未取代的式(M-1)或者式(M-2)的基团。
通式(1)至通式(7)中,R11和R31各自独立地表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或者1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,该烷基中的任意氢原子可被氟原子取代。从液晶性和易合成性的观点考虑,R11和R31各自独立地优选表示氢原子、氟原子、氯原子、氰基、或1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-取代的碳原子数1至12的直链或者分支烷基,更优选表示氢原子、氟原子、氯原子、氰基、或碳原子数1至12的直链烷基或者直链烷氧基,特别优选表示碳原子数1至12的直链烷基或者直链烷氧基。
上述式(a)中,G表示选自式(G-1)至式(G-6)的基团。
[化51]
其中,当上述M选自式(M-1)~式(M-10)时G选自式(G-1)~式(G-5),当M为式(M-11)时G表示式(G-6),M和G中的*表示连接部分,M中的*以外的2个连接键分别与存在的Z11或者A11、存在的Z12或者A12连接。
式(G-1)至式(G-6)中,R3表示氢原子或碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代。
式(G-1)至式(G-6)中,W81表示具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团,该基团可未取代或者被1个以上的L3取代。
式(G-1)至式(G-6)中,W82表示氢原子、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-取代,或W82也可以表示与W81同样的含义,另外,W81和W82可以一起形成环结构。
式(G-1)至式(G-6)中,W81中所包含的芳香族基可以是芳香族烃基或者杂芳基,也可以包含这两者。这些芳香族基可以通过单键或者连接基(-OCO-、-COO-、-CO-、-O-)连接,也可以形成缩合环。另外,W81除了包含芳香族基以外,还可以包含芳香族基以外的非环式结构和/或环式结构。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,W81中所包含的芳香族基为未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-1)至式(W-19)。
[化52]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,形成将选自这些基团的2个以上芳香族基以单键连接而成的基团,Q1表示-O-、-S-、-NR4-(式中,R4表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)或者-CO-。这些芳香族基中的-CH=各自独立地可被-N=取代,-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-NR4-(式中,R4表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)或者-CO-取代,但不含-O-O-键。
作为式(W-1)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-1-1)至式(W-1-8)的基团。
[化53]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键。)
作为式(W-7)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-7-1)至式(W-7-7)的基团。
[化54]
(式中,这些基团可以在任意的至少1个以上的位置具有连接键。)
作为式(W-10)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-10-1)至式(W-10-8)的基团。
[化55]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)
作为式(W-11)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-11-1)至式(W-11-13)的基团。
[化56]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)
作为式(W-12)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-12-1)至式(W-12-19)的基团。
[化57]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。)
作为式(W-13)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-13-1)至式(W-13-10)的基团。
[化58]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。)
作为式(W-14)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-14-1)至式(W-14-4)的基团。
[化59]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)
作为式(W-15)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-15-1)至式(W-15-18)的基团。
[化60]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)
作为式(W-16)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-16-1)至式(W-16-4)的基团。
[化61]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)
作为式(W-17)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-17-1)至式(W-17-6)的基团。
[化62]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)
作为式(W-18)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-18-1)至式(W-18-6)的基团。
[化63]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。)
作为式(W-19)所表示的基团,优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-19-1)至式(W-19-9)的基团。
[化64]
(式中,这些基团可以在任意的位置具有至少1个以上的连接键,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。)
W81中所包含的芳香族基更优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的式(W-1-1)、式(W-7-1)、式(W-7-2)、式(W-7-7)、式(W-8)、式(W-10-6)、式(W-10-7)、式(W-10-8)、式(W-11-8)、式(W-11-9)、式(W-11-10)、式(W-11-11)、式(W-11-12)或者式(W-11-13)的基团,特别优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的式(W-1-1)、式(W-7-1)、式(W-7-2)、式(W-7-7)、式(W-10-6)、式(W-10-7)或者式(W-10-8)的基团。
进一步,W81优选表示选自下述的式(W-a-1)至式(W-a-6)的基团。
[化65]
(式中,r表示0至5的整数,s表示0至4的整数,t表示0至3的整数。)
W82表示氢原子、或者1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,或W82也可以表示与W81同样的含义,另外,W81和W82可以一起形成环结构。从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,W82优选表示氢原子、或任意的氢原子可以被氟原子取代且1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,更优选表示氢原子、或碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,特别优选表示氢原子、或碳原子数1至12的直链状烷基。另外,W82表示与W81同样的含义时,W82可以与W81相同也可以不同,关于优选的基团,与针对W81的记载同样。
另外,W81和W82一起形成环结构时,-NW81W82所表示的环状基优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-b-1)至式(W-b-42)的基团。
[化66]
[化67]
(式中,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基。)
另外,W81和W82一起形成环结构时,从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,-NW81W82所表示的环状基特别优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的式(W-b-20)、式(W-b-21)、式(W-b-22)、式(W-b-23)、式(W-b-24)、式(W-b-25)或者式(W-b-33)的基团。
另外,W81和W82一起形成环结构时,=CW81W82所表示的环状基优选表示选自未取代或者可被1个以上的L3取代的下述式(W-c-1)至式(W-c-81)的基团。
[化68]
[化69]
[化70]
(式中,R6表示氢原子或者碳原子数1至8的烷基,R6存在多个时分别可以相同也可以不同。)
另外,W81和W82一起形成环结构时,从原料的易获得性和易合成性的观点考虑,=CW81W82所表示的环状基特别优选表示选自未取代或者可被1个以上的L取代的式(W-c-11)、式(W-c-12)、式(W-c-13)、式(W-c-14)、式(W-c-53)、式(W-c-54)、式(W-c-55)、式(W-c-56)、式(W-c-57)或者式(W-c-78)的基团。
从波长分散特性、保存稳定性、液晶性和易合成性的观点考虑,W81和W82中所包含的π电子的总数优选为4至24。
W83、W84分别独立地表示卤原子、氰基、羟基、硝基、羧基、氨基甲酰氧基、氨基、氨磺酰基、具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团、碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至20的环烷基、碳原子数2至20的烯基、碳原子数3至20的环烯基、碳原子数1至20的烷氧基、碳原子数2至20的酰氧基、碳原子数2至20的或者烷基羰基氧基,前述烷基、环烷基、烯基、环烯基、烷氧基、酰氧基、烷基羰基氧基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,W83更优选选自氰基、硝基、羧基、1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的烷基、烯基、酰氧基、烷基羰基氧基的基团,特别优选选自氰基、羧基、1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的烷基、烯基、酰氧基、烷基羰基氧基的基团,W84更优选选自氰基、硝基、羧基、1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的烷基、烯基、酰氧基、烷基羰基氧基的基团,特别优选选自氰基、羧基、1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的烷基、烯基、酰氧基、烷基羰基氧基的基团。
