CN109801561A - 窗口构件以及包括窗口构件的显示设备 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及窗口构件以及包括窗口构件的显示设备。根据本发明构思的实施例的窗口构件包括：具有第一厚度的第一基底构件、布置在第一基底构件的一个表面上并且具有第二厚度和小于第一基底构件的储能模量的储能模量的第一冲击吸收层、布置在第一冲击吸收层上的第一硬涂层以及布置在第一基底构件的与该一个表面相对的另一个表面上的第二硬涂层。在此，第二厚度与第一厚度的比率等于或大于大约1.0且等于或小于大约1.67。第一基底构件相对于沿一个方向延伸的弯曲轴被弯曲。

Description

窗口构件以及包括窗口构件的显示设备
相关申请交叉引用
本专利申请要求于2017年11月16日提交的韩国专利申请第10-2017-0153371号的优先权，其全部公开通过引用被并入本文。
技术领域
本公开在此涉及窗口构件以及包括窗口构件的显示设备，并且更具体地，涉及具有柔性特性以及相对于外部冲击的改善的抗冲击性的窗口构件以及包括窗口构件的显示设备。
背景技术
近年来，已经积极地开发了可弯曲或可折叠的电子设备。这种柔性电子设备包括诸如柔性显示面板或柔性触摸面板等电子面板以及各种外部构件。外部构件分别具有不同的功能。每个外部构件布置在电子设备的一个表面和另一个表面中的至少一个上。外部构件与电子设备一起卷绕、弯曲或折叠。
外部构件需要具有相对柔性的特性以便于卷绕、弯曲或折叠。尽管在外部构件具有柔性特性时，相对于由弯曲引起的应力的可靠性可以被改善，但是相对于外部冲击的可靠性可能被降低。
发明内容
本公开提供了具有改善的柔性以及相对于外部冲击的改善的抗冲击性的窗口构件。
本公开还提供了防止显示模块被外部冲击损伤同时保持柔性的柔性显示设备。
本发明构思的实施例提供了窗口构件，窗口构件包括：第一基底构件，具有第一厚度；第一冲击吸收层，布置在第一基底构件的一个表面上并且具有小于第一基底构件的储能模量的储能模量且具有第二厚度；第一硬涂层，布置在第一冲击吸收层上；以及第二硬涂层，布置在第一基底构件的与该一个表面相对的另一个表面上。在此，第二厚度与第一厚度的比率等于或大于大约1.0且等于或小于大约1.67。
在实施例中，第一厚度可以等于或大于大约30μm且等于或小于大约55μm，并且第二厚度可以等于或大于大约45μm且等于或小于大约55μm。
在实施例中，窗口构件还可以包括：第二冲击吸收层，布置在第一硬涂层上并且具有与第二厚度大体相同的厚度；以及第三硬涂层，布置在第二冲击吸收层上。
在实施例中，窗口构件还可以包括：第二基底构件，布置在第一基底构件和第二硬涂层之间并且具有第三厚度；以及粘合构件，布置在第一基底构件和第二基底构件之间以将第一基底构件耦接至第二基底构件。
在实施例中，第三厚度与第一厚度的比率可以等于或大于大约1.0且等于或小于大约1.67。
在实施例中，第三厚度可以等于或大于大约45μm且等于或小于大约55μm。
在实施例中，第二基底构件可以具有面对第一基底构件的一个表面以及与该一个表面相对的另一个表面，并且第二硬涂层可以接触第二基底构件的另一个表面。
在实施例中，窗口构件还可以包括：第三冲击吸收层，布置在第一基底构件和第二硬涂层之间，并且具有小于第一基底构件的储能模量的储能模量和与第二厚度大体相同的厚度。
在实施例中，窗口构件还可以包括：功能层，布置在第二硬涂层上；以及底漆层(primer layer)，布置在功能层与第二硬涂层之间以增大功能层和第二硬涂层之间的粘合力。
在实施例中，第一基底构件可以包括：弯曲区域，沿着在第一方向上延伸的弯曲轴是可弯曲的；以及平坦区域，限定为与弯曲区域相邻的区域。
在实施例中，第一基底构件可以包括聚酰亚胺。
在实施例中，第一冲击吸收层可以包括聚氨酯、硅基聚合物或橡胶。
在实施例中，第一基底构件可以具有等于或大于大约3.5GPa且等于或小于大约7.0GPa的储能模量，并且第一冲击吸收层可以具有等于或大于大约45MPa且等于或小于大约50MPa的储能模量。
在实施例中，第一冲击吸收层可以接触第一基底构件的一个表面，并且第一硬涂层可以接触第一冲击吸收层的一个表面。
在实施例中，第一硬涂层可以具有等于或大于大约5μm且等于或小于大约10μm的厚度。
在本发明构思的实施例中，窗口构件包括：第一基底构件，相对于沿着一个方向延伸的弯曲轴是可弯曲的；第一冲击吸收层，布置在第一基底构件的一个表面上并且具有小于第一基底构件的储能模量的储能模量；第一硬涂层，布置在第一冲击吸收层上；第二硬涂层，布置在第一基底构件的与该一个表面相对的另一个表面上；以及第二基底构件，布置在第一基底构件和第二硬涂层之间。
在本发明构思的实施例中，显示设备包括：显示模块，具有配置用于显示图像的顶表面以及与顶表面相对的后表面；以及窗口构件，布置在显示模块的顶表面上。窗口构件包括：第一硬涂层，布置在顶表面上；第一冲击吸收层，布置在第一硬涂层上；第一基底构件，布置在第一冲击吸收层上；以及第二硬涂层，布置在第一基底构件上。在此，第一冲击吸收层的厚度与第一基底构件的厚度的比率等于或大于大约1.0且等于或小于大约1.67。
