CN109856925A - 双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法，两个工件台分别位于曝光区和测量区时可以同步对柔性卷带执行测量和曝光，完成测量和曝光后，两个工件台移动以切换工作区，在工件台移动的过程中控制模块根据测量模块测量的对位数据和/或焦面测量数据控制光罩调整模块对光罩进行调整，并在测量区的柔性卷带到达曝光区后控制曝光模块对曝光区的柔性卷带进行曝光。本发明采用双工件台并行的模式，测量区的工件台上的柔性卷带进行对位和/或焦面测量时，曝光区的工件台上柔性卷带进行同步曝光，在切换工作区过程中，完成对光罩的调整，双工件台同时对柔性卷带进行处理，合理利用时间，减少曝光工序的耗时，有利于提高产能。

Description

双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法。

背景技术

由带状柔性卷带制成的薄膜电路基板广泛应用于移动电话、液晶荧幕以及智能卡等领域中。由带状柔性卷带制成薄膜电路基板的过程通常包括：在带状柔性卷带上涂布光阻的工序、将光罩上的图案转移到光阻上的曝光和显影工序、将光阻上的图案转移到带状柔性卷带上的蚀刻工序。带状柔性卷带通常缠绕在卷轴上，在各工序中，带状柔性卷带从卷轴上卷出至对应的工件台上，进行相应的加工，完成加工后再次卷绕在卷轴上。

目前，曝光工序所采用的工件台只有一个，在曝光过程中，先将带状柔性卷带移至工件台上，然后对所述带状柔性卷带进行对位和/或测量，接着根据对位测量和/或测量的数据调整工件台以对所述带状柔性卷带进行聚焦调整，从而确保所述带状柔性卷带调整至适宜曝光的状态，然后利用曝光模块对所述带状柔性卷带进行曝光。可见，这种曝光方法是对一个带状柔性卷带顺次进行对位测量、聚焦调整及曝光，这个带状柔性卷带完成曝光之后，才开始下一个带状柔性卷带对位测量、聚焦调整及曝光，直至完成所有带状柔性卷带的曝光。即，这种曝光方法是采用对位测量、聚焦调整及曝光先后串行的模式，耗时较长，导致产能较低，不利于大规模量产使用。

发明内容

本发明的目的在于提供一种双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法，减少曝光工序的制程时间，提高产能。

为解决上述技术问题，本发明提供一种双工件台柔性卷带曝光装置，包括：

两个工件台，均用于承载柔性卷带；

曝光模块，位于两个所述工件台之间，包括照明单元、掩摸台及物镜单元，所述照明单元出射光束，所述光束经过所述掩摸台上承载的光罩和所述物镜单元后照射至所述工件台承载的柔性卷带上以进行曝光；

测量模块，用于对其对应的所述工件台上承载的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量；

传送模块，用于向其对应的所述工件台传送所述柔性卷带；

所述曝光模块下方为曝光区；所述测量模块下方为测量区；两个所述工件台分别位于所述曝光区和所述测量区以同步对所述柔性卷带执行测量和曝光；两个所述工件台移动以切换工作区；通过每个工件台对应的测量模块的测量结果使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内和/或实现曝光对准。

可选的，所述柔性卷带上设置有第一对位标记；

所述测量模块包括：第一光源、用于承载对位标记单元的承载台和第一图像获取单元，所述对位标记单元上设置有与所述第一对位标记相对应的第二对位标记；

所述第一光源用于提供对位光线，所述对位光线依次照射至所述第二对位标记和所述第一对位标记并经所述测量区上的柔性卷带反射，反射光线穿过所述对位标记单元至所述第一图像获取单元以获得对位数据。

可选的，所述测量模块还包括：第二光源、投影镜单元、探测镜单元和第二图像获取单元，所述第二光源用于提供测量光线，所述测量光线经所述投影镜单元照射至所述测量区上的柔性卷带表面并被反射，反射光线经所述探测镜单元后至所述第二图像获取单元以获得焦面测量数据。

可选的，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

光罩调整模块，根据所述测量模块的测量结果调整所述光罩以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

可选的，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

控制模块，与所述测量模块、所述光罩调整模块和所述传送模块分别信号连接，并根据所述测量模块的测量结果控制所述光罩调整模块调整所述光罩以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

可选的，所述光罩调整模块包括光罩调整单元和对位标记单元调整单元，所述光罩调整单元根据所述焦面测量数据调整所述光罩沿垂直于所述工件台表面的方向移动，所述对位标记单元调整单元根据所述对位数据调整所述光罩在平行于所述工件台表面的平面内移动。

可选的，所述光罩调整单元包括：第一位移传感器和至少一个第一调整单元，所述第一调整单元包括第一马达和螺杆，所述第一马达用于驱动所述螺杆在垂直于所述工件台表面的方向上移动，从而带动固定于所述掩模台上的光罩移动，所述第一位移传感器用于获取所述掩模台的位移数据。

可选的，所述对位标记单元调整单元包括：第二位移传感器和至少两个第二调整单元，所述第二调整单元包括第二马达、凸轮、弹性元件和第二位移传感器，所述第二马达用于驱动所述凸轮旋转以使所述弹性元件带动所述承载台移动，从而使固定于所述承载台上的对位标记单元在平行于所述工件台表面的平面内移动，所述第二位移传感器用于获取所述承载台的位移数据。