L3表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或者1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-取代的碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,该烷基中的任意氢原子可被氟原子取代。从液晶性、易合成性的观点考虑,L3优选表示氟原子、氯原子、五氟硫烷基、硝基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、或者任意的氢原子可以被氟原子取代且1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-CO-O-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-的基团取代的碳原子数1至20的直链状或者分支状烷基,L3更优选表示氟原子、氯原子、或者任意的氢原子可以被氟原子取代且1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可被选自-O-、-COO-或者-OCO-的基团取代的碳原子数1至12的直链状或者分支状烷基,L3进一步优选表示氟原子、氯原子、或者任意的氢原子可被氟原子取代的碳原子数1至12的直链状或者分支状烷基或烷氧基,L3特别优选表示氟原子、氯原子、或者碳原子数1至8的直链烷基或直链烷氧基。
通式(1)中,m11表示0至8的整数,从液晶性、原料的易获得性和易合成性的观点考虑,优选表示0至4的整数,更优选表示0至2的整数,进一步优选表示0或者1,特别优选表示1。
通式(2)至通式(7)中,m2~m7各自独立地表示0至5的整数,从液晶性、原料的易获得性和易合成性的观点考虑,优选表示0至4的整数,更优选表示0至2的整数,进一步优选表示0或者1,特别优选表示1。
通式(a)中,j11和j12各自独立地表示1至5的整数,j11+j12表示2至5的整数。从液晶性、易合成性和保存稳定性的观点考虑,j11和j12各自独立地优选表示1至4的整数,更优选表示1至3的整数,特别优选表示1或者2。j11+j12优选表示2至4的整数。
作为通式(1)所表示的化合物,具体而言,优选下述的式(1-a-1)至式(1-a-88)所表示的化合物。
[化71]
[化72]
[化73]
[化74]
[化75]
[化76]
[化77]
[化78]
[化79]
[化80]
[化81]
[化82]
[化83]
[化84]
[化85]
[化86]
[化87]
[化88]
这些液晶性化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
作为通式(2)所表示的化合物,具体而言,优选下述的式(2-a-1)至式(2-a-45)所表示的化合物。
[化89]
[化90]
[化91]
[化92]
[化93]
[化94]
[化95]
[化96]
[化97]
[化98]
(式中,n表示1~10的整数。)这些液晶性化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
作为通式(3)所表示的化合物,具体而言,优选下述的式(3-a-1)至式(3-a-17)所表示的化合物。
[化99]
[化100]
[化101]
[化102]
这些液晶性化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
作为通式(4)所表示的化合物,具体而言,优选下述的式(4-a-1)至式(4-a-26)所表示的化合物。
[化103]
[化104]
[化105]
[化106]
[化107]
[化108]
[化109]
(式中,m和n分别独立地表示1~10的整数。)这些液晶性化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
作为通式(5)所表示的化合物,具体而言,优选下述的式(5-a-1)至式(5-a-29)所表示的化合物。
[化110]
[化111]
[化112]
[化113]
[化114]
[化115]
[化116]
[化117]
[化118]
(式中,n表示碳原子数1~10。)这些液晶性化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
作为通式(6)所表示的化合物,具体而言,优选下述的式(6-a-1)至式(6-a-25)所表示的化合物。
[化119]
[化120]
[化121]
[化122]
[化123]
[化124]
(式中,k、l、m和n分别独立地表示碳原子数1~10。)这些液晶性化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
作为通式(7)所表示的化合物,具体而言,优选下述的式(7-a-1)至式(7-a-26)所表示的化合物。
[化125]
[化126]
[化127]
[化128]
[化129]
[化130]
[化131]
这些液晶性化合物可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
(第2相位差层)
第2相位差层为表现出nx≒ny<nz(nz表示厚度方向的折射率,nx表示面内产生最大折射率的方向的折射率,ny表示面内相对于nx的方向正交的方向的折射率。)的光学膜,该第2相位差层由使用了前述的满足上述(式1)的通式(1)~通式(7)所表示的化合物中的1种以上、和/或使用了满足上述(式2)的通式(1-b)和/或通式(2-b)所表示的化合物B中的1种以上的聚合性组合物形成。从成本的观点考虑,第2相位差层优选由仅使用了1种以上的满足上述(式2)的通式(1-b)和/或通式(2-b)所表示的化合物B的聚合性组合物形成。
(手性化合物)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,以得到手性向列相为目的,也可以含有手性化合物。关于前述手性化合物,其自身并非必须表现液晶性,另外,可以具有也可以不具有聚合性基团。另外,手性化合物的螺旋朝向可以根据聚合物的使用用途而适宜选择。
作为具有聚合性基团的手性化合物,没有特别限制,可以使用公知惯用的手性化合物,优选螺旋扭曲力(HTP)大的手性化合物。另外,聚合性基团优选为乙烯基、乙烯基氧基、烯丙基、烯丙基氧基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油基、氧杂环丁基,特别优选丙烯酰氧基、缩水甘油基、氧杂环丁基。
手性化合物的配合量需要根据化合物的螺旋诱导力而适宜调整,相对于具有聚合性基团的液晶性化合物和手性化合物的总量,优选含有0.1~5.0质量%,更优选含有0.2~3.0质量%,特别优选含有0.5~2.0质量%。
作为手性化合物的具体例,可列举下述通式(10-1)~式(10-4)所表示的化合物,但不限定于下述通式。
[化132]
上述式中,Sp5a、Sp5b分别独立地表示碳原子数0~18的亚烷基,该亚烷基可以被1个以上的卤原子、CN基、或者具有聚合性官能团的碳原子数1~8的烷基取代,该基团中存在的1个CH2基或者不邻接的2个以上的CH2基分别相互独立地可以以氧原子相互不直接连接的方式被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或者-C≡C-取代,
A1、A2、A3、A4、A5和A6分别独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、1,4-环己烯基、四氢吡喃-2,5-二基、1,3-二烷-2,5-二基、四氢噻喃-2,5-二基、1,4-二环(2,2,2)亚辛基、十氢萘-2,6-二基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡嗪-2,5-二基、噻吩-2,5-二基-、1,2,3,4-四氢萘-2,6-二基、2,6-亚萘基、菲-2,7-二基、9,10-二氢菲-2,7-二基、1,2,3,4,4a,9,10a-八氢菲-2,7-二基、1,4-亚萘基、苯并[1,2-b:4,5-b‘]二噻吩-2,6-二基、苯并[1,2-b:4,5-b‘]二硒吩-2,6-二基、[1]苯并噻吩并[3,2-b]噻吩-2,7-二基、[1]苯并硒吩并[3,2-b]硒吩-2,7-二基、或者芴-2,7-二基,n、l和k分别独立地表示0或者1,0≦n+l+k≦3,
m5表示0或者1,
Z0、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5和Z6分别独立地表示-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CONH-、-NHCO-、碳数2~10的可具有卤原子的烷基或者单键,
R5a和R5b表示氢原子、卤原子、氰基或者碳原子数1~18的烷基,该烷基可以被1个以上的卤原子或者CN取代,该基团中存在的1个CH2基或者不邻接的2个以上的CH2基分别相互独立地可以以氧原子相互不直接连接的方式被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或者-C≡C-取代,或R5a和R5b为通式(10-a)。
[化133]
-P5a (10-a)
(式中,P5a表示聚合性官能团,Sp5a表示与Sp1相同的含义。)
P5a表示选自下述的式(P-1)至式(P-20)所表示的聚合性基团的取代基。
[化134]
作为上述手性化合物的进一步具体的例子,可列举下述通式(10-5)~式(10-35)所表示的化合物。
[化135]
[化136]
[化137]
[化138]
[化139]
[化140]
[化141]
上述式中,m、n分别独立地表示1~10的整数,R表示氢原子、碳原子数1~10的烷基、或者氟原子,当R存在多个时,分别可以相同也可以不同。
作为不具有聚合性基团的手性化合物,具体而言,例如具有胆固醇基作为手性基的胆固醇壬酸酯、胆固醇硬脂酸酯、具有2-甲基丁基作为手性基的B.D.H.公司制的“CB-15”、“C-15”、默克公司制的“S-1011”、“S-1082”、Chisso公司制的“CM-19”、“CM-20”、“CM”、具有1-甲基庚基作为手性基的默克公司制的“S-811”、Chisso公司制的“CM-21”、“CM-22”等。
添加手性化合物的情况下,根据聚合性组合物的聚合物的用途添加,优选添加所得的聚合物的厚度(d)除以聚合物中的螺距(P)而得到的值(d/P)成为0.1~100的范围的量,进一步优选成为0.1~20的范围的量。
(聚合引发剂)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,可以根据需要含有引发剂。聚合性组合物中所使用的聚合引发剂是为了使本发明中所用的聚合性组合物聚合而使用。作为通过光照射进行聚合时使用的光聚合引发剂,没有特别限定,可以以不阻碍聚合性组合物中的聚合性化合物的取向状态的程度使用公知惯用的光聚合引发剂。
可以使用例如1-羟基环己基苯酮“Irgacure 184”、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮“Darocur 1116”、2-甲基-1-[(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙烷-1“Irgacure907”、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮“Irgacure 651”、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮“Irgacure 369”)、2-二甲基氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉代-苯基)丁烷-1-酮“Irgacure 379”、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-二苯基氧化膦“Lucirin TPO”、2,4,6-三甲基苯甲酰基-苯基-氧化膦“Irgacure819”、1,2-辛烷二酮,1-[4-(苯硫基)-,2-(O-苯甲酰基肟)],乙酮“Irgacure OXE01”)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙酰基肟)“Irgacure OXE02”(以上为BASF株式会社制。)、2,4-二乙基噻吨酮(日本化药公司制“Kayacure DETX”)和对二甲基氨基安息香酸乙酯(日本化药公司制“Kayacure EPA”)的混合物、异丙基噻吨酮(WardBlenkinsop公司制“QUANTACURE-ITX”)与对二甲基氨基安息香酸乙酯的混合物、“EsacureONE”、“Esacure KIP150”、“Esacure KIP160”、“Esacure 1001M”、“Esacure A198”、“Esacure KIP IT”、“Esacure KTO46”、“Esacure TZT”(lamberti株式会社制)、