在实施例中，第一硬涂层可以接触显示模块的一个表面，第一冲击吸收层可以接触第一硬涂层的一个表面，并且第一基底构件可以接触第一冲击吸收层的一个表面。
在实施例中，窗口构件可以包括：弯曲区域，沿着在第一方向上延伸的弯曲轴是可弯曲的；以及平坦区域，限定为与弯曲区域相邻的区域。
附图说明
包括附图以提供对本发明构思的进一步理解，并且附图包含在说明书中并构成说明书的一部分。附图图示了本发明构思的示例性实施例，并且与说明书一起用于解释本发明构思的原理。在附图中：
图1是根据本发明构思的实施例的显示设备的透视图；
图2A、图2B、图2C、图2D和图2E是图示其中图1中的显示设备被折叠或卷曲的状态的透视图；
图3A是根据本发明构思的实施例的显示设备的透视图；
图3B是根据本发明构思的实施例的显示设备的剖面图；
图4是包括在根据本发明构思的实施例的显示设备中的显示面板的平面图；
图5是根据本发明构思的实施例的显示设备的等效电路图；
图6和图7是根据本发明构思的实施例的显示设备的局部剖面图；
图8A、图8B、图8C、图8D、图8E和图8F是根据本发明构思的实施例的窗口构件的剖面图；
图9A是图示其中根据本发明构思的实施例的窗口构件处于第一模式的状态的剖面图；以及
图9B是图示其中根据本发明构思的实施例的窗口构件处于第二模式的状态的剖面图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图描述本发明构思的实施例。在本说明书中，还将理解，当一个组件(或区域、层、部分)被称作在另一组件“上”、“连接至”或“耦接至”另一个组件时，其可以直接地连接/耦接在一个组件上/至一个组件，或者也可以存在中间的第三组件。
相同的附图标记始终表示相同的元件。此外，在附图中，为了清楚说明，夸大了组件的厚度、比率和尺寸。术语“和/或”包括一个或多个相关所列出项的任何和全部组合。
应当理解，尽管在此使用诸如“第一”和“第二”等术语来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。术语仅用于将一个组件与其他组件区分开来。例如，在不脱离所附权利要求的范围的情况下，在一个实施例中被称作第一元件的第一元件可以被称作另一个实施例中的第二元件。除非另有相反的说明，否则单数形式的术语可包括复数形式。
此外，“在……之下”、“在……下面”、“在……上面”、“在……之上”等用于解释附图中所示组件的相对关系。术语可以是相对概念，并且基于附图中表达的方向进行描述。
“包括”或“包含”的含义指定属性、固定数量、步骤、操作、元件、组件或者他们的组合，但不排除其他属性、固定数量、步骤、操作、元件、组件或者他们的组合。
在下文中，将参照附图在下面更详细地描述本发明构思的示例性实施例。在下文中，将描述根据本发明构思的实施例的显示设备。
图1是根据本发明构思的实施例的显示设备的透视图；图2A至图2E是图示其中图1中的显示设备被折叠或卷曲的状态的透视图。在下文中，将参照图1以及图2A至图2E描述本发明构思的实施例的显示设备DD。
参照图1，根据本发明构思的实施例的显示设备DD包括用于显示图像的显示表面IS。在其上显示图像IM的显示表面IS平行于由第一方向DR1和第二方向DR2限定的表面。显示表面IS的法线方向(即，显示设备DD的厚度方向)指示第三方向DR3。每个构件的前表面(或顶表面)和后表面(或底表面)由第三方向DR3分开。然而，由第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3指示的方向可以是相对概念并且因此转换为不同方向。尽管在实施例中图示了柔性显示设备，但是本发明构思的实施例不限于此。根据本发明构思的实施例的显示设备DD可以是刚性显示设备。
根据本发明构思的实施例的显示设备DD可以是可折叠显示设备或可卷曲显示设备。根据本发明构思的实施例的显示设备DD可用于诸如电视机和监视器等大尺寸电子装置以及诸如移动电话、平板PC、用于车辆的导航单元、游戏控制台和智能手表等中、小尺寸电子装置。
根据本发明的实施例的显示设备DD的显示表面IS可以包括多个区域。显示设备DD可以包括在其上显示图像IM的显示区域DD-DA以及与显示区域DD-DA相邻布置的非显示区域DD-NDA。非显示区域DD-NDA可以是在其上不显示图像的区域。在图1中，图标和时钟窗口图示为图像IM的示例。显示区域DD-DA可以具有矩形形状。非显示区域DD-NDA可以围绕显示区域DD-DA。然而，本发明构思的实施例不限于此。例如，显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA可以以其他不同和/或互补形状来相对地设计。
尽管未示出，显示设备DD可以包括外壳。外壳可以布置在显示设备DD的外部并且在其中容纳组件。
参照图2A，根据本发明构思的实施例的显示设备DD可以相对于弯曲轴BX向内折叠。由于根据本发明构思的实施例的显示设备DD相对于弯曲轴BX向内折叠，显示设备DD的显示表面IS可以相对于弯曲轴BX折叠，显示设备DD的显示表面IS的相对于弯曲轴BX被分开的两个侧面可以彼此面对并接触，并且与显示表面IS相对的后表面可以暴露于外部。