可选的，所述传送模块包括：开卷滚、第一中间导滚、第二中间导滚和收卷滚，所述控制模块控制所述柔性卷带从所述开卷滚传出、经所述第一中间导滚导入所述工件台，在所述工件台上传动后经所述第二中间导滚导入至所述收卷滚。

可选的，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

工件台驱动模块，包括导轨、第三马达及导杆，两个所述工件台均设置于所述导轨上，对应每个所述工件台的传送模块通过导杆连接，所述第三马达用于驱动所述工件台在所述导轨上移动，并使所述工件台对应的传送模块沿所述导杆移动。

可选的，每个所述导杆上均设置有卡扣，所述卡扣的位置与所述曝光模块的位置对应，当所述工件台移动至所述曝光区时，所述工件台对应的传送模块被所述卡扣固定。

可选的，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

工件台调整模块，根据所述测量模块的测量结果调整所述工件台以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

可选的，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

控制模块，与所述测量模块、所述工件台调整模块和所述传送模块信号连接，所述控制模块根据所述测量模块的测量结果控制所述工件台调整模块调整所述工件台使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

可选的，所述工件台调整模块根据所述焦面测量数据调整所述工件台沿垂直于所述工件台表面的方向移动，所述工件台调整模块根据所述对位数据调整所述工件台在平行于所述工件台表面的平面内移动。

可选的，所述工件台的同一侧设置有两个所述测量模块和一个所述曝光模块。

可选的，每个所述工件台的两侧各设置有两个所述测量模块和一个所述曝光模块，且所述工件台两侧的所述物镜单元相互正对，所述工件台两侧的所述测量模块相互正对。

可选的，所述工件台为框架结构或板状结构。

本发明还提供了一种双工件台柔性卷带曝光方法，用于对两个工件台上承载的柔性卷带进行曝光，每个所述工件台对应设置有测量模块，两个所述工件台之间设置有曝光模块，所述曝光模块包括照明单元、承载光罩的掩模台及物镜单元；所述测量模块下方为测量区，所述物镜单元下方为曝光区，

包括如下步骤：

两个所述工件台分别位于所述曝光区和所述测量区时，所述测量模块对所述测量区的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量以获得对位数据和/或焦面测量数据，所述照明单元出射光束，所述光束经过所述光罩和所述物镜单元后照射至所述曝光区的柔性卷带上进行曝光，以使位于所述曝光区的柔性卷带及位于所述测量区的柔性卷带同步执行测量和曝光；

当完成测量和曝光后，两个所述工件台移动以切换工作区并换下曝光完成的柔性卷带，且所述曝光区的柔性卷带曝光之前，通过其对应的测量模块的测量结果使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内和/或实现曝光对准。

可选的，当完成测量和曝光后，位于所述曝光区的工件台移动至所述测量区，位于所述测量区的工件台移动至所述曝光区以切换工作区，且切换工作区后，将位于所述测量区的工件台上曝光完成的柔性卷带换下，并换上新的柔性卷带。

可选的，对第一个柔性卷带子单元进行曝光的步骤包括：

将第一个柔性卷带固定于一个位于所述测量区的工件台上进行对位测量和/或焦面测量，所述第一个柔性卷带完成对位测量和/或焦面测量后，所述工件台从所述测量区移动至所述曝光区，在所述工件台移动的过程中根据所述第一个柔性卷带的测量结果调整所述光罩使所述第一个柔性卷带后续到达所述曝光区后在所述物镜单元的焦深度范围内；

所述第一个柔性卷带到达所述曝光区后，对所述第一个柔性卷带进行曝光，并同步对位于所述测量区的另一个工件台上的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量。

可选的，所述柔性卷带上设置有第一对位标记；所述测量模块包括：第一光源、用于承载对位标记单元的承载台和第一图像获取单元，所述对位标记单元上设置有与所述第一对位标记相对应的第二对位标记；

获得所述对位数据的过程包括：

所述第一光源提供对位光线，所述对位光线依次照射至所述第二对位标记和所述第一对位标记并经所述测量区上的柔性卷带反射，反射光线穿过所述对位标记单元至所述第一图像获取单元以获得对位数据；

根据所述对位数据调整所述光罩或/和所述工件台在平行于所述工件台表面的平面内移动以实现曝光对准。

可选的，所述测量模块还包括：第二光源、投影镜单元、探测镜单元和第二图像获取单元；

获得焦面测量数据的过程包括：

所述第二光源提供测量光线，所述测量光线经所述投影镜单元照射至所述测量区上的柔性卷带表面并被反射，反射光线经所述探测镜单元后至所述第二图像获取单元以获得焦面测量数据；

根据所述焦面测量数据调整所述光罩和/或所述工件台沿垂直于所述工件台表面的方向移动，以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

可选的，所述工件台的同一侧设置有两个所述测量模块和一个所述曝光模块；所述双工件台柔性卷带曝光方法是用于对所述柔性卷带进行单面曝光。

可选的，所述工件台的两侧各设置有两个所述测量模块和一个所述曝光模块，且所述工件台两侧的所述物镜单元相互正对，所述工件台两侧的所述测量模块相互正对；所述双工件台柔性卷带曝光方法是用于对所述柔性卷带进行双面曝光。