LAMBSON公司的“Speedcure BMS”、“Speedcure PBZ”、“BENZOPHENONE”等。进一步,作为光阳离子引发剂,可使用光产酸剂。作为光产酸剂,可列举重氮二砜系化合物、三苯基锍系化合物、苯砜系化合物、磺酰吡啶系化合物、三嗪系化合物和二苯基碘化合物等。
相对于聚合性组合物中所包含的聚合性化合物的总量,光聚合引发剂的含有率优选0.1~10质量%,特别优选1~6质量%。它们可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
另外,作为热聚合时使用的热聚合引发剂,可以使用公知惯用的热聚合引发剂,例如可以使用过氧化乙酰乙酸甲酯、过氧化氢异丙苯、过氧化苯甲酰、双(4-叔丁基环己基)过氧化二碳酸酯、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化甲基乙基酮、1,1-双(叔己基过氧化)3,3,5-三甲基环己烷、对戊基过氧化氢、叔丁基过氧化氢、过氧化二异丙苯、异丁基过氧化物、二(3-甲基-3-甲氧基丁基)过氧化二碳酸酯、1,1-双(叔丁基过氧化)环己烷等有机过氧化物、2,2’-偶氮双异丁腈、2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)等偶氮腈化合物、2,2’-偶氮双(2-甲基-N-苯基丙脒)二盐酸盐等偶氮脒化合物、2,2’偶氮双{2-甲基-N-[1,1-双(羟基甲基)-2-羟基乙基]丙酰胺}等偶氮酰胺化合物、2,2’偶氮双(2,4,4-三甲基戊烷)等烷基偶氮化合物等。热聚合引发剂的含量优选0.1~10质量,特别优选1~6质量%。它们可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
(阻聚剂)
在用于制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜的聚合性组合物中,可以含有阻聚剂。聚合性组合物通过使用该阻聚剂,能够在高温时作为聚合性组合物保存的情况下,抑制不必要的聚合,确保保存稳定性。另外,制成光学膜时,能够对涂膜赋予耐热性,因此能够充分确保耐久性。
前述阻聚剂优选为苯酚系阻聚剂。
作为前述苯酚系阻聚剂,优选氢醌、甲氧基苯酚、甲基氢醌、叔丁基氢醌、叔丁基邻苯二酚中的任一者。
相对于聚合性组合物中所包含的聚合性化合物的总量,阻聚剂的含有率优选0.01~1质量%,特别优选0.01~0.5质量%。它们可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
将前述阻聚剂溶解于聚合性组合物中时,优选在将聚合性化合物在有机溶剂中加热搅拌从而溶解的阶段同时进行溶解。另外,也可以在将聚合性化合物在有机溶剂中加热搅拌从而使其溶解后,进一步添加于聚合性组合物中使其溶解。
(添加剂)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,根据各种目的,也可以使用通用的添加剂。可以以不显著降低液晶取向性的程度,添加例如抗氧化剂、紫外线吸收剂、流平剂、取向控制剂、链转移剂、红外线吸收剂、触变剂、防静电剂、色素、填料、手性化合物、具有聚合性基团的非液晶性化合物、其他液晶化合物、取向材料等添加剂。
(抗氧化剂)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,根据需要可以含有抗氧化剂等。作为这样的化合物,可列举氢醌衍生物、亚硝基胺系阻聚剂、受阻酚系抗氧化剂等,更具体而言,可列举叔丁基氢醌、和光纯药工业公司的“Q-1300”、“Q-1301”、季戊四醇四[3-(3,5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯“IRGANOX1010”、硫代二乙撑双[3-(3,5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯“IRGANOX1035”、十八烷基-3-(3,5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯“IRGANOX1076”、“IRGANOX1135”、“IRGANOX1330”、4,6-双(辛基硫代甲基)-邻甲酚“IRGANOX1520L”、“IRGANOX1726”、“IRGANOX245”、“IRGANOX259”、“IRGANOX3114”、“IRGANOX3790”、“IRGANOX5057”、“IRGANOX565”(以上为BASF株式会社制)、株式会社ADEKA制的ADEKA STAB AO-20、AO-30、AO-40、AO-50、AO-60、AO-80、住友化学株式会社的Sumilizer BHT、Sumilizer BBM-S和Sumilizer GA-80等。
相对于聚合性组合物中所包含的聚合性化合物的总量,抗氧化剂的添加量优选为0.01~2.0质量%,更优选为0.05~1.0质量%。
(紫外线吸收剂)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,根据需要可以含有紫外线吸收剂、光稳定剂。所使用的紫外线吸收剂、光稳定剂没有特别限定,优选提高相位差膜的耐光性的物质。
作为前述紫外线吸收剂,可列举例如2-(2-羟基-5-叔丁基苯基)-2H-苯并三唑“Tinuvin PS”、“Tinuvin 99-2”、“Tinuvin 109”、“TINUVIN 213”、“TINUVIN 234”、“TINUVIN 326”、“TINUVIN 328”、“TINUVIN 329”、“TINUVIN 384-2”、“TINUVIN 571”、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-双(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚“TINUVIN 900”、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚“TINUVIN 928”、“TINUVIN1130”、“TINUVIN 400”、“TINUVIN 405”、2,4-双[2-羟基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪“TINUVIN 460”、“Tinuvin 479”、“TINUVIN 5236”(以上为BASF株式会社制)、“ADEKA STAB LA-32”、“ADEKA STAB LA-34”、“ADEKA STAB LA-36”、“ADEKA STAB LA-31”、“ADEKA STAB 1413”、“ADEKA STAB LA-51”(以上为株式会社ADEKA制)等。
作为光稳定剂,可列举例如“TINUVIN 111FDL”、“TINUVIN 123”、“TINUVIN 144”、“TINUVIN 152”、“TINUVIN 292”、“TINUVIN 622”、“TINUVIN 770”、“TINUVIN 765”、“TINUVIN 780”、“TINUVIN 905”、“TINUVIN 5100”、“TINUVIN 5050”、“TINUVIN 5060”、“TINUVIN 5151”、“CHIMASSORB 119FL”、“CHIMASSORB 944FL”、“CHIMASSORB 944LD”(以上为BASF株式会社制)、“ADEKA STAB LA-52”、“ADEKA STAB LA-57”、“ADEKA STAB LA-62”、“ADEKA STAB LA-67”、“ADEKA STAB LA-63P”、“ADEKA STAB LA-68LD”、“ADEKA STAB LA-77”、“ADEKA STAB LA-82”、“ADEKA STAB LA-87”(以上为株式会社ADEKA制)等。
(流平剂)
在用于制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜的聚合性组合物中,根据需要可含有流平剂。使用的流平剂没有特别限定,优选在形成相位差膜的薄膜时减少膜厚不均的流平剂。作为前述流平剂,可列举烷基羧酸盐、烷基磷酸盐、烷基磺酸盐、氟烷基羧酸盐、氟烷基磷酸盐、氟烷基磺酸盐、聚氧乙烯衍生物、氟烷基环氧乙烷衍生物、聚乙二醇衍生物、烷基铵盐、氟烷基铵盐类等。
具体而言,可列举“MEGAFAC F-114”、“MEGAFAC F-251”、“MEGAFAC F-281”、“MEGAFAC F-410”、“MEGAFAC F-430”、“MEGAFAC F-444”、“MEGAFAC F-472SF”、“MEGAFAC F-477”、“MEGAFAC F-510”、“MEGAFAC F-511”、“MEGAFAC F-552”、“MEGAFAC F-553”、“MEGAFACF-554”、“MEGAFAC F-555”、“MEGAFAC F-556”、“MEGAFAC F-557”、“MEGAFAC F-558”、“MEGAFAC F-559”、“MEGAFAC F-560”、“MEGAFAC F-561”、“MEGAFAC F-562”、“MEGAFAC F-563”、“MEGAFAC F-565”、“MEGAFAC F-567”、“MEGAFAC F-568”、“MEGAFAC F-569”、“MEGAFACF-570”、“MEGAFAC F-571”、“MEGAFAC R-40”、“MEGAFAC R-41”、“MEGAFAC R-43”、“MEGAFACR-94”、“MEGAFAC RS-72-K”、“MEGAFAC RS-75”、“MEGAFAC RS-76-E”、“MEGAFAC RS-76-NS”、“MEGAFAC RS-90”、“MEGAFAC EXP.TF-1367”、“MEGAFAC EXP.TF1437”、“MEGAFACEXP.TF1537”、“MEGAFAC EXP.TF-2066”(以上为DIC株式会社制)、
“Ftergent100”、“Ftergent100C”、“Ftergent110”、“Ftergent150”、“Ftergent150CH”、“Ftergent100A-K”、“Ftergent300”、“Ftergent310”、“Ftergent320”、“Ftergent400SW”、“Ftergent251”、“Ftergent215M”、“Ftergent212M”、“Ftergent215M”、“Ftergent250”、“Ftergent222F”、“Ftergent212D”、“FTX-218”、“Ftergent209F”、“Ftergent245F”、“Ftergent208G”、“Ftergent240G”、“Ftergent212P”、“Ftergent220P”、“Ftergent228P”、“DFX-18”、“Ftergent601AD”、“Ftergent602A”、“Ftergent650A”、“Ftergent750FM”、“FTX-730FM”、“Ftergent730FL”、“Ftergent710FS”、“Ftergent710FM”、“Ftergent710FL”、“Ftergent750LL”、“FTX-730LS”、“Ftergent730LM”(以上为株式会社NEOS制)、