参照图2B，根据本发明构思的实施例的显示设备DD可以相对于弯曲轴BX向外折叠。由于根据本发明构思的实施例的显示设备DD相对于弯曲轴BX向外折叠，显示设备DD的显示表面IS可以暴露于外部，并且与显示表面IS相对的后表面可以相对于弯曲轴BX折叠，并且后表面的相对于弯曲轴BX被分开的两个侧面可以彼此面对并接触。
参照图2C至图2E，根据本发明构思的实施例的显示设备DD可以通过各种方式折叠或卷曲。如图2C中所示，根据本发明构思的实施例的显示设备DD可以从尾部向内卷曲或折叠。如图2D中所示，根据本发明构思的实施例的显示设备DD可以从尾部向外卷曲或折叠。如图2E中所示，根据本发明构思的实施例的显示设备DD可以沿对角线方向卷曲或折叠。然而，尽管在图2A至图2E中示例性地图示了卷曲或折叠显示设备DD的方法，但是本发明构思的实施例不限于此。例如，显示设备DD可以通过各种其他方式折叠或卷曲。
图3A是根据本发明构思的实施例的显示设备的透视图。图3B是根据本发明构思的实施例的显示设备的剖面图。图3B图示了由第二方向DR2和第三方向DR3限定的剖面。在下文中，将参照图3A和图3B描述根据本发明构思的实施例的显示设备DD。
参照图3A和图3B，根据本发明构思的实施例的显示设备DD包括显示模块DM和窗口构件WM。
显示模块DM可以包括保护膜PM、显示面板DP、光学构件PZ和输入感应构件TS。显示面板DP、光学构件PZ和输入感应构件TS可以顺序地层叠在保护膜PM上。
显示模块DM可以包括顶表面和与顶表面相对的后表面。显示模块DM的顶表面可以是用于显示图像的显示表面。显示模块DM可以生成图像并沿朝向接触显示模块DM的顶表面的窗口构件WM的方向来显示图像。
窗口构件WM可以保护显示模块DM免受外部冲击并且向用户提供输入表面。窗口构件WM可以包括暴露于外部的外表面。显示设备DD的显示表面IS(参照图1)可以对应于窗口构件WM的外表面。稍后将参照图8A至图9B详细描述窗口构件WM。
输入感应构件TS可以检测从外侧施加的触摸以生成电信号。触摸包括人体的接触/邻近、导电对象的接触/邻近以及诸如光、热量和压力等各种类型的外部输入。输入感应构件TS可以包括能够检测各种输入的传感器，例如，导电传感器、光学传感器和热传感器。输入感应构件TS可以检测在电容式方法或压力感应方法中施加的触摸。
光学构件PZ以光学方式转换入射光。光学构件PZ可以降低入射至其前表面的光的反射，引起入射至其后表面的光的再反射，并且增大入射至其后表面的光的透射比。光学构件PZ可以包括偏振膜、防反射膜、相位差膜和防散射膜中的至少一个。
尽管在附图3B中示例性地图示了输入感应构件TS布置在光学构件PZ上，并且光学构件PZ与显示面板DP相邻，但是本发明构思的实施例不限于此。例如，可以改变组件之间的排列关系。例如，输入感应构件TS可以布置在显示面板DP上，并且光学构件PZ可以布置在输入感应构件TS上。输入感应构件TS可以通过连续工艺与显示面板DP集成。在这种情况下，输入感应构件TS可以被称作输入感应单元或输入感应电路。
显示面板DP可以包括多个像素并生成与所输入的图像数据相对应的图像IM(参照图1)。显示面板DP可以生成图像并沿显示设备DD的厚度方向DR3来显示图像。显示面板DP可以沿朝向窗口构件WM的向上方向来显示所生成的图像。
保护膜PM可以布置在显示面板DP的下面以保护显示面板DP。更详细地，保护膜PM可以防止外部湿气被引入显示面板DP中并且吸收外部冲击。保护膜PM可以包括塑料膜作为基底层。保护膜PM可以包括塑料膜，塑料膜包含选自下面群组中的一个：聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙酸酯、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)和聚(芳醚砜)，以及他们的组合。
构成保护膜PM的材料不限于塑料树脂。例如，保护膜PM可以包括有机/无机复合材料。保护膜PM可以包括多孔有机层以及填充在有机层的孔隙中的无机材料。保护膜PM还可以包括提供在塑料膜上的膜功能层。膜功能层可以包括树脂层。膜功能层可以以涂覆方法形成。
尽管未示出，显示设备DD还可以包括第一粘合构件、第二粘合构件、第三粘合构件和第四粘合构件。第一粘合构件将显示面板DP耦接至保护膜PM，第二粘合构件将显示面板DP耦接至光学构件PZ，第三粘合构件将光学构件PZ耦接至输入感应构件TS，并且第四粘合构件将输入感应构件TS耦接至窗口构件WM。
尽管未示出，显示设备DD还可以包括框架结构以保持图2A至图2E中图示的状态。框架结构可以包括接头结构或铰链结构。
图4是图示包括在根据本发明构思的实施例的显示设备中的显示面板的平面图。图5是根据本发明构思的实施例的显示设备的等效电路图；图6和图7是根据本发明构思的实施例的显示设备的局部剖面图。在下文中，将参照图4至图7描述根据本发明构思的实施例的显示面板。
如图4中所示，显示面板DP包括在平面上的显示区域DA和非显示区域NDA。显示面板DP的显示区域DA和非显示区域NDA分别对应于显示设备DD(参照图1)的显示区域DD-DA(参照图1)和非显示区域DD-NDA(参照图1)。然而，显示面板DP的显示区域DA和非显示区域NDA可以不与显示设备DD(参照图1)的显示区域DD-DA(参照图1)和非显示区域DD-NDA(参照图1)相同，并且可以根据显示面板的结构/设计改变。