本发明提供的双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法，两个工件台分别位于所述曝光区和所述测量区时可以同步对所述柔性卷带执行测量和曝光，完成测量和曝光后，两个所述工件台移动以切换工作区，在工件台移动的过程中控制模块根据所述测量模块测量的对位数据和/或焦面测量数据控制光罩调整模块对光罩进行调整，并在测量区的柔性卷带到达曝光区后控制曝光模块对曝光区的柔性卷带进行曝光。本发明采用双工件台并行的模式，测量区的工件台上的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量时，曝光区的工件台上柔性卷带进行同步曝光，在两个所述工件台移动以切换工作区过程中，完成对光罩的调整，双工件台同时对柔性卷带进行处理，合理利用时间，减少曝光工序的耗时，有利于提高产能。

附图说明

图1a是本发明实施例提供的可进行双面曝光的双工件台柔性卷带曝光装置的结构示意图；

图1b是本发明实施例提供的可进行双面曝光的双工件台柔性卷带曝光装置的另一结构示意图；

图2是本发明实施例提供的双工件台柔性卷带曝光装置中的测量模块的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的双工件台柔性卷带曝光装置中的测量模块的对位测量过程的示意图；

图4是本发明实施例提供的双工件台柔性卷带曝光装置的测量模块的焦面测量过程的示意图；

图5是本发明实施例提供的双工件台柔性卷带曝光装置的光罩调整模块的结构示意图；

图6是本发明实施例提供的双工件台柔性卷带曝光装置的对位标记单元调整单元的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的可进行单面曝光的双工件台柔性卷带曝光装置的结构示意图；

图8是本发明实施例提供的双工件台柔性卷带曝光方法的流程示意图；

其中，附图标记如下：

11-工件台；111-测量区；112-曝光区；

M1-光罩；M2-对位标记单元；M21-第二对位标记；

20-测量模块；201-第一光源；202-第一图像获取单元；

203-第二光源；204-投影镜单元；205-探测镜单元；206-第二图像获取单元；

30-曝光模块；301-第三光源；302-投影透镜；

40-光罩调整模块；41-光罩调整单元；411-第一马达；412-螺杆；413-第一位移传感器；42-对位标记单元调整单元；421-第二马达；422-凸轮；423-弹性元件；424-第二位移传感器；

50-控制模块；

61-传送模块；611-开卷滚；612-第一中间导滚；613-第二中间导滚；614-收卷滚；

701-掩模台；702-承载台；

80-柔性卷带；

90-压板；

01-工件台驱动模块；011-导轨；012-第三马达；013-导杆；014-卡扣。

具体实施方式

如背景技术所述，传统的曝光方法是对一个带状柔性卷带依次进行对位测量、聚焦调整及曝光，一个带状柔性卷带完成上述所有工序之后，才对下一个带状柔性卷带进行对位测量、聚焦调整及曝光，这种对位测量、聚焦调整、曝光先后串行的模式，耗时较长，导致产能较低。

本发明采用双工件台并行的模式，测量区的工件台上的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量时，曝光区的工件台上柔性卷带进行同步曝光，在两个所述工件台移动以切换工作区过程中，完成对光罩的调整，双工件台同时对柔性卷带进行处理，合理利用时间，减少曝光工序的耗时，有利于提高产能。

以下结合附图1a至8对本实施例提出的双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法作进一步详细说明。根据下面说明，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用于方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

所述双工件台柔性卷带曝光装置可进行双面曝光，以提高曝光效率。图1a及图1b是一种可进行双面曝光的双工件台柔性卷带曝光装置的结构示意图，如图1a和图1b所示，这种能够进行双面曝光的双工件台柔性卷带曝光装置(也可称之为双面双工件台柔性卷带曝光装置)，包括：两个工件台11、两个传送模块61、四个测量模块20、两个曝光模块30、两个光罩调整模块40、工件台驱动模块01及控制模块50。所述控制模块50分别与所述测量模块20、所述曝光模块30、所述光罩调整模块40、工件台驱动模块01以及传送模块61信号连接。两个测量区111位于与所述测量模块20相对应的位置；曝光区112位于与所述曝光模块30相对应的位置。自然状态下，两个所述工件台11均位于所述测量区111，每个所述工件台11的两侧均与一个所述测量模块20对准，所述曝光区112位于两个所述测量区111之间，且两个所述测量区111与所述曝光区112之间的距离均相等。

所述测量区111的上下两侧各设置有一个所述测量模块20，所述曝光区112的上下两侧各设置有一个所述曝光模块30。所述工件台11的两侧的曝光模块30可相互对准，定期维护期间可以实现校准，以便生产过程中能实现上下两侧的曝光模块30对柔性卷带80同一位置正面和反面曝光的一致性。本实施例中双工件台柔性卷带曝光装置对柔性卷带80进行双面曝光，位于工件台11上方的测量模块20和曝光模块30实现对柔性卷带80正面的对位和曝光；位于工件台11下方的测量模块20和曝光模块30实现对柔性卷带80背面的对位和曝光。

作为示例，所述柔性卷带为带状柔性卷带，所有要进行曝光的带状柔性卷带可以顺次连接在一起从而构成一个连续的长条状的结构。所述柔性卷带例如是用于形成薄膜电路基板的带状柔性卷带。