“BYK-300”、“BYK-302”、“BYK-306”、“BYK-307”、“BYK-310”、“BYK-315”、“BYK-320”、“BYK-322”、“BYK-323”、“BYK-325”、“BYK-330”、“BYK-331”、“BYK-333”、“BYK-337”、“BYK-340”、“BYK-344”、“BYK-370”、“BYK-375”、“BYK-377”、“BYK-350”、“BYK-352”、“BYK-354”、“BYK-355”、“BYK-356”、“BYK-358N”、“BYK-361N”、“BYK-357”、“BYK-390”、“BYK-392”、“BYK-UV3500”、“BYK-UV3510”、“BYK-UV3570”、“BYK-Silclean3700”(以上为BYK株式会社制)、
“TEGO Rad2100”、“TEGO Rad2011”、“TEGO Rad2200N”、“TEGO Rad2250”、“TEGORad2300”、“TEGO Rad2500”、“TEGO Rad2600”、“TEGO Rad2650”、“TEGO Rad2700”、“TEGOFlow300”、“TEGO Flow370”、“TEGO Flow425”、“TEGO Flow ATF2”、“TEGO Flow ZFS460”、“TEGO Glide100”、“TEGO Glide110”、“TEGO Glide130”、“TEGO Glide410”、“TEGOGlide411”、“TEGO Glide415”、“TEGO Glide432”、“TEGO Glide440”、“TEGO Glide450”、“TEGO Glide482”、“TEGO Glide A115”、“TEGO Glide B1484”、“TEGO Glide ZG400”、“TEGOTwin4000”、“TEGO Twin4100”、“TEGO Twin4200”、“TEGO Wet240”、“TEGO Wet250”、“TEGOWet260”、“TEGO Wet265”、“TEGO Wet270”、“TEGO Wet280”、“TEGO Wet500”、“TEGOWet505”、“TEGO Wet510”、“TEGO Wet520”、“TEGO Wet KL245”(以上为Evonik Industries株式会社制)、“FC-4430”、“FC-4432”(以上为3M日本株式会社制)、“Unidyne NS”(以上为大金工业株式会社制)、“Surflon S-241”、“Surflon S-242”、“Surflon S-243”、“Surflon S-420”、“Surflon S-611”、“Surflon S-651”、“Surflon S-386”(以上为AGC清美化学株式会社制)、“DISPARLON OX-880EF”、“DISPARLON OX-881”、“DISPARLON OX-883”、“DISPARLONOX-77EF”、“DISPARLON OX-710”、“DISPARLON1922”、“DISPARLON 1927”、“DISPARLON1958”、“DISPARLON P-410EF”、“DISPARLON P-420”、“DISPARLON P-425”、“DISPARLON PD-7”、“DISPARLON 1970”、“DISPARLON 230”、“DISPARLON LF-1980”、“DISPARLON LF-1982”、“DISPARLON LF-1983”、“DISPARLON LF-1084”、“DISPARLON LF-1985”、“DISPARLON LHP-90”、“DISPARLON LHP-91”、“DISPARLON LHP-95”、“DISPARLON LHP-96”、“DISPARLON OX-715”、“DISPARLON 1930N”、“DISPARLON 1931”、“DISPARLON 1933”、“DISPARLON 1934”、“DISPARLON 1711EF”、“DISPARLON 1751N”、“DISPARLON 1761”、“DISPARLON LS-009”、“DISPARLON LS-001”、“DISPARLON LS-050”(以上为楠本化成株式会社制)、“PF-151N”、“PF-636”、“PF-6320”、“PF-656”、“PF-6520”、“PF-652-NF”、“PF-3320”(以上为OMNOVASOLUTIONS公司制)、“POLYFLOW No.7”、“POLYFLOW No.50E”、“POLYFLOW No.50EHF”、“POLYFLOW No.54N”、“POLYFLOW No.75”、“POLYFLOW No.77”、“POLYFLOW No.85”、“POLYFLOW No.85HF”、“POLYFLOW No.90”、“POLYFLOW No.90D-50”、“POLYFLOW No.95”、“POLYFLOW No.99C”、“POLYFLOW KL-400K”、“POLYFLOW KL-400HF”、“POLYFLOW KL-401”、“POLYFLOW KL-402”、“POLYFLOW KL-403”、“POLYFLOW KL-404”、“POLYFLOW KL-100”、“POLYFLOW LE-604”、“POLYFLOW KL-700”、“FLOWLEN AC-300”、“FLOWLEN AC-303”、“FLOWLEN AC-324”、“FLOWLEN AC-326F”、“FLOWLEN AC-530”、“FLOWLEN AC-903”、“FLOWLENAC-903HF”、“FLOWLEN AC-1160”、“FLOWLEN AC-1190”、“FLOWLEN AC-2000”、“FLOWLEN AC-2300C”、“FLOWLEN AO-82”、“FLOWLEN AO-98”、“FLOWLEN AO-108”(以上为共荣社化学株式会社制)、“L-7001”、“L-7002”、“8032ADDITIVE”、“57ADDTIVE”、“L-7064”、“FZ-2110”、“FZ-2105”、“67ADDTIVE”、“8616ADDTIVE”(以上为东丽道康宁有机硅株式会社制)等例子。
相对于聚合性组合物所使用的聚合性化合物的合计量,流平剂的添加量优选为0.01~2质量%,更优选为0.05~0.5质量%。
另外,通过适宜选择上述流平剂的种类、添加量,还能够在将聚合性组合物制成相位差膜时,控制空气界面的倾角。
(取向控制剂)
在为了制作本发明的相位差膜而使用的聚合性组合物中,为了控制聚合性化合物的取向状态,可以含有取向控制剂。作为所使用的取向控制剂,可列举液晶性化合物相对于基材实质上水平取向、实质上垂直取向、实质上混合取向的取向控制剂。另外,在添加了手性化合物时,可列举实质上平面取向的取向控制剂。如前述那样,有时也利用表面活性剂诱发水平取向、平面取向,但只要可诱发各种取向状态,就没有特别限定,可以使用公知惯用的取向控制剂。
作为这样的取向控制剂,可列举例如具有有效减少制成相位差膜时的空气界面的倾角的效果的、具有下述通式(8)所表示的重复单元的、重均分子量为100以上1000000以下的化合物。
[化142]
(式中,R11、R12、R13和R14分别独立地表示氢原子、卤原子或者碳原子数1~20的烃基,该烃基中的氢原子可以被1个以上的卤原子取代。)
另外,还可列举被氟烷基改性后的棒状液晶性化合物、圆盘状液晶性化合物、含有可具有分支结构的长链脂肪族烷基的聚合性化合物等。
作为具有有效增加制成相位差膜时的空气界面的倾角的效果的取向控制剂,可列举硝酸纤维素、乙酸纤维素、丙酸纤维素、丁酸纤维素、经杂芳香族环盐改性的棒状液晶性化合物、被氰基、氰烷基改性后的棒状液晶性化合物等。
(链转移剂)
为了使聚合物、相位差膜与基材的密合性进一步提高,本发明中使用的聚合性组合物可以含有链转移剂。作为链转移剂,可列举:芳香族烃类、氯仿、四氯化碳、四溴化碳、三氯溴甲烷等卤化烃类;
辛基硫醇、正丁基硫醇、正戊基硫醇、正十六烷基硫醇、正十四烷基硫醇、正十二烷基硫醇、叔十四烷基硫醇、叔十二烷基硫醇等硫醇化合物;己烷二硫醇、癸烷二硫醇、1,4-丁二醇双硫代丙酸酯、1,4-丁二醇双硫代乙醇酸酯、乙二醇双硫代乙醇酸酯、乙二醇双硫代丙酸酯、三羟甲基丙烷三硫代乙醇酸酯、三羟甲基丙烷三硫代丙酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、季戊四醇四硫代乙醇酸酯、季戊四醇四硫代丙酸酯、三巯基丙酸三(2-羟基乙基)异氰脲酸酯、1,4-二甲基巯基苯、2,4,6-三巯基-s-三嗪、2-(N,N-二丁基氨基)-4,6-二巯基-s-三嗪等硫醇化合物;二硫化二甲基黄原酸酯、二硫化二乙基黄原酸酯、二硫化二异丙基黄原酸酯、四甲基秋兰姆二硫化物、四乙基秋兰姆二硫化物、四丁基秋兰姆二硫化物等硫化物化合物;N,N-二甲基苯胺、N,N-二乙烯基苯胺、五苯基乙烷、α-甲基苯乙烯二聚物、丙烯醛、烯丙醇、萜品油烯、α-萜品烯、γ-萜品烯、二戊烯等,更优选2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯、硫醇化合物。
具体而言优选下述通式(9-1)~(9-12)所表示的化合物。
[化143]
[化144]
式中,R95表示碳原子数2~18的烷基,该烷基可以为直链也可以为支链,该烷基中的1个以上亚甲基可以以氧原子以及硫原子相互不直接连接的方式被氧原子、硫原子、-CO-、-OCO-、-COO-或者-CH=CH-取代,R96表示碳原子数2~18的亚烷基,该亚烷基中的1个以上亚甲基可以以氧原子以及硫原子相互不直接连接的方式被氧原子、硫原子、-CO-、-OCO-、-COO-或者-CH=CH-取代。
链转移剂优选在将聚合性化合物混合于有机溶剂并且加热搅拌而调制聚合性溶液的工序中添加,也可以在之后的向聚合性溶液中混合聚合引发剂的工序中添加,也可以在这两者的工序中添加。
相对于聚合性组合物中所包含的聚合性化合物的总量,链转移剂的添加量优选为0.5~10质量%,更优选为1.0~5.0质量%。
为了进一步调整物性,也可以根据需要添加非聚合性的液晶化合物等。没有液晶性的聚合性化合物优选在将聚合性化合物混合于有机溶剂中并且加热搅拌而调制聚合性溶液的工序中添加,非聚合性的液晶化合物等可以在之后的向聚合性溶液中混合聚合引发剂的工序中添加,也可以在这两者的工序中添加。相对于聚合性组合物,这些化合物的添加量优选20质量%以下,更优选10质量%以下,进一步更优选5质量%以下。
(红外线吸收剂)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,根据需要可含有红外线吸收剂。所用的红外线吸收剂没有特别限定,可以在不扰乱取向性的范围内含有公知惯用的红外线吸收剂。
作为前述红外线吸收剂,可列举花青化合物、酞菁化合物、萘醌化合物、二硫醇化合物、二亚铵化合物、偶氮化合物、铝盐等。
具体而言,可列举二亚胺盐类的“NIR-IM1”、铝盐类的“NIR-AM1”(以上为NagaseChemteX株式会社制)、“Karenz IR-T”、“Karenz IR-13F”(以上为昭和电工株式会社制)、“YKR-2200”、“YKR-2100”(以上为山本化成株式会社制)、“IRA908”、“IRA931”、“IRA955”、“IRA1034”(以上为INDECO株式会社)等。
(防静电剂)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,根据需要可含有防静电剂。所用的防静电剂没有特别限定,可以在不扰乱取向性的范围内含有公知惯用的防静电剂。
作为这样的防静电剂,可列举在分子内至少具有1种以上的磺酸盐基或磷酸盐基的高分子化合物、具有季铵盐的化合物、具有聚合性基团的表面活性剂等。