显示面板DP包括多个信号线SGL和多个像素PX。显示区域DA由多个像素PX布置在其上的区域限定。在这样的实施例中，非显示区域NDA可以沿着显示区域DA的边缘限定。
多个信号线SGL包括栅极线GL、数据线DL、电源线PL和控制信号线CSL。每个栅极线GL连接至多个像素PX之中的对应像素，并且每个数据线DL连接至多个像素PX之中的对应像素PX。电源线PL连接至多个像素PX。连接至栅极线GL的栅极驱动电路DCV可以布置在非显示区域NDA的一侧处。控制信号线CSL可以向栅极驱动电路DCV提供控制信号。
栅极线GL、数据线DL、电源线PL和控制线CSL的一部分布置在相同层上，并且他们的另一部分布置在不同层上。在栅极线GL、数据线DL、电源线PL和控制线CSL之中的布置在一个层上的信号线SGL被限定为第一信号线时，布置在另一层上的信号线SGL可以被限定为第二信号线。布置在另外又一层上的信号线SGL可以被限定为第三信号线。
栅极线GL、数据线DL、电源线PL和控制线CSL中的每一个可以包括信号电线部分和连接至信号电线部分的一端的显示面板焊垫PD-DP。信号电线部分可以被限定为栅极线GL、数据线DL、电源线PL和控制线CSL中的每一个的除显示面板焊垫PD-DP之外的部分。
显示面板焊垫PD-DP可以在与用于驱动像素PX的晶体管的工艺相同的工艺中形成。例如，显示面板焊垫PD-DP和用于驱动像素PX的晶体管可以在低温多晶硅(LTPS)工艺或低温多晶氧化物(LTPO)工艺的相同工艺中形成。
根据本发明构思的实施例的显示面板焊垫PD-DP可以包括控制焊垫CSL-P、数据焊垫DL-P和电源焊垫PL-P。尽管未示出栅极焊垫，但是栅极焊垫可以与栅极驱动电路DCV交叠并连接至栅极驱动电路DCV。尽管未单独示出，但是控制焊垫CSL-P、数据焊垫DL-P和电源焊垫PL-P在其上对准的非显示区域NDA的一部分被限定为焊垫区域。
图5示例性地图示了连接至栅极线GL中的一个、数据线DL中的一个以及电源线PL的像素PX。本发明构思的实施例不限于像素PX的这种配置。
像素PX可以包括作为显示元件的发光元件LM。在本发明构思的实施例中，发光元件LM可以是有机发光二极管。
发光元件LM可以包括顶发射型二极管、底发射型二极管和双侧发射型二极管。作为用于驱动发光元件LM的电路的像素PX包括第一晶体管TFT1(或开关晶体管)、第二晶体管TFT2(或驱动晶体管)和电容器CP。发光元件LM由从晶体管TFT1和TFT2提供的电信号来产生光。第一电源电压ELVDD可提供至第一晶体管TFT1，以及第二电源电压ELVSS可提供至发光元件LM。
第一晶体管TFT1响应于施加至栅极线GL的扫描信号来输出施加至数据线DL的数据信号。电容器CP以与从第一晶体管TFT1接收的数据信号相对应的电压来充电。
第二晶体管TFT2连接至发光元件LM。第二晶体管TFT2控制在发光元件LM中流动的与电容器CP中所存储的电荷量一致的驱动电流。
图6图示了与图5中的等效电路的第一晶体管TFT1和电容器CP相对应的剖面图。图7图示了与图5中的等效电路的第二晶体管TFT2和发光元件LM相对应的剖面图。
如图6和图7中所示，第一电路层CL1布置在基底层SUB上。作为柔性基板的基底层SUB可以包括塑料基板、玻璃基板、金属基板或者有机/无机复合基板。
第一晶体管TFT1的半导体图案AL1(在下文中称作第一半导体图案)和第二晶体管TFT2的半导体图案AL2(在下文中称作第二半导体图案)布置在基底层SUB上。第一半导体图案AL1和第二半导体图案AL2可以以相同或不同方式选自非晶硅、多晶硅或金属氧化物半导体。
第一电路层CL1包括有机/无机层BR、BF、12、14和16。第一电路层CL1可以包括第一晶体管TFT1、第二晶体管TFT2以及电极E1和E2。有机/无机层BR、BF、12、14和16可以包括功能层BR和BF、第一绝缘层12、第二绝缘层14和第三绝缘层16。
功能层BR和BF可以布置在基底层SUB的一个表面上。功能层BR和BF包括阻挡层BR和缓冲层BF中的至少一个。第一半导体图案AL1和第二半导体图案AL2可以布置在阻挡层BR或缓冲层BF上。
覆盖第一半导体图案AL1和第二半导体图案AL2的第一绝缘层12布置在基底层SUB上。第一绝缘层12包括有机层和/或无机层。特别地，第一绝缘层12可以包括多个无机薄膜。多个无机薄膜可以包括氮化硅层、氮氧化硅层和氧化硅层。
第一晶体管TFT1的控制电极GE1(在下文中称作第一控制电极)和第二晶体管TFT2的控制电极GE2(在下文中称作第二控制电极)布置在第一绝缘层12上。电容器CP的第一电极E1布置在第一绝缘层12上。第一控制电极GE1、第二控制电极GE2和第一电极E1可以由与栅极线GL(参照图4)的光刻工艺相同的光刻工艺制造。换言之，第一电极E1可以由与栅极线GL的材料相同的材料制造，具有与栅极线GL的层叠结构相同的层叠结构，并且布置在与栅极线GL的层相同的层上。
覆盖第一控制电极GE1、第二控制电极GE2和第一电极E1的第二绝缘层14布置在第一绝缘层12上。第二绝缘层14包括有机层和/或无机层。特别地，第二绝缘层14可以包括多个无机薄膜。多个无机薄膜可以包括氮化硅层、氮氧化硅层和氧化硅层。