所述工件台11例如是采用框架结构，所述带状柔性卷带搭在所述工件台11上，所述带状柔性卷带的上下表面均被暴露出来。具体的，所述工件台11可以是一矩形框架。可在矩形框架的中央位置设置横梁，以更好地支撑柔性卷带。还可在矩形框架的角落处设置压板90，通过压板90可进一步固定柔性卷带，防止柔性卷带移动。所述压板90的数量例如是六个，分布于所述矩形框架的四个角落以及横梁与矩形框架的连接处。

作为示例，每个所述工件台11均对应一个所述传送模块61，所述传送模块61包括平行设置的开卷滚611、第一中间导滚612、第二中间导滚613和收卷滚614，所述控制模块50控制所述带状柔性卷带从所述开卷滚611传出、经所述中间导滚612导入所述工件台后11固定，完成相应工位的工序后松开，带状柔性卷带经第二中间导滚613导入至所述收卷滚614。具体的所述带状柔性卷带边缘可以设置孔洞计数控制柔性卷带的传送长度，在其它实施例中，也可以设置位移传感器监控带状柔性卷带的传送长度。

本实施例中，所述工件台驱动模块01包括导轨011、第三马达012及导杆013，所述导轨011铺设在两个所述工件台11移动的路径上，两个所述工件台11均设置于所述导轨011上，所述第三马达012能够驱动所述工件台11在所述导轨011上移动。进一步，每个所述工件台11对应的传送模块61的开卷滚611通过所述导杆013相连，每个所述工件台11对应的传送模块61的收卷滚614也通过所述导杆013相连，以使所述第三马达012驱动所述工件台11移动时，其对应的传送模块61能够一起稳定的移动。可选的，每个所述导杆013上均设置有一卡扣014，所述卡扣014的位置与所述曝光模块30的位置对应，当所述工件台11从所述测量区111移动至所述曝光区后，所述卡扣014能够卡牢所述开卷滚611和收卷滚614，以防止在曝光过程中所述工件台11产生移位。

如图2至图4所示，双工件台柔性卷带曝光装置还包括用于承载对位标记单元M2的承载台702，所述对位标记单元M2上设置有与所述柔性卷带上的第一对位标记相对应的第二对位标记M21。所述测量模块20包括第一光源201和第一图像获取单元202，所述第一光源201和所述第一图像获取单元202均位于所述对位标记单元M2远离所述工件台11的一侧。所述第一光源201用于提供对位光线，所述对位光线依次照射至所述第二对位标记M21和所述测量区111上的柔性卷带上的所述第一对位标记并经所述测量区111上的柔性卷带反射，反射光线穿过所述对位标记单元M2至所述第一图像获取单元202以获得对位数据。

所述测量模块20还包括第二光源203、投影镜单元204、探测镜单元205和第二图像获取单元206，所述第二光源203提供用于焦面测量的测量光线，所述测量光线经所述投影镜单元204照射至所述测量区111上的柔性卷带表面反射，反射光线经所述探测镜单元205后至所述第二图像获取单元206以获得焦面测量数据，所述焦面测量数据例如是焦面测试数据。

如图5和图6所示，光罩调整模块40包括光罩调整单元41和对位标记单元调整单元42。

如图5所示，光罩调整单元41调整掩模台701上的所述光罩M1沿垂直于所述工件台11表面的方向上移动。光罩调整单元41包括第一位移传感器413和至少一个第一调整单元，所述第一调整单元包括第一马达411和螺杆412，所述第一马达411驱动所述螺杆412在垂直于所述工件台11表面的方向上上下移动，从而带动固定于掩模台701上的所述光罩M1在竖直于所述工件台11表面的方向上上下移动，所述第一位移传感器413用于测试所述掩模台701在垂直于所述工件台11表面的方向上移动，所述第一位移传感器413例如为光栅尺。优选地，光罩调整单元41包括两个第一调整单元，分别安装于所述掩模台701的两侧。

如图6所示，所述对位标记单元调整单元42用于调整所述掩模台701在平行于所述工件台11表面的平面内移动。对位标记单元调整单元42包括第二位移传感器424和至少两个第二调整单元，所述掩模台701例如为矩形，每个所述第二调整单元安装于所述掩模台701的一个角上，当第二调整单元为两个时，安装于所述掩模台701的对角上。当第二调整单元为三个时，安装于所述掩模台701的任意三个角上。每个所述第二调整单元包括第二马达421、凸轮422和弹性元件423，所述马达421驱动所述凸轮422旋转以使所述弹性元件423带动所述掩模台701移动，使固定于掩模台701上的所述光罩M1在平行于所述工件台11表面的平面内移动，例如为旋转。弹性元件423例如为弹簧，起弹性支撑作用。具体的，每个凸轮422通过分布于所述掩模台701角两侧的两个弹性元件423与所述掩模台701连接，所述凸轮422旋转时使其中一个弹性元件423压缩，另一个弹性元件423拉伸以驱动掩模台701旋转。第二位移传感器424分别测试平行于所述工件台11表面的平面内相互垂直的两个方向(X方向和Y方向)的位移，从而得到旋转精度。所述掩模台701例如为矩形，相邻的矩形边分别沿所述X方向和Y方向设置。所述位移传感器424例如为光栅尺。