其中,优选具有聚合性基团的表面活性剂,例如,具有聚合性基团的表面活性剂中,作为阴离子系的表面活性剂,可列举“Antox SAD”、“Antox MS-2N”(以上为日本乳化剂株式会社制)、“AQUALON KH-05”、“AQUALON KH-10”、“AQUALON KH-20”、“AQUALON KH-0530”、“AQUALON KH-1025”(以上为第一工业制药株式会社制)、“ADEKAREASOAP SR-10N”、“ADEKAREASOAP SR-20N”(以上株式会社ADEKA制)、“LATEMUL PD-104”(花王株式会社制)等烷基醚系、“LATEMUL S-120”、“LATEMUL S-120A”、“LATEMUL S-180P”、“LATEMUL S-180A”(以上为花王株式会社制)、“ELEMINOL JS-2”(三洋化成株式会社制)等磺基琥珀酸酯系、“AQUALON H-2855A”、“AQUALON H-3855B”、“AQUALON H-3855C”、“AQUALON H-3856”、“AQUALON HS-05”、“AQUALON HS-10”、“AQUALON HS-20”、“AQUALON HS-30”、“AQUALON HS-1025”、“AQUALON BC-05”、“AQUALON BC-10”、“AQUALON BC-20”、“AQUALON BC-1025”、“AQUALON BC-2020”(以上为第一工业制药株式会社制)、“ADEKAREASOAP SDX-222”、“ADEKAREASOAP SDX-223”、“ADEKAREASOAP SDX-232”、“ADEKAREASOAP SDX-233”、“ADEKAREASOAP SDX-259”、“ADEKAREASOAP SE-10N”、“ADEKAREASOAP SE-20N”(以上为株式会社ADEKA制)等烷基苯基醚或烷基苯基酯系、“Antox MS-60”、“Antox MS-2N”(以上为日本乳化剂株式会社制)、“ELEMINOL RS-30”(三洋化成株式会社制)等(甲基)丙烯酸酯硫酸酯系、“H-3330P”(第一工业制药株式会社制)、“ADEKAREASOAP PP-70”(株式会社ADEKA制)等磷酸酯系。
另一方面,具有聚合性基团的表面活性剂中,作为阴离子系的表面活性剂,可列举例如“Antox LMA-20”、“Antox LMA-27”、“Antox EMH-20”、“Antox LMH-20、“Antox SMH-20”(以上为日本乳化剂株式会社制)、“ADEKAREASOAP ER-10”、“ADEKAREASOAP ER-20”、“ADEKAREASOAP ER-30”、“ADEKAREASOAP ER-40”(以上为株式会社ADEKA制)、“LATEMUL PD-420”、“LATEMUL PD-430”、“LATEMUL PD-450”(以上为花王株式会社制)等烷基醚系、“AQUALON RN-10”、“AQUALON RN-20”、“AQUALON RN-30”、“AQUALON RN-50”、“AQUALON RN-2025”(以上为第一工业制药株式会社制)、“ADEKAREASOAP NE-10”、“ADEKAREASOAP NE-20”、“ADEKAREASOAP NE-30”、“ADEKAREASOAP NE-40”(以上为株式会社ADEKA制)等烷基苯基醚系或烷基苯基酯系、“RMA-564”、“RMA-568”、“RMA-1114”(以上为日本乳化剂株式会社制)等(甲基)丙烯酸酯硫酸酯系。
作为其他防静电剂,可列举例如聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丙氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、正丁氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、正戊氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、丙氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、正丁氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、正戊氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚四亚甲基二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚四亚甲基二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基四乙二醇(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基六乙二醇(甲基)丙烯酸酯等。
前述防静电剂可以仅使用1种也可以组合使用2种以上。相对于聚合性组合物中所包含的聚合性化合物的总量,前述防静电剂的添加量优选0.001~10重量%,更优选0.01~5重量%。
(色素)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,根据需要可含有色素。所用的色素没有特别限定,可以在不扰乱取向性的范围内含有公知惯用的色素。
作为前述色素,可列举例如二色性色素、荧光色素等。作为这样的色素,可列举例如聚偶氮色素、蒽醌色素、花青色素、酞菁色素、苝色素、芘酮色素、方酸(Squarylium)色素等,从添加的观点考虑,前述色素优选为表现液晶性的色素。
例如,可以使用美国专利第2,400,877号公报、DreyerJ.F.,Phys.和ColloidChem.,1948,52,808.,"The Fixing of Molecular Orientation(分子取向的固定)"、Dreyer J.F.,Journal de Physique,1969,4,114.,"Light Polarization from Films ofLyotropic Nematic Liquid Crystals(从溶致向列液晶膜的光极化)"、以及J.Lydon,"Handbook of Liquid Crystals Vol.2B:Low MolecularWeight Liquid Crystals II(液晶手册第二卷:低分子量液晶II)"中的"Chromonics(染色)",D.Demus,J.Goodby,G.W.Gray,H.W.Spiessm,V.Vill ed,Willey-VCH,P.981-1007(1998)、Dichroic Dyes forLiquid Crystal Display(用于液晶显示器的二向色染料)A.V.lvashchenko CRC Press、1994年、和“功能性色素市场的新发展”、第一章、1页、1994年、CMC株式会社发光等记载的色素。
作为二色性色素,可列举例如以下的式(d-1)~式(d-8)。
[化145]
[化146]
相对于聚合性组合物中所包含的聚合性化合物的总量的总量,前述二色性色素等色素的添加量优选0.001~10重量%,更优选0.01~5重量%。
(填料)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,根据需要可含有填料。所用的填料没有特别限定,可以在所得的聚合物的导热性不降低的范围内含有公知惯用的填料。
作为前述填料,可列举例如氧化铝、钛白、氢氧化铝、滑石、粘土、云母、钛酸钡、氧化锌、玻璃纤维等无机质填充材、银粉、铜粉等金属粉末、氮化铝、氮化硼、氮化硅、氮化镓、碳化硅、氧化镁(氧化铝)、三氧化二铝(氧化铝)、结晶性二氧化硅(氧化硅)、熔融二氧化硅(氧化硅)等导热性填料、银纳米粒子等。
(具有聚合性基团的非液晶性化合物)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,也可以添加具有聚合性基团但不是液晶化合物的化合物。作为这样的化合物,通常,只要是在该技术领域作为聚合性单体或聚合性低聚物被认识的化合物就可以没有特别限制地使用。添加的情况下,相对于聚合性组合物所用的聚合性化合物的合计量,优选为15质量%以下,进一步优选10质量%以下。
具体而言,可列举(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸二甲基金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、2-苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸(2-甲基-2-乙基-1,3-二氧戊环-4-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯、邻苯基酚乙氧基(甲基)丙烯酸酯、二甲基氨基(甲基)丙烯酸酯、二乙基氨基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,4,4,4-六氟丁酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,4,4,4-七氟丁酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,3H-四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,5H-八氟戊酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,7H-十二氟庚酯、(甲基)丙烯酸1H-1-(三氟甲基)三氟乙酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,3H-六氟丁酯、(甲基)丙烯酸1,2,2,2-四氟-1-(三氟甲基)乙酯、(甲基)丙烯酸1H,1H-十五氟辛酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,2H,2H-十三氟辛酯、邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、六氢邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、磷酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙酯、丙烯酰吗啉、二甲基丙烯酰胺、二甲基氨基丙基丙烯酰胺、异丙基丙烯酰胺、二乙基丙烯酰胺、羟基乙基丙烯酰胺、N-丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酰亚胺等单(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的双酚A二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、二(甲基)丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸2-羟基-3-丙烯酰氧基丙酯、1,6-己二醇二缩水甘油醚的丙烯酸加成物、1,4-丁二醇二缩水甘油醚的丙烯酸加成物等二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化异氰脲酸三丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、ε-己内酯改性三-(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯等三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、低聚物型的(甲基)丙烯酸酯、各种氨基甲酸酯丙烯酸酯、各种大分子单体、乙二醇二缩水甘油醚、二乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、双酚A二缩水甘油醚等环氧化合物、马来酰亚胺等。它们可以单独使用,也可以将2种以上混合使用。
(取向材料)
在为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物中,为了使其取向性提高,可以含有取向性提高的取向材料。所用的取向材料只要可溶于能够使聚合性组合物中使用的具有聚合性基团的液晶性化合物溶解的溶剂中,则可以是公知惯用的取向材料,可以在不因添加而使取向性显著劣化的范围内进行添加。具体而言,相对于聚合性液晶组合物中所包含的聚合性液晶化合物的总量,优选0.05~30重量%,进一步优选0.5~15重量%,特别优选1~10重量%。