数据线DL(参照图4)可以布置在第二绝缘层14上。第一晶体管TFT1的输入电极SE1(在下文中称作第一输入电极)和输出电极DE1(在下文中称作第一输出电极)布置在第二绝缘层14上。第二晶体管TFT2的输入电极SE2(在下文中称作第二输入电极)和输出电极DE2(在下文中称作第二输出电极)布置在第二绝缘层14上。第一输入电极SE1从数据线DL的对应数据线分岔。电源线PL(参照图4)可以布置在与数据线DL的层相同的层上。第二输入电极SE2从电源线PL分岔。
电容器CP的第二电极E2布置在第二绝缘层14上。第二电极E2可以由与数据线DL和电源线PL的光刻工艺相同的光刻工艺制造，由与数据线DL和电源线PL的材料相同的材料制成，具有与数据线DL和电源线PL的层叠结构相同的层叠结构，并且布置在与数据线DL和电源线PL的层相同的层上。
第一输入电极SE1和第一输出电极DE1分别通过第一通孔CH1和第二通孔CH2连接至第一半导体图案AL1，第一通孔CH1和第二通孔CH2分别穿过第一绝缘层12和第二绝缘层14。第一输出电极DE1可以电连接至第一电极E1。例如，第一输出电极DE1可以通过穿过第二绝缘层14的通孔(未示出)连接至第一电极E1。第二输入电极SE2和第二输出电极DE2分别通过第三通孔CH3和第四通孔CH4连接至第二半导体图案AL2，第三通孔CH3和第四通孔CH4分别穿过第一绝缘层12和第二绝缘层14。同时，在本发明构思的另一实施例中，第一晶体管TFT1和第二晶体管TFT2中的每一个可以变形为底栅极结构。
覆盖第一输入电极SE1、第一输出电极DE1、第二输入电极SE2和第二输出电极DE2的第三绝缘层16布置在第二绝缘层14上。第三绝缘层16包括有机层和/或无机层。特别地，第三绝缘层16可以包括有机材料以提供平坦表面。
根据像素的电路结构，可以省略第一绝缘层12、第二绝缘层14和第三绝缘层16中的一个。第二绝缘层14和第三绝缘层16中的每一个可以限定为中间层。中间层布置在相对于中间层布置于下方的导电图案与布置于上方的导电图案之间以绝缘导电图案。
发光元件层ELL布置在第三绝缘层16上。发光元件层ELL包括发光元件LM。
像素限定层PXL和发光元件LM布置在第三绝缘层16上。阳极AE布置在第三绝缘层16上。阳极AE通过穿过第三绝缘层16的第五通孔CH5连接至第二输出电极DE2。开口OP限定在像素限定层PXL中。像素限定层PXL的开口OP暴露阳极AE的至少一部分。
发光元件层ELL包括发光区域PXA以及与发光区域PXA相邻的非发光区域NPXA。非发光区域NPXA可以围绕发光区域PXA。在这样的实施例中，发光区域PXA限定为与阳极AE一致。然而，本发明构思的实施例不限于发光区域PXA。例如，发光区域PXA可以限定为发光的区域。发光区域PXA可以限定为与阳极AE的由开口OP暴露的部分区域一致。
空穴控制层HCL可以共同地布置在发光区域PXA和非发光区域NPXA上。尽管未单独示出，但是诸如空穴控制层HCL等公共层可以共同提供在多个像素PX(参照图4)上。
有机发光层EML布置在空穴控制层HCL上。有机发光层EML可以仅布置在对应于开口OP的区域上。也就是说，有机发光层EML可以单独提供在多个像素PX中的每一个上。
电子控制层ECL布置在有机发光层EML上。阴极CE布置在电子控制层ECL上。阴极CE共同地布置在多个像素PX上。
尽管在这样的实施例中示例性地图示了图案化有机发光层EML，但是有机发光层EML可以共同布置在多个像素PX上。在此，有机发光层EML可以产生白光。此外，有机发光层EML可以具有多层结构。有机发光层EML可以包括有机材料或无机材料。
薄膜封装层TFE密封发光元件层ELL。薄膜封装层TFE可以包括至少两个无机薄膜，其中有机薄膜布置在无机薄膜之间。薄膜封装层TFE可以保护发光元件层ELL免受诸如湿气和灰尘颗粒等外来物质。
在本发明构思的实施例中，薄膜封装层TFE可以直接覆盖阴极CE。薄膜封装层TFE可以包括包含有机材料的有机层以及包含无机材料的无机层。
图8A至图8F是图示根据本发明构思的实施例的窗口构件的剖面图。图8A至图8F图示了由第二方向DR2和第三方向DR3限定的剖面。在下文中，将参照图8A至图8F描述根据本发明构思的实施例的窗口构件。
参照图8A，根据本发明构思的实施例的窗口构件WM包括第一基底构件SUB1、第一冲击吸收层SAL1、第一硬涂层HC1和第二硬涂层HC2。
第一基底构件SUB1可以包括透明聚合物材料。例如，第一基底构件SUB1可以包括聚酰亚胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚偏二氯乙烯、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚苯乙烯、乙烯乙烯醇共聚物，以及他们的组合。理想地，第一基底构件SUB1可以包括聚酰亚胺以提高透明度、强度和表面硬度。
第一冲击吸收层SAL1布置在第一基底构件SUB1的一个表面上。第一冲击吸收层SAL1可以接触第一基底构件SUB1。第一冲击吸收层SAL1可以包括聚氨酯、硅基聚合物或橡胶。例如，第一冲击吸收层SAL1可以包括聚氨酯。第一冲击吸收层SAL1可以用作应力缓冲器以减缓施加至第一基底构件SUB1的冲击。