继续参照图1a所示，所述曝光模块30包括：第三光源301、掩模台701和投影透镜302，所述掩模台701位于所述第三光源301与所述投影透镜302之间，所述光罩M1固定在所述掩模台701上。设置第三光源301的光轴方向垂直于移动过来的工件台11表面，工件台11通常水平设置。所述第三光源301用于提供曝光光线，所述曝光光线照射至所述掩模台701上的所述光罩M1，经所述投影透镜302将光线聚焦在所述曝光区112的柔性卷带上进行曝光，更具体的是聚焦到所述待曝光的柔性卷带表面的光阻上。光线聚集点为焦点，焦点是经投影透镜302聚焦后出现最佳图像的点，焦点所在水平面为焦平面，焦深度(DOF)为能使聚焦图像保持清晰的位于焦平面两侧的上限平面到下限平面的距离。光刻工艺中，焦点可能不是正好位于光阻的上下表面的中间，但是焦深度(DOF)应该穿越光阻上下表面，这样才能保证曝光范围内整个厚度的光阻均成像清晰。

本实施例通过调整光罩M1在垂直于所述工件台11表面的方向上移动，使位于所述曝光区112上的柔性卷带表面的光阻上下表面均在曝光光线经所述掩模台701上的所述光罩M1到达所述投影透镜302将光线聚焦的焦深度(DOF)范围内，以使所述曝光区112上的柔性卷带表面的光阻连续清晰的曝光。

本实施例中两个工件台11在整个曝光过程中在所述测量区111和所述曝光区112之间不断来回移动，例如图1b中，左方的工件台11在左边的测量区111处向右移动到达中间的所述曝光区112，曝光完成后，又向右移动返回左边的测量区111。所述控制模块50用于控制所述曝光模块30对曝光区112上的柔性卷带进行曝光，同时控制所述测量模块20对测量区111上的柔性卷带进行对位和/或测量(只有工件台11在测量区111时，其对应的测量模块20才会进行测量)；并控制两个所述工件台11工作区的切换，每执行一次测量和曝光后，控制所述传送模块61将所述曝光区112上完成曝光的所述柔性卷带换下并更换上新的柔性卷带，在传送的过程中所述控制模块50根据所述柔性卷带的对位数据和/或焦面测量数据控制所述光罩调整模块40对所述光罩M1进行调整；并在所述测量区111上的柔性卷带到达所述曝光区112后控制所述曝光模块30进行曝光，同时控制所述测量模块20对所述测量区111上的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量。

应当理解，对于第一个柔性卷带，将第一个柔性卷带固定在任一个所述工件台11上进行对位测量和/或焦面测量，完成对位测量和/或测量后将所述第一个柔性卷带自测量区111移动至所述曝光区112，在工件台11移动的过程中所述控制模块50根据所述第一个柔性卷带的对位数据和/或焦面测量数据控制所述光罩调整模块40对光罩M1进行调整；所述第一个柔性卷带到达所述曝光区112后，所述控制模块50控制所述曝光模块30对所述第一个柔性卷带进行曝光，同时控制所述测量模块20对另一个所述测量区111上的柔性卷带进行对位测量和/或测量。

完成曝光、对位测量和/或测量时所述柔性卷带80通过真空吸附固定，柔性卷带80表面设置压板90以防止柔性卷带移动；完成柔性卷带80传送时，将所述柔性卷带80松开。

所述测量模块20获得的所述测试数据和所述对位数据通过所述控制模块50进行坐标转换，使得对位标记单元M2上的所述第二对位标记M21与所述光罩M1上的标记精确对应与匹配，根据所述测试数据和所述对位数据所述控制模块50匹配相应的焦面补偿数据和对位偏差补偿数据控制所述光罩调整模块40调整所述掩模台701，因光罩M1固定在掩模台701上，故通过光罩调整模块40最终调整光罩M1。通过光罩调整单元41调整掩模台701上的所述光罩M1沿垂直于所述工件台11表面的方向上移动，以使所述曝光区112上的柔性卷带在焦深度(DOF)范围内能清晰曝光。通过对位标记单元调整单元42调整所述掩模台701在平行于所述工件台11表面的平面内旋转，使曝光过程精确对位。

进一步的，柔性卷带80在传送过程中可能会有倾斜(例如传送方向的柔性卷带两侧边缘与第一中间导滚612的轴线不垂直，有偏移)可通过角位移传感器测量，获得柔性卷带倾斜数据。此时，需要将倾斜数据通过所述控制模块50进行坐标转换，控制模块50综合所述焦面测量数据(例如是焦面测试数据)、对位数据以及倾斜数据匹配相应的补偿数据控制光罩调整模块40调整所述光罩M1。所述光罩M1在平行于所述工件台11表面的平面内调整的误差包括所对位时相错开引起的偏差和柔性卷带在传送过程中的倾斜偏差。控制模块50通过对位标记单元调整单元42调整所述掩模台701在平行于所述工件台11表面的平面内旋转，使曝光过程精确对位。控制模块50通过光罩调整单元41调整掩模台701上的所述光罩M1沿垂直于所述工件台11表面的方向上移动，以使所述曝光区112上的柔性卷带在焦深度(DOF)范围内能清晰曝光。