关于取向材料,具体而言,可列举聚酰亚胺、聚酰胺、BCB(苯并环丁烯聚合物)、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚苯醚、聚芳酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、环氧树脂、环氧丙烯酸酯树脂、丙烯酸系树脂、香豆素化合物、查尔酮化合物、肉桂酸酯化合物、俘精酸酐化合物、蒽醌化合物、偶氮化合物、芳基乙烯化合物等进行光异构化或光二聚化的化合物,优选通过紫外线照射、可见光照射进行取向的材料(光取向材料)。
作为光取向材料,可列举例如具有环状环烷烃的聚酰亚胺、全芳香族聚芳酯、日本特开5-232473号公报所示那样的聚乙烯基肉桂酸酯、对甲氧基肉桂酸的聚乙烯基酯、日本特开平6-287453、日本特开平6-289374号公报所示那样的肉桂酸酯衍生物、日本特开2002-265541号公报所示那样的马来酰亚胺衍生物等。具体而言,优选以下的式(12-1)~式(12-7)所表示的化合物。
[化147]
(式中,R表示氢原子、卤原子、碳原子数1~3的烷基、烷氧基、硝基,R’表示氢原子、碳原子数1~10的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,末端的CH3可被CF3、CCl3、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基取代。n表示4~100000,m表示1~10的整数。)
(相位差膜和相位差膜的制造方法)
(相位差膜)
将为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物涂布于基材或具有取向功能的基材上,使聚合性液晶组合物中的液晶分子在保持向列相、近晶相的状态下均匀地取向、聚合,从而能够得到本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜。
(基材)
本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜所使用的基材为通常在液晶显示元件、有机发光显示元件、其他显示元件、光学部件、着色剂、标识、印刷物、光学膜中使用的基材,只要是具有可耐受聚合性组合物溶液涂布后干燥时的加热的耐热性的材料,则没有特别限制。作为这样的基材,可列举玻璃基材、金属基材、陶瓷基材、塑料基材、纸等有机材料。尤其是当基材为有机材料时,可列举纤维素衍生物、聚烯烃、聚酯、聚烯烃、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚芳酯、聚醚砜、聚酰亚胺、聚苯硫醚、聚苯醚、尼龙或者聚苯乙烯等。这之中,优选聚酯、聚苯乙烯、聚烯烃、纤维素衍生物、聚芳酯、聚碳酸酯等塑料基材。作为基材的形状,除了平板之外,也可以是具有曲面的形状。这些基材可以根据需要具有电极层、防反射功能、反射功能。
为了提高用于制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜的聚合性组合物的涂布性、其与聚合物的粘接性,可以进行这些基材的表面处理。作为表面处理,可列举臭氧处理、等离子体处理、电晕处理、硅烷偶联处理等。另外,为了调节光的透射率、反射率,可以通过蒸镀等方法在基材表面设置有机薄膜、无机氧化物薄膜、金属薄膜等,或者,为了赋予光学附加价值,基材可以是拾取(pick up)透镜、棒状透镜、光盘、相位差膜、光扩散膜、滤色器等。这之中,优选附加价值更高的拾取透镜、相位差膜、光扩散膜、滤色器。
(取向处理)
另外,对于上述基材,按照将为了制作本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜而使用的聚合性组合物进行涂布干燥时聚合性组合物进行取向的方式,通常可以实施取向处理、或设置取向膜。作为取向处理,可列举拉伸处理、摩擦处理、偏光紫外可见光照射处理、离子束处理、向基材斜方蒸镀SiO2的处理等。使用取向膜的情况下,取向膜可以使用公知惯用的取向膜。作为这样的取向膜,可列举聚酰亚胺、聚硅氧烷、聚酰胺、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚苯醚、聚芳酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、环氧树脂、环氧丙烯酸酯树脂、丙烯酸系树脂、偶氮化合物、香豆素化合物、查尔酮化合物、肉桂酸酯化合物、俘精酸酐化合物、蒽醌化合物、偶氮化合物、芳基乙烯化合物等化合物、或前述化合物的聚合物、共聚物。通过摩擦进行取向处理的化合物优选通过取向处理、或通过在取向处理之后加入加热工序来促进材料的结晶化。在进行摩擦以外的取向处理的化合物中,优选使用光取向材料。
作为使本发明的第一相位差层取向时的取向处理方法,优选拉伸处理、取向膜涂布后的摩擦处理、使用了光取向膜的处理,更优选使用了光取向膜的处理。另外,作为使第二相位差层取向的处理,优选垂直取向膜处理、光取向膜处理。另外,第二相位差层的情况下,根据聚合性组合物的种类不同,没必要一定进行取向处理。
(涂布)
作为用于得到本发明的第一相位差膜以及第二相位差膜的涂布法,可以进行敷料器法、棒涂法、旋涂法、辊涂法、直接凹版涂布法、反向凹版涂布法、柔版涂布法、喷墨法、模涂法、CAP涂布法、浸涂法、狭缝涂布法、喷涂法等公知惯用的方法。涂布聚合性组合物后,使其干燥。
涂布后,优选使聚合性组合物中的液晶分子以保持了近晶相或向列相的状态均匀地取向。作为该方法的一种,可列举热处理法。具体而言,将本聚合性组合物涂布在基板上后,加热至该液晶组合物的N(向列相)-I(各向同性液体相)转变温度(以下简称为N-I转变温度)以上,使该液晶组合物成为各向同性相液体状态。然后,根据需要缓慢冷却,表现为向列相。此时,优选暂时保持为呈现液晶相的温度,使液晶相畴充生长而成为单畴。或者,可以在将聚合性组合物涂布在基板上后,实施在聚合性组合物表现向列相的温度范围内将温度保持一定时间那样的加热处理。
若加热温度过高,则有聚合性液晶化合物发生不优选的聚合反应而劣化的担忧。另外,如果过度冷却,则有时聚合性组合物发生相分离,晶体析出,表现为近晶相那样的高次液晶相,无法进行取向处理。
通过进行这样的热处理,与仅进行涂布的涂覆方法相比,能够制作取向缺陷少的均质的相位差膜。
另外,如此地进行均质的取向处理后,冷却至液晶相不会发生相分离的最低温度、即成为过冷却状态,如果在该温度以使液晶相发生了取向的状态进行聚合,则能够得到取向秩序更高、透明性更优异的相位差膜。
(聚合工序)
干燥后的聚合性组合物的聚合处理是在进行了均匀取向的状态下通常利用可见紫外线等光照射、或加热来进行。通过光照射进行聚合的情况下,具体而言优选照射420nm以下的可见紫外光,最优选照射250~370nm波长的紫外光。其中,由于420nm以下的可见紫外光而导致聚合性组合物分解等的情况下,有时也优选利用420nm以上的可见紫外光进行聚合处理。
(聚合方法)
作为使为了制作本发明的相位差膜而使用的聚合性组合物聚合的方法,可列举照射活性能量射线的方法、热聚合法等,从不需要加热而是在室温进行反应的方面考虑,优选照射活性能量射线的方法,这之中,从操作简便的方面考虑,优选照射紫外线等光的方法。照射时的温度设为聚合性组合物能够保持液晶相的温度,为了避免诱发聚合性组合物的热聚合,优选尽可能设为30℃以下。需说明的是,聚合性液晶组合物通常在升温过程中,在C(固相)-N(向列)转变温度(以下简称为C-N转变温度。)至N-I转变温度的范围内表现液晶相。另一方面,在降温过程中,由于取热力学上的非平衡状态,因此有时即使在C-N转变温度以下也不凝固而保持液晶状态。将该状态称为过冷却状态。本发明中,处于过冷却状态的液晶组合物也包含在保持了液晶相的状态中。具体而言优选照射390nm以下的紫外光,最优选照射250~370nm波长的光。其中,当由于390nm以下的紫外光而导致聚合性组合物发生分解等的情况下,有时也优选利用390nm以上的紫外光进行聚合处理。该光优选为扩散光并且没有偏光的光。紫外线照射强度优选0.05kW/m2~10kW/m2的范围。特别优选0.2kW/m2~2kW/m2的范围。紫外线强度小于0.05kW/m2时,完成聚合需要大量的时间。另一方面,超过2kW/m2的强度时,有聚合性组合物中的液晶分子发生光分解的倾向,有大量产生聚合热而使聚合中的温度上升,聚合性液晶的序参数变化,聚合后的膜的延迟发生紊乱的可能性。
使用掩模通过紫外线照射仅使特定的部分聚合后,施加电场、磁场或温度等使该未聚合部分的取向状态变化,然后使该未聚合部分聚合时,也能够获得具有取向方向不同的多个区域的相位差膜。
另外,使用掩模通过紫外线照射仅使特定的部分聚合时,预先对未聚合状态的聚合性组合物施加电场、磁场或温度等来控制取向,保持该状态而从掩模上照射光使其聚合,从而也能够获得具有取向方向不同的多个区域的相位差膜。
使本发明中使用的聚合性液晶组合物聚合而得到的相位差膜可以从基板剥离而单独作为相位差膜使用,也可以不从基板剥离而直接作为相位差膜使用。特别是,由于不易污染其他构件,因此在作为被层叠基板使用、或与其他基板贴合使用时是有用的。
(光学膜)
本发明的光学膜包含第一相位差层和第二相位差层。第一相位差层承担形成目标相位差的功能,第二相位差层承担对第一相位差层的角度依赖性进行补偿的功能。两者可分别形成于同一基板上的背面和表面,也可以制作另外的基板并且将两基板贴合,另外还可以在制作另外的基板后将一者剥离而贴合于另一者,也可以从两者的基板剥离后贴合。
(椭圆偏光板)
通过将本发明的光学膜与直线偏光板贴合,能够制作本发明的椭圆偏光板。作为直线偏光板,通常使用在起偏振器的单侧或两侧具有保护膜的偏光板。起偏振器没有特别限制,可以使用各种起偏振器,可列举例如使碘、二色性染料等二色性物质吸附于聚乙烯醇系膜、部分甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜并且进行单轴拉伸而成的起偏振器,聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向膜等。这之中,适宜使用拉伸聚乙烯醇系膜并且将二色性材料(碘、染料)吸附、取向而成的起偏振器。另外,还可以使用线栅型偏光板等。
关于上述椭圆偏光板,除了如上述那样将本发明的相位差膜与直线偏光板贴合以外,还可以在偏光板上直接涂布本发明所用的聚合性组合物,在偏光板上直接形成相位差膜层。
(液晶显示元件)
本发明的光学膜也可以在液晶显示元件中使用。液晶显示元件中,在至少2个基材中以最低限度夹持有液晶介质层、TFT驱动回路、黑矩阵层、滤色器层、间隔物、与液晶介质层对应的电极回路,通常,光学补偿层、偏光板层、触摸板层配置于两个基材的外侧,但根据情况,光学补偿层、外覆层、偏光板层、触摸板用的电极层也可以夹持在两个基材内。
作为液晶显示元件的取向模式,有TN模式、VA模式、IPS模式、FFS模式、OCB模式等,当以光学补偿膜、光学补偿层使用时,能够制成具有与取向模式对应的相位差的膜。也能够以经图案化的相位差膜使用。
(有机发光显示元件)
本发明的光学膜以及椭圆偏光板能够在本发明的有机发光显示元件中使用。作为使用方式,能够作为有机发光显示元件的防反射膜使用。
实施例
以下通过实施例和比较例来说明本发明,但本发明自然不限定于此。需说明的是,在没有特别说明的情况下,“份”和“%”以质量为基准。
<第一相位差层(第一相位差膜)的制作>
(聚合性组合物(1))
加入式(30-a-1)所表示的化合物30份、式(20-a-1)所表示的化合物62份、式(20-b-1)所表示的化合物8份、甲苯200份后,加温至80℃,进行搅拌使其溶解,确认到溶解后,恢复至室温,加入Irgacure 907(Irg907:BASF公司制)3份、对甲氧基苯酚(MEHQ)0.1份、以及MEGAFAC F-554(F-554:DIC株式会社制)0.2份并且进一步进行搅拌,得到溶液。溶液为透明且均匀。用0.20μm的膜过滤器过滤所得的溶液,得到实施例用的聚合性组合物(1)。
(聚合性组合物(2)~(46))
将下述表所示的各化合物分别变更为下述表所示的比例,除此之外,按照与聚合性组合物(1)的调制相同的条件,得到实施例用的聚合性组合物(2)~(21)、(31)~(32)和比较例用的聚合性组合物(41)~(46)。
下述表1~5中,示出本发明用的聚合性组合物(1)~(21)、(31)~(32)、比较例用的聚合性组合物(41)~(46)的具体组成。
[表1]