第一冲击吸收层SAL1是具有小于第一基底构件SUB1的储能模量的储能模量的高弹性层。例如，第一基底构件SUB1可以具有等于或大于大约3.5GPa且等于或小于大约7.0GPa的高储能模量，并且第一冲击吸收层SAL1可以具有等于或大于大约45MPa且等于或小于大约50MPa的低储能模量。
第一冲击吸收层SAL1具有等于或大于第一基底构件SUB1的厚度的厚度。第一基底构件SUB1具有第一厚度d1，并且第一冲击吸收层SAL1具有第二厚度d2。第二厚度d2可以等于或大于第一厚度d1的大约1.0倍且等于或小于第一厚度d1的大约1.67倍。例如，第一厚度d1可以等于或大于大约30μm且等于或小于大约55μm，并且第二厚度d2可以等于或大于大约45μm且等于或小于大约55μm。在根据本发明构思的实施例的窗口构件WM中，第一厚度d1可以是大约50μm，并且第二厚度d2可以是大约50μm。
第一硬涂层HC1布置在第一冲击吸收层SAL1上。第二硬涂层HC2布置在第一基底构件SUB1上。第二硬涂层HC2布置在第一基底构件SUB1的另一个表面上，该另一个表面与其上布置了第一冲击吸收层SAL1的一个表面相对。第一硬涂层HC1可以接触第一冲击吸收层SAL1的一个表面，并且第二硬涂层HC2可以接触第一基底构件SUB1的另一个表面。第一硬涂层HC1和第二硬涂层HC2中的每一个可以布置在窗口构件WM的最外部分上。第一硬涂层HC1和第二硬涂层HC2中的每一个可以具有等于或大于大约5μm且等于或小于大约10μm的厚度。第一硬涂层HC1和第二硬涂层HC2中的每一个可以具有等于或大于大约铅笔硬度6H的高硬度。
第一硬涂层HC1和第二硬涂层HC2中的每一个可以包括有机化合物或有机/无机复合化合物。例如，第一硬涂层HC1和第二硬涂层HC2中的每一个可以包括丙烯酸基化合物、环氧基化合物或者他们的组合。此外，第一硬涂层HC1和第二硬涂层HC2中的每一个可以包括化合物，其中诸如氧化硅(SiO2)、氧化锆(ZrO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化钽(Ta2O5)和氧化铌(Nb2O5,NbO2)等无机颗粒混合在有机化合物中。
第一硬涂层HC1可以是在窗口构件WM中包括的组件之中的最接近显示模块DM(参照图3A)的组件。硬涂层HC1可以接触显示模块DM。在根据本发明构思的实施例的窗口构件WM中，相对于第一基底构件SUB1，第一冲击吸收层SAL1可以沿与显示模块DM相邻的方向布置在第一硬涂层HC1与第一基底构件SUB1之间，并且冲击吸收层可以沿远离显示模块DM的方向不布置在第二硬涂层HC2与第一基底构件SUB1之间。根据本发明构思的实施例的窗口构件WM包括布置在基底构件的两个表面中的每一个上的硬涂层，并且冲击吸收层沿与显示模块DM相邻的方向布置在基底构件和硬涂层之间。根据本发明构思的实施例，由于具有低存储模量的冲击吸收层设置在与显示模块DM相邻的方向上，因此可以提供抵抗从外部施加的冲击的强力的窗口构件。
图8B至图8F图示了根据本发明构思的另一实施例的窗口构件的剖面。在下文中，与图8A中所述组件相同的组件将由相同的附图标记标示，并且将省略重叠的描述。
参照图8B，根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-1可以包括第一基底构件SUB1、第二基底构件SUB2、第一冲击吸收层SAL1、第一硬涂层HC1、第二硬涂层HC2和粘合层ADH。
第二基底构件SUB2可以布置在第一基底构件SUB1与第二硬涂层HC2之间。第一基底构件SUB1和第二基底构件SUB2可以彼此耦接，其中粘合层ADH在第一基底构件SUB1和第二基底构件SUB2之间。粘合层ADH可以包括光学透明粘合膜(OCA)、光学透明树脂(OCR)或压力敏感粘合膜(PSA)。粘合层ADH可以包括光学硬化粘合材料或热硬化粘合材料。
第二基底构件SUB2可以包括与第一基底构件SUB1的材料相同的材料。例如，第二基底构件SUB2可以包括聚酰亚胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚偏二氯乙烯、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚苯乙烯、乙烯乙烯醇共聚物，以及他们的组合。理想地，第二基底构件SUB2可以包括聚酰亚胺。
根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-1可以具有彼此分离的第一基底构件SUB1和第二基底构件SUB2。通过如此，尽管从外部施加冲击，冲击被分散至分开的基底构件并且不传递至他们的下方部分。因此，可以提供抵抗从外部施加的冲击的强力的窗口构件。
一起参照图8B和图8C，根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-1和窗口构件WM-2可以分别包括具有第三厚度d3的第二基底构件SUB2和第二基底构件SUB2-1。第三厚度d3与第一厚度d1的比率可以等于或大于大约1.0且等于或小于大约1.67。例如，如图8B中所示，第一厚度d1和第三厚度d3可以大体彼此相同。此外，如图8C中所示，第三厚度d3可以大于第一厚度d1。详细地，第三厚度d3可以是第一厚度d1的大约1.67倍。第三厚度d3可以是大约50μm，并且第一厚度d1可以是大约30μm。在此，第二厚度d2可以与第三厚度d3大体相同。大体相同可能意味着包括测量误差的相同厚度。