应理解，这种双面双工件台柔性卷带曝光装置，实际上也可以进行单面曝光。仅使用工件台11上方或下方在同一侧的所述测量模块20、曝光模块30以及光罩调整模块40即可。即所述双工件台柔性卷带曝光装置也可是一种只能进行单面曝光的装置，以简化机台结构，降低设备制造成本。图7是一种可进行单面曝光的双工件台柔性卷带曝光装置的结构示意图，如图7所示，这种仅能进行单面曝光的双工件台柔性卷带曝光装置(也可称之为单面双工件台柔性卷带曝光装置)，包括两个所述测量模块20、一个所述曝光模块30以及一个所述光罩调整模块40，且均位于所述工件台11的同一侧。本实施例中双工件台柔性卷带曝光装置对柔性卷带80进行单面曝光。单面双工件台柔性卷带曝光装置的工件台11可采用平板结构或框架结构。

基于此，本实施例还提供一种双工件台柔性卷带曝光方法，如图1a和图8所示，该方法基于双工件台柔性卷带曝光装置，曝光过程包括：

控制模块50控制一个所述工件台11移动至所述曝光区112，另一个所述工件台11移动至所述测量区111，两个所述工件台分别位于所述曝光区112和所述测量区111后，控制所述曝光模块30对位于所述曝光区112上的柔性卷带进行曝光，并且所述控制模块50同步控制另一个工件台11对应的测量模块20对所述测量区111的柔性卷带进行对位测量和/或测量；

位于所述曝光区112的工件台11上的柔性卷带完成曝光后且位于所述测量区111的工件台11上的柔性卷带完成测量后，所述控制模块50控制所述工件台驱动单元01驱动两个所述工件台11同步运动，将位于所述曝光区112的工件台11移动至所述测量区111，将位于所述测量区111的工件台11移动至所述曝光区112，此时所述传送模块61将完成曝光的所述柔性卷带换下并换上新的柔性卷带，在两个所述工件台11同步运动所述控制模块50根据所述柔性卷带的对位数据和/或焦面测量数据控制光罩调整模块40对光罩M1进行调整。当两个所述工件台11切换好工作区后，所述控制模块50再次控制测量模块20及曝光模块30同步执行测量和曝光。

进一步的，对第一个柔性卷带的曝光过程包括：

将第一个柔性卷带固定在一个所述工件台11上，所述第一个柔性卷带完成对位和/或测量后，将所述第一个柔性卷带对应的工件台11自所述测量区111移动至所述曝光区112，在传送的过程中所述控制模块50根据所述第一个柔性卷带的对位数据和/或焦面测量数据控制所述光罩调整模块40对光罩M1进行调整；

所述第一个柔性卷带到达所述曝光区112后，所述控制模块50控制所述曝光模块30对所述第一个柔性卷带进行曝光，同时控制所述测量模块20对另一个所述工件台上的柔性卷带进行对位和/或测量。

如图1a和图2所示，所述测量模块20包括第一光源201和第一图像获取单元202；获得所述对位数据的过程包括：所述第一光源201提供对位光线，所述对位光线依次照射至所述第二对位标记M21和所述第一对位标记并经所述测量区上的柔性卷带反射，反射光线穿过所述对位标记单元M2至所述第一图像获取单元202以获得对位数据；所述控制模块50根据所述后一个柔性卷带的所述对位数据控制所述光罩调整模块40调整所述掩模台701上的光罩M1在平行于所述工件台11表面的平面内移动。

所述测量模块20还包括：第二光源203、投影镜单元204、探测镜单元205和第二图像获取单元206；获得焦面测量数据的过程包括：所述第二光源203用于提供测量光线，所述测量光线经所述投影镜单元204照射至所述测量区111上的柔性卷带表面并被反射，反射光线经所述探测镜单元205后至所述第二图像获取单元206以获得焦面测量数据；所述控制模块50根据所述后一个柔性卷带的所述焦面测量数据控制所述光罩调整模块40调整所述掩模台701上的光罩M1沿垂直于所述工件台11表面的方向移动。

如图1a和图5所示，所述光罩调整模块40包括光罩调整单元41，所述光罩调整单元41包括：第一位移传感器413和至少一个第一调整单元，所述第一调整单元包括第一马达411和螺杆412，所述第一马达411用于驱动所述螺杆412在垂直于所述工件台11表面的方向上移动，从而带动固定于所述掩模台701上的光罩M1移动，所述第一位移传感器413用于获取所述掩模台701的位移数据。

如图1a和图6所示，所述光罩调整模块40还包括对位标记单元调整单元42，所述对位标记单元调整单元42包括：第二位移传感器424和至少两个第二调整单元，所述第二调整单元包括第二马达421、凸轮422、弹性元件423和第二位移传感器424，所述第二马达421用于驱动所述凸轮422旋转以使所述弹性元件423带动所述承载台702移动，从而使固定于所述承载台702上的对位标记单元M2在平行于所述工件台11表面的平面内移动，所述第二位移传感器424用于获取所述承载台702的位移数据。