聚合性组合物 | (1) | (2) | (3) | (4) | (5) | (6) | (7) | (8) | (9) |
30-a-1 | 30 | 90 | |||||||
30-a-2 | 40 | 90 | |||||||
30-a-3 | 30 | 90 | 50 | 70 | |||||
30-a-4 | 90 | ||||||||
30-a-5 | 45 | ||||||||
30-a-6 | |||||||||
30-a-7 | |||||||||
30-a-8 | |||||||||
20-a-1 | 62 | 25 | |||||||
20-a-2 | 50 | 20 | |||||||
20-a-3 | 40 | ||||||||
20-a-4 | |||||||||
20-a-5 | |||||||||
20-a-6 | |||||||||
20-a-7 | |||||||||
20-a-8 | |||||||||
10-b-1 | |||||||||
10-b-2 | |||||||||
10-b-3 | 10 | ||||||||
10-b-4 | |||||||||
20-b-1 | 8 | 10 | 5 | 10 | 10 | ||||
20-b-2 | 10 | 10 | 5 | ||||||
20-b-3 | |||||||||
20-b-4 | |||||||||
20-b-5 | |||||||||
Irg907 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 |
MEHQ | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
F-554 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
F-556 | |||||||||
甲苯 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 |
PGMEA |
[表2]
聚合性组合物 | (10) | (11) | (12) | (13) | (14) | (15) | (16) | (17) | (18) |
30-a-1 | |||||||||
30-a-2 | |||||||||
30-a-3 | |||||||||
30-a-4 | 50 | 50 | 95 | 60 | 30 | ||||
30-a-5 | 70 | 95 | |||||||
30-a-6 | 50 | 95 | |||||||
30-a-7 | |||||||||
30-a-8 | |||||||||
20-a-1 | |||||||||
20-a-2 | 40 | ||||||||
20-a-3 | 35 | ||||||||
20-a-4 | 20 | ||||||||
20-a-5 | 45 | ||||||||
20-a-6 | 30 | 55 | |||||||
20-a-7 | |||||||||
20-a-8 | |||||||||
10-b-1 | 10 | 10 | |||||||
10-b-2 | 15 | 5 | |||||||
10-b-3 | 5 | ||||||||
10-b-4 | |||||||||
20-b-1 | 5 | ||||||||
20-b-2 | 10 | 5 | 15 | ||||||
20-b-3 | |||||||||
20-b-4 | |||||||||
20-b-5 | |||||||||
Irg907 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 |
MEHQ | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
F-554 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
F-556 | |||||||||
甲苯 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 |
PGMEA | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 |
[表3]
聚合性组合物 | (19) | (20) | (21) | (31) | (32) | (41) | (42) | (43) | (44) |
30-a-1 | |||||||||
30-a-2 | |||||||||
30-a-3 | |||||||||
30-a-4 | |||||||||
30-a-5 | |||||||||
30-a-6 | |||||||||
30-a-7 | 50 | ||||||||
30-a-8 | 50 | 30 | |||||||
20-a-1 | 100 | 90 | |||||||
20-a-2 | 50 | ||||||||
20-a-3 | |||||||||
20-a-4 | |||||||||
20-a-5 | 95 | 40 | |||||||
20-a-6 | |||||||||
20-a-7 | 47 | 47 | |||||||
20-a-8 | 65 | ||||||||
10-b-1 | 20 | 20 | 5 | ||||||
10-b-2 | |||||||||
10-b-3 | |||||||||
10-b-4 | 10 | ||||||||
20-b-1 | 3 | 5 | 10 | ||||||
20-b-2 | 3 | 10 | |||||||
20-b-3 | 40 | 30 | |||||||
20-b-4 | 40 | 40 | |||||||
20-b-5 | |||||||||
Irg907 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 |
MEHQ | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
F-554 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | ||
F-556 | 0.2 | 0.2 | |||||||
甲苯 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | 200 | ||
PGMEA | 400 | 400 |
[表4]
[化148]
[化149]
[化150]
[化151]
[化152]
上述化合物的Re(450nm)/Re(550nm)分别如下。式(30-a-1)为0.82,式(30-a-2)为0.81,式(30-a-3)为0.82,式(30-a-4)为0.82,式(30-a-5)为0.83,式(30-a-6)为0.84,式(30-a-7)为0.84,式(30-a-8)为0.85,式(20-a-1)为0.83,式(20-a-2)为0.80,式(20-a-3)为0.75,式(20-a-4)为0.72,式(20-a-5)为0.84,式(20-a-6)为0.77,式(20-a-7)为0.86,式(20-a-8)为0.83,式(10-b-1)为1.10,式(10-b-2)为1.08,式(10-b-3)为1.09,式(10-b-4)为1.15,式(20-b-1)为1.13,式(20-b-2)为1.12,式(20-b-3)为1.12,式(20-b-4)为1.12。
(正A相位差膜的制作)
按照以下的条件将上述聚合性组合物(1)~(21)的各组合物制作相位差膜(A1)~(A21)。
向Z-TAC基材(富士膜公司制)旋涂3%的聚乙烯醇溶液(溶剂为纯水与乙醇的重量比1:1的混合液),在120℃干燥5分钟后,用人造纤维布进行摩擦处理。在该PVA膜上,使用旋涂机分别将聚合性组合物(1)~(21)按照550nm处的相位差成为138±5nm的方式调节并且涂布后,在80℃干燥3分钟。向所得的聚合性组合物的涂布物照射UVB的能量具有1J/cm2的能量的紫外线,得到相位差膜的薄膜。
将各相位差膜的Re(450nm)/Re(550nm)的值示于表5(式中,Re(450)表示波长450nm处的面内相位差,Re(550)表示波长550nm处的面内相位差)。需说明的是,Re(450nm)/Re(550nm)的值使用相位差测定装置RET-100(大塚电子公司制)测定。
[表5]
相位差膜 | 聚合性组合物 | Re(450nm)/Re(550nm) |
A1 | (1) | 0.851 |
A2 | (2) | 0.850 |
A3 | (3) | 0.837 |
A4 | (4) | 0.841 |
A5 | (5) | 0.836 |
A6 | (6) | 0.847 |
A7 | (7) | 0.823 |
A8 | (8) | 0.838 |
A9 | (9) | 0.851 |
A10 | (10) | 0.842 |
A11 | (11) | 0.835 |
A12 | (12) | 0.835 |
A13 | (13) | 0.833 |
A14 | (14) | 0.838 |
A15 | (15) | 0.835 |
A16 | (16) | 0.845 |
A17 | (17) | 0.853 |
A18 | (18) | 0.852 |
A19 | (19) | 0.858 |
A20 | (20) | 0.863 |
A21 | (21) | 0.851 |
A41 | (41) | 0.830 |
A42 | (42) | 0.859 |
A43 | (43) | 0.853 |
A44 | (44) | 0.849 |
A45 | (45) | 0.860 |
A46 | (46) | 0.861 |
<第二相位差层(第二相位差膜)的制作>
(正C相位差膜的制作)
在TAC基材(富士膜公司制)上,使用旋涂机分别将聚合性组合物(31)~(32)按照550nm处的相位差Rth成为90±10nm的方式调节并且涂布后,在60℃干燥3分钟后,在室温冷却1min。向所得的聚合性组合物的涂布物照射UVB的能量具有1J/cm2的能量的紫外线,得到相位差膜(C1)~(C2)。将所得的正C相位差膜的特性示于表6。
[表6]
相位差膜 | 聚合性组合物 | Re(550nm) | Rth(550nm) |
C1 | (31) | 1 | 85 |
C2 | (32) | 2 | 95 |
(圆偏光板的制作)
按照上述正A相位差板、正C相位差板的顺序向市售的偏光板进行贴合,制作表7所示的实施例(1)~(23)、比较例(1)~(6)的圆偏光板。
使用由上述方法制作的椭圆偏光板,基于以下的评价基准进行视觉辨认性的评价。
(视觉辨认性评价)
(色调)
针对色调,在搭载有机EL面板的SAMSUNG公司制GALAXY SII中,代替正在使用的圆偏光板而贴合上述圆偏光板,按照下述基准对从正面或者倾斜45°的黑色的着色进行评价。
A:几乎没有看见反射光的着色。(容许)
B:极少地看见反射光的着色,但实用上没有问题。(容许)
C:少量地看见反射光的着色,但实用上没有问题。(容许)
D:看见反射光的着色,根据用途可以容许。(容许)
E:显著地看见反射光的着色,不能容许。
另外,也按照同样的基准来进行将使用的椭圆偏光板在80℃的恒温层中放置500小时后的色调的评价。将结果示于表7。
[表7]
根据上述结果,由作为本发明的实施例1~实施例22所得的圆偏光板在高温放置后色调的变化也为容许范围。另一方面可知,由第一相位差层中不含化合物A的比较例1~比较例6所得的圆偏光板在高温放置后可见不能容许的水平的着色。
Claims (7)
1.一种光学膜,其为具有第一相位差层和第二相位差层的光学膜,
第一相位差层由含有至少1种以上的满足下述(式1)的具有3个以上聚合性基团的化合物A以及至少1种以上的满足下述(式2)的化合物B的聚合性组合物的固化物形成,
第二相位差层由含有至少1种以上的满足下述(式1)的化合物和/或满足下述(式2)的化合物B的聚合性组合物的固化物形成,
Re(450)/Re(550)<1(式1)
Re(450)/Re(550)>1(式2)
式中,Re(450)表示将所用的化合物制成膜时在波长450nm处的面内相位差,Re(550)表示将所用的化合物制成膜时在波长550nm处的面内相位差,