根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-2可以包括第二基底构件SUB2-1，其在分隔的基底构件之中更邻近外侧表面，并且具有比第一基底构件SUB1-1更大的厚度。因此，相对较厚的第二基底构件SUB2-1可以首先吸收从外部施加的冲击，并且因此传递至分开的基底构件的下方部分的冲击可以降低。因此，可以提供抵抗从外部施加的冲击的强力的窗口构件。
参照图8D，根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-3还可以包括布置在第一硬涂层HC1上的第二冲击吸收层SAL2以及布置在第二冲击吸收层SAL2上的第三硬涂层HC3。
第二冲击吸收层SAL2可以包括与第一冲击吸收层SAL1的材料相同的材料。第二冲击吸收层SAL2可以包括聚氨酯。第二冲击吸收层SAL2可以具有等于或大于大约45MPa且等于或小于大约50MPa的低储能模量。
第二冲击吸收层SAL2可以具有与第一冲击吸收层SAL1的厚度大体相同的厚度。例如，第二冲击吸收层SAL2可以具有等于或大于大约45μm且等于或小于大约55μm的厚度。
第三硬涂层HC3可以包括与第一硬涂层HC1和第二硬涂层HC2中的每一个的材料相同的材料。第三硬涂层HC3可以包括丙烯酸基化合物、环氧基化合物或者他们的组合。第三硬涂层HC3可以具有等于或大于大约5μm且等于或小于大约10μm的厚度，以及等于或大于大约铅笔硬度6H的高硬度。
参照图8E，根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-4还可以包括布置在第一基底构件SUB1和第二硬涂层HC2之间的第三冲击吸收层SAL3。
第三冲击吸收层SAL3可以包括与第一冲击吸收层SAL1的材料相同的材料。第三冲击吸收层SAL3可以包括聚氨酯。第三冲击吸收层SAL3可以具有等于或大于大约45MPa且等于或小于大约50MPa的低储能模量。
第三冲击吸收层SAL3可以具有与第一冲击吸收层SAL1的厚度大体相同的厚度。例如，第三冲击吸收层SAL3可以具有等于或大于大约45μm且等于或小于大约55μm的厚度。
在根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-3中，冲击吸收层和硬涂层可以附加地层叠在冲击吸收层和硬涂层的下方。此外，在根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-4中，冲击吸收层可以附加地层叠在基底基板与沿向外方向布置的硬涂层之间。因此，由于附加提供的冲击吸收层可以分散从外部施加的冲击，可以提供抵抗从外部施加的冲击的强力的窗口构件WM。
参照图8F，根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-5还可以包括功能层FL和底漆层PRL。尽管在图8F中示例性地图示了功能层FL和底漆层PRL布置在具有与图8E中WM-4相对应的结构的窗口构件WM-5上，但是本发明构思的实施例不限于此。例如，功能层FL和底漆层PRL可以布置在具有与图8A至图8D相对应的结构的窗口构件WM上。
功能层FL可以布置在第二硬涂层HC2上。功能层FL可以包括防指纹涂层、防反射涂层、防污垢涂层和防眩光涂层中的至少一个。功能层FL可以是包含氟化合物的防指纹层。功能层FL可以包括全氟聚醚。
底漆层PRL可以布置在功能层FL和第二硬涂层HC2之间。底漆层PRL可以是粘合辅助层用于增大功能层FL和第二硬涂层HC2之间耦接力。底漆层PRL可以包括硅烷耦接剂和异氰酸酯。
图9A是图示其中根据本发明构思的实施例的窗口构件处于第一模式的状态的剖面图。图9B是图示其中根据本发明构思的实施例的窗口构件处于第二模式的状态的剖面图。图9A和图9B图示了根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-2的剖面，剖面由第一方向DR1与第三方向DR3限定。在下文中，将参照图9A和图9B描述根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-2的状态模式。同时，尽管在图9A和图9B中示例性地图示了根据本发明构思的实施例的图8C中的窗口构件WM-2的状态模式，但是本发明构思的实施例不限于此。例如，可以以相同方式操作图8A至图8B、图8D至图8F中的窗口构件。同时，与图8C中所述组件相同的组件由相同的附图标记标示，并且将省略重叠的描述。
参照图9A和图9B，根据本发明构思的实施例的窗口构件WM-2可以处于第一模式状态或第二模式状态。在第一模式中，如图9A中所示，窗口构件WM-2可以处于其中弯曲被展开的平坦状态。在第二模式中，如图9B中所示，窗口构件WM-2可以处于沿着弯曲轴BX弯曲的状态。
根据窗口构件WM-2的平坦的第一模式和弯曲的第二模式，可以在窗口构件WM-2中限定平坦区域FA1和FA2以及弯曲区域BA。平坦区域可以包括第一平坦区域FA1和第二平坦区域FA2，第一平坦区域FA1和第二平坦区域FA2相对于弯曲区域BA限定在两侧。
弯曲区域BA可以与在第二模式中折叠窗口构件WM-2所在的弯曲区域相对应。弯曲区域BA可以是在第二模式中相对于平坦区域FA1和FA2在形状上极大变形的区域。
第一平坦区域FA1和第二平坦区域FA2可以是在第二模式中相对于弯曲区域BA在形状上较小变形的区域。第一平坦区域FA1和第二平坦区域FA2可以在第二模式中在形状上不变形的情况下保持平坦状态。
弯曲轴BX可以限定在窗口构件WM-2的下面。由于窗口构件WM-2相对于在下面限定的弯曲轴BX弯曲，窗口构件WM-2可以向外折叠。然而，本发明构思的实施例不限于此。例如，弯曲轴BX可以限定在窗口构件WM-2的上面。尽管弯曲轴BX布置在图9A和图9B中窗口构件WM-2的中心部分上，但是本发明构思的实施例不限于此。例如，弯曲轴BX可以布置在其中窗口构件以各种方式可折叠或可卷曲的位置处。
由于根据本发明构思的实施例的窗口构件可以包括冲击吸收层和分开的基底构件，以具有对外部冲击强的特性。与此同时，由于窗口构件中所包括的每个组件保持在等于或小于有限范围的厚度，所以在折叠或卷曲时，施加至窗口构件的扭矩可以减小，并且窗口构件中所包括的每个组件的压缩应力可以减小。因此，可以提供用于柔性显示设备的、对外部冲击抵抗性强的窗口构件。
在下文中，将通过具体实施例和比较示例更详细地描述本发明构思的实施例。以下实施例仅是示意性的，并且本发明构思的实施例的范围不限于以下实施例。
在下面的表格1中，示出了在实施例1至实施例3以及比较示例1至比较示例3中窗口构件中所包括的组件的厚度。在下面的表格1中，在组件具有厚度“0”时，并未包括对应的组件。
[表格1]
在实施例1中，窗口构件被制造，使得顺序地层叠大约10μm的下硬涂层、大约50μm的下冲击吸收层、大约50μm的第一基底构件以及大约10μm的上硬涂层。
在实施例2中，窗口构件被制造，使得顺序地层叠大约10μm的下硬涂层和大约50μm的下冲击吸收层以及大约10μm的下硬涂层和大约50μm的下冲击吸收层以形成下部结构，并且将大约50μm的第一基底构件和大约10μm的上硬涂层顺序地层叠在下层结构上。
在实施例3中，窗口构件被制造，使得顺序地层叠大约10μm的下硬涂层、大约50μm的下冲击吸收层、大约30μm的第一基底构件、大约50μm的第二基底构件以及大约10μm的上硬涂层。在实施例3中，第一窗口构件和第二窗口构件通过具有大约25μm的厚度的压敏粘合膜(PSA)彼此结合。
在比较示例1中，窗口构件被制造为具有与实施例1中的层叠结构相同的层叠结构，不同之处在于：第一基底构件具有大约80μm的厚度，该大约80μm的厚度比实施例1中的层叠结构中的冲击吸收层的厚度较厚。在比较示例2中，窗口构件被制造为具有与实施例2中的层叠结构相同的层叠结构，不同之处在于：第一基底构件具有大约80μm的厚度，该大约80μm的厚度比实施例2的层叠结构中的冲击吸收层的厚度较厚。在比较示例3中，窗口构件被制造为具有与实施例3中的层叠结构相同的层叠结构，不同之处在于：从实施例3的层叠结构中省略下冲击吸收层。
在下面的表格2中，比较地示出了通过根据实施例1至实施例3以及比较示例1至比较示例3中窗口构件的弯曲来执行扭矩值测试、落笔测试、杜邦(DuPont)强度特性评估以及磨损特性评估而获得的可靠性测试结果。落笔测试和DuPont强度评估通过评估在笔或重物从预定高度落下时窗口构件中裂缝萌生时间来评估出现裂缝的高度。执行擦伤特性，使得通过使用磨损评估设备使大约1.5kg的重物相对于窗口构件的表面来回移动10次，并且随后通过肉眼检验是否产生划痕。
[表格2]
参照表格2，在与比较示例比较时，实施例示出了相对于施加至窗口构件的扭矩值抵抗外部冲击的强特性。
在对具有类似层叠结构的实施例1和比较示例1进行比较时，由于基于落笔测试和Dupont冲击测试的结果来获得类似评估值，可以检验：实施例1和比较示例1具有类似程度的抗冲击性。在此，施加至窗口构件的扭矩值在实施例1中减小，因为实施例1的第一基底构件具有小于比较示例1中的第一基底构件的厚度的厚度，并且更特别地，实施例1的第一基底构件具有与下冲击吸收层的厚度相同的厚度。通过如此，实施例1的窗口构件可以应用于柔性显示设备，同时保持类似于比较例1的抗冲击性的抗冲击性。
在其中下冲击吸收层和下硬涂层交替地层叠两次的实施例2和比较示例2的情况下，可以检验：实施例2和比较示例2具有比实施例1和比较示例1的抗冲击性高的抗冲击性。在此，在与比较示例2比较时，施加至实施例2中的窗口构件的扭矩值减小，因为第一基底构件和下冲击吸收层具有彼此相同的厚度。通过如此，实施例2的窗口构件可以应用于柔性显示设备，同时保持类似于比较示例2的抗冲击性的抗冲击性。
在与比较示例1的层叠结构进行比较时，实施例3可以具有其中基底构件被分成具有相对薄的厚度的两个基底构件的结构。通过如此，在与比较示例1的窗口构件进行比较时，实施例3的窗口构件可以具有相对于外部冲击显著改善的抗冲击性，同时具有类似程度的扭矩值。此外，由于下冲击吸收层在实施例3中布置在分开的基底构件下方，与其中未提供下冲击吸收