如图1a所示，所述柔性卷带80为带状柔性卷带，所述传送模块61包括平行设置的开卷滚611、第一中间导滚612、第二中间导滚613和收卷滚614；所述控制模块50控制所述柔性卷带80从所述开卷滚611传出，并经所述第一中间导滚612导入所述工件台11并固定；所述柔性卷带80自所述曝光区112传出时，经所述第二中间导滚导613入至所述收卷滚614。

如图1a所示，所述曝光模块30包括：第三光源301、掩模台701及投影透镜302，所述掩模台701位于所述第三光源301与所述投影透镜302之间，所述曝光过程包括：所述第三光源301提供曝光光线，所述曝光光线照射至所述掩模台701上的所述光罩M1，经所述投影透镜302聚焦在位于所述曝光区112的柔性卷带上以进行曝光。

继续如图1a所示，所述工件台11的两侧各设置有两个所述测量模块20、一个所述曝光模块30以及一个所述光罩调整模块40，所述工件台11的两侧的所述测量模块20及曝光模块30彼此相互正对；所述曝光方法是用于对所述柔性卷带进行双面曝光。

如图7所示，所述工件台11的同一侧设置有两个所述测量模块20、一个所述曝光模块30以及一个所述光罩调整模块40，所述曝光方法是用于对所述柔性卷带进行单面曝光。

终上，本发明通过双工件台切换工作区，在对曝光区进行曝光的同时，对测量区进行对位测量和/或焦面测量，双工件台并列进行；双工件台移动以切换工作区的过程中，完成对所述光罩的调整，双工件台同时对柔性卷带进行处理合理利用时间，减少曝光工序制程时间，提高产能。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的方法而言，由于与实施例公开的装置相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见装置部分说明即可。

上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (24)

1.一种双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，包括：

两个工件台，均用于承载柔性卷带；

曝光模块，位于两个所述工件台之间，包括照明单元、掩模台及物镜单元，所述照明单元出射光束，所述光束经过所述掩摸台上承载的光罩和所述物镜单元后照射至所述工件台承载的柔性卷带上以进行曝光；

测量模块，用于对其对应的所述工件台上承载的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量；

传送模块，用于向其对应的所述工件台传送所述柔性卷带；

所述曝光模块下方为曝光区；所述测量模块下方为测量区；两个所述工件台分别位于所述曝光区和所述测量区以同步对所述柔性卷带执行测量和曝光；两个所述工件台移动以切换工作区；通过每个工件台对应的测量模块的测量结果使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内和/或实现曝光对准。

2.如权利要求1所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述柔性卷带上设置有第一对位标记；

所述测量模块包括：第一光源、用于承载对位标记单元的承载台和第一图像获取单元，所述对位标记单元上设置有与所述第一对位标记相对应的第二对位标记；

所述第一光源用于提供对位光线，所述对位光线依次照射至所述第二对位标记和所述第一对位标记并经所述测量区上的柔性卷带反射，反射光线穿过所述对位标记单元至所述第一图像获取单元以获得对位数据。

3.如权利要求2所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述测量模块还包括：第二光源、投影镜单元、探测镜单元和第二图像获取单元，所述第二光源用于提供测量光线，所述测量光线经所述投影镜单元照射至所述测量区上的柔性卷带表面并被反射，反射光线经所述探测镜单元后至所述第二图像获取单元以获得焦面测量数据。

4.如权利要求3所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

光罩调整模块，根据所述测量模块的测量结果调整所述光罩以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

5.如权利要求4所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

控制模块，与所述测量模块、所述光罩调整模块和所述传送模块分别信号连接，并根据所述测量模块的测量结果控制所述光罩调整模块调整所述光罩以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

6.如权利要求4所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述光罩调整模块包括光罩调整单元和对位标记单元调整单元，所述光罩调整单元根据所述焦面测量数据调整所述光罩沿垂直于所述工件台表面的方向移动，所述对位标记单元调整单元根据所述对位数据调整所述光罩在平行于所述工件台表面的平面内移动。

7.如权利要求6所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述光罩调整单元包括：第一位移传感器和至少一个第一调整单元，所述第一调整单元包括第一马达和螺杆，所述第一马达用于驱动所述螺杆在垂直于所述工件台表面的方向上移动，从而带动固定于所述掩模台上的光罩移动，所述第一位移传感器用于获取所述掩模台的位移数据。

8.如权利要求6所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述对位标记单元调整单元包括：第二位移传感器和至少两个第二调整单元，所述第二调整单元包括第二马达、凸轮、弹性元件和第二位移传感器，所述第二马达用于驱动所述凸轮旋转以使所述弹性元件带动所述承载台移动，从而使固定于所述承载台上的对位标记单元在平行于所述工件台表面的平面内移动，所述第二位移传感器用于获取所述承载台的位移数据。

9.如权利要求5所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述传送模块包括：开卷滚、第一中间导滚、第二中间导滚和收卷滚，所述控制模块控制所述柔性卷带从所述开卷滚传出、经所述第一中间导滚导入所述工件台，在所述工件台上传动后经所述第二中间导滚导入至所述收卷滚。

10.如权利要求1所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

工件台驱动模块，包括导轨、第三马达及导杆，两个所述工件台均设置于所述导轨上，对应每个所述工件台的传送模块通过导杆连接，所述第三马达用于驱动所述工件台在所述导轨上移动，并使所述工件台对应的传送模块沿所述导杆移动。