并且,第一相位差层表现为nx>ny≒nz,第二相位差层表现为nx≒ny<nz,其中,nz表示厚度方向的折射率,nx表示面内产生最大折射率的方向的折射率,ny表示面内相对于nx的方向正交的方向的折射率。
2.根据权利要求1所述的光学膜,所述化合物A为通式(9)所表示的化合物,
[化1]
式中,P91、P92各自独立地表示聚合性基团,
S91、S92各自独立地表示间隔基或者单键,S91、S92存在多个时它们各自可以相同也可以不同,
X91、X92各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X91、X92存在多个时它们各自可以相同也可以不同,其中,P91-(S91-X91)-以及P92-(S92-X92)-中不包含-O-O-键,
m9、n9各自独立地表示0至5的整数,
MG91表示通式(a9),
[化2]
通式(a9)中,A91、A92各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基或者1,3-二烷-2,5-二基,这些基团可未取代或被1个以上的L1取代,A91和/或A92出现多个时各自可以相同也可以不同,
通式(a9)中,Z91和Z92各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-、-N=CH-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,Z91和/或Z92出现多个时各自可以相同也可以不同,
通式(a9)中,M9表示选自下述式(M-91)至式(M-101)的基团,
[化3]
这些基团可未取代或被1个以上的L1取代,
通式(a9)中,G9为下述通式(G-91)至通式(G-95),
[化4]
式中,R93表示氢原子或碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,另外该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,进一步该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,
W91表示具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团,该基团可未取代或被1个以上的L1取代,
W92表示P93-(S93-X93)j93-所表示的基团,P93表示聚合性基团,S93表示间隔基或者单键,S93存在多个时它们可以相同也可以不同,X93表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X93存在多个时它们可以相同也可以不同,其中,P93-(S93-X93)j93-不包含-O-O-键,j93表示0至10的整数,
W93表示卤原子、氰基、羟基、硝基、羧基、氨基甲酰氧基、氨基、氨磺酰基、具有至少1个芳香族基的碳原子数5至30的基团、碳原子数1至20的烷基、碳原子数3至20的环烷基、碳原子数2至20的烯基、碳原子数3至20的环烯基、碳原子数1至20的烷氧基、碳原子数2至20的酰氧基、或者碳原子数2至20的烷基羰基氧基,所述烷基、环烷基、烯基、环烯基、烷氧基、酰氧基、烷基羰基氧基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,
其中,当上述M9选自式(M-91)~式(M-100)时G9选自式(G-91)~式(G-94),当M9为式(M-101)时G9表示式(G-95),M9和G9中的*表示连接部分,M9中的除*以外的2个连接键分别与所存在的Z91或者A91、所存在的Z92或者A92连接,
L1表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-的基团取代,化合物内L1存在多个时它们可以相同也可以不同,
j91、j92、以及j93分别独立地表示1至5的整数,j91+j92表示2至6的整数。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜,所述第二相位差层所使用的所述满足(式2)的化合物B为通式(1-b)和/或通式(2-b)所表示的化合物,
[化5]
式中,P011、P021以及P022各自独立地表示聚合性基团,
S011、S021以及S022各自独立地表示间隔基或者单键,S011、S021以及S022存在多个时它们各自可以相同也可以不同,
X011、X021以及X022各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,X011、X021以及X022存在多个时它们各自可以相同也可以不同,其中,各P-(S-X)-键不包含-O-O-键,
m11表示0~8的整数,
m02、n02各自独立地表示0至5的整数,
R011表示氢原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、氰基、硝基、异氰基、硫代异氰基、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,该烷基中的任意氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-或者-C≡C-取代,
MG011、MG021各自独立地表示式(b),
[化6]
式(b)中,A83、A84各自独立地表示1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、四氢萘-2,6-二基、十氢萘-2,6-二基或者1,3-二烷-2,5-二基,这些基团可未取代或被1个以上的L2取代,A83和/或A84出现多个时各自可以相同也可以不同,
式(b)中,Z83和Z84各自独立地表示-O-、-S-、-OCH2-、-CH2O-、-CH2CH2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-COO-CH2CH2-、-OCO-CH2CH2-、-CH2CH2-COO-、-CH2CH2-OCO-、-COO-CH2-、-OCO-CH2-、-CH2-COO-、-CH2-OCO-、-CH=CH-、-N=N-、-CH=N-、-N=CH-、-CH=N-N=CH-、-CF=CF-、-C≡C-或者单键,Z83和/或Z84存在多个时各自可以相同也可以不同,
式(b)中,M81表示选自1,4-亚苯基、1,4-亚环己基、1,4-环己烯基、四氢吡喃-2,5-二基、1,3-二烷-2,5-二基、四氢噻喃-2,5-二基、1,4-二环(2,2,2)亚辛基、十氢萘-2,6-二基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡嗪-2,5-二基、噻吩-2,5-二基-、1,2,3,4-四氢萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、萘-1,5-二基、萘-1,6-二基、萘-2,6-二基、菲-2,7-二基、9,10-二氢菲-2,7-二基、1,2,3,4,4a,9,10a-八氢菲-2,7-二基、苯并[1,2-b:4,5-b‘]二噻吩-2,6-二基、苯并[1,2-b:4,5-b‘]二硒吩-2,6-二基、[1]苯并噻吩并[3,2-b]噻吩-2,7-二基、[1]苯并硒吩并[3,2-b]硒吩-2,7-二基、或者芴-2,7-二基的基团,这些基团可未取代或被1个以上的L2取代,
式(b)中,L2表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、异氰基、氨基、羟基、巯基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、三甲基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、硫代异氰基、或者碳原子数1至20的烷基,该烷基可以为直链状也可以为分支状,任意的氢原子可以被氟原子取代,该烷基中的1个-CH2-或者不邻接的2个以上-CH2-各自独立地可以被选自-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或者-C≡C-的基团取代,化合物内L2存在多个时它们可以相同也可以不同,
式(b)中,j83和j84各自独立地表示0至5的整数,j83+j84表示1至5的整数。
4.一种椭圆偏光板,将权利要求1~3中任一项所述的光学膜与偏光板贴合而成。
5.一种显示元件,配置了权利要求1~3中任一项所述的光学膜。
6.一种显示元件,配置了权利要求4所述的椭圆偏光板。
7.一种有机发光显示元件,配置了权利要求4所述的椭圆偏光板。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016220529 | 2016-11-11 | ||
JP2016-220529 | 2016-11-11 | ||
PCT/JP2017/040048 WO2018088384A1 (ja) | 2016-11-11 | 2017-11-07 | 位相差フィルム、楕円偏光板及びそれを用いた表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109923450A true CN109923450A (zh) | 2019-06-21 |
Family
ID=62109576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201780067058.XA Pending CN109923450A (zh) | 2016-11-11 | 2017-11-07 | 相位差膜、椭圆偏光板和使用其的显示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190369315A1 (zh) |
JP (2) | JPWO2018088384A1 (zh) |
KR (1) | KR20190062549A (zh) |
CN (1) | CN109923450A (zh) |
WO (1) | WO2018088384A1 (zh) |
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JP4320125B2 (ja) | 2001-03-06 | 2009-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 位相差膜 |
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-
2017
- 2017-11-07 US US16/349,378 patent/US20190369315A1/en not_active Abandoned
- 2017-11-07 JP JP2018550205A patent/JPWO2018088384A1/ja active Pending
- 2017-11-07 CN CN201780067058.XA patent/CN109923450A/zh active Pending
- 2017-11-07 WO PCT/JP2017/040048 patent/WO2018088384A1/ja active Application Filing
- 2017-11-07 KR KR1020197013502A patent/KR20190062549A/ko not_active Application Discontinuation
-
2020
- 2020-04-06 JP JP2020068295A patent/JP2020160449A/ja active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018088384A1 (ja) | 2018-05-17 |
JPWO2018088384A1 (ja) | 2019-04-18 |
KR20190062549A (ko) | 2019-06-05 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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