11.如权利要求10所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，每个所述导杆上均设置有卡扣，所述卡扣的位置与所述曝光模块的位置对应，当所述工件台移动至所述曝光区时，所述工件台对应的传送模块被所述卡扣固定。

12.如权利要求3所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

工件台调整模块，根据所述测量模块的测量结果调整所述工件台以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

13.如权利要求12所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

控制模块，与所述测量模块、所述工件台调整模块和所述传送模块信号连接，所述控制模块根据所述测量模块的测量结果控制所述工件台调整模块调整所述工件台使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

14.如权利要求12所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述工件台调整模块根据所述焦面测量数据调整所述工件台沿垂直于所述工件台表面的方向移动，所述工件台调整模块根据所述对位数据调整所述工件台在平行于所述工件台表面的平面内移动。

15.如权利要求4或12所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述工件台的同一侧设置有两个所述测量模块和一个所述曝光模块。

16.如权利要求4或12所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，每个所述工件台的两侧各设置有两个所述测量模块和一个所述曝光模块，且所述工件台两侧的所述物镜单元相互正对，所述工件台两侧的所述测量模块相互正对。

17.如权利要求1所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述工件台为框架结构或板状结构。

18.一种双工件台柔性卷带曝光方法，其特征在于，用于对两个工件台上承载的柔性卷带进行曝光，每个所述工件台对应设置有测量模块，两个所述工件台之间设置有曝光模块，所述曝光模块包括照明单元、承载光罩的掩模台及物镜单元；所述测量模块下方为测量区，所述物镜单元下方为曝光区，

包括如下步骤：

两个所述工件台分别位于所述曝光区和所述测量区时，所述测量模块对所述测量区的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量以获得对位数据和/或焦面测量数据，所述照明单元出射光束，所述光束经过所述光罩和所述物镜单元后照射至所述曝光区的柔性卷带上进行曝光，以使位于所述曝光区的柔性卷带及位于所述测量区的柔性卷带同步执行测量和曝光；

当完成测量和曝光后，两个所述工件台移动以切换工作区并换下曝光完成的柔性卷带，且所述曝光区的柔性卷带曝光之前，通过其对应的测量模块的测量结果使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内和/或实现曝光对准。

19.如权利要求18所述的一种双工件台柔性卷带曝光方法，其特征在于，当完成测量和曝光后，位于所述曝光区的工件台移动至所述测量区，位于所述测量区的工件台移动至所述曝光区以切换工作区，且切换工作区后，将位于所述测量区的工件台上曝光完成的柔性卷带换下，并换上新的柔性卷带。

20.如权利要求19所述的一种双工件台柔性卷带曝光方法，其特征在于，对第一个柔性卷带子单元进行曝光的步骤包括：

将第一个柔性卷带固定于一个位于所述测量区的工件台上进行对位测量和/或焦面测量，所述第一个柔性卷带完成对位测量和/或焦面测量后，所述工件台从所述测量区移动至所述曝光区，在所述工件台移动的过程中根据所述第一个柔性卷带的测量结果调整所述光罩使所述第一个柔性卷带后续到达所述曝光区后在所述物镜单元的焦深度范围内；

所述第一个柔性卷带到达所述曝光区后，对所述第一个柔性卷带进行曝光，并同步对位于所述测量区的另一个工件台上的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量。

21.如权利要求18所述的一种双工件台柔性卷带曝光方法，其特征在于，所述柔性卷带上设置有第一对位标记；所述测量模块包括：第一光源、用于承载对位标记单元的承载台和第一图像获取单元，所述对位标记单元上设置有与所述第一对位标记相对应的第二对位标记；

获得所述对位数据的过程包括：

所述第一光源提供对位光线，所述对位光线依次照射至所述第二对位标记和所述第一对位标记并经所述测量区上的柔性卷带反射，反射光线穿过所述对位标记单元至所述第一图像获取单元以获得对位数据；

根据所述对位数据调整所述光罩或/和所述工件台在平行于所述工件台表面的平面内移动以实现曝光对准。

22.如权利要求21所述的一种双工件台柔性卷带曝光方法，其特征在于，所述测量模块还包括：第二光源、投影镜单元、探测镜单元和第二图像获取单元；

获得焦面测量数据的过程包括：

所述第二光源提供测量光线，所述测量光线经所述投影镜单元照射至所述测量区上的柔性卷带表面并被反射，反射光线经所述探测镜单元后至所述第二图像获取单元以获得焦面测量数据；

根据所述焦面测量数据调整所述光罩和/或所述工件台沿垂直于所述工件台表面的方向移动，以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

23.如权利要求18至22中任一项所述的一种双工件台柔性卷带曝光方法，其特征在于，所述工件台的同一侧设置有两个所述测量模块和一个所述曝光模块；所述双工件台柔性卷带曝光方法是用于对所述柔性卷带进行单面曝光。

24.如权利要求18至22中任一项所述的一种双工件台柔性卷带曝光方法，其特征在于，所述工件台的两侧各设置有两个所述测量模块和一个所述曝光模块，且所述工件台两侧的所述物镜单元相互正对，所述工件台两侧的所述测量模块相互正对；所述双工件台柔性卷带曝光方法是用于对所述柔性卷带进行双面曝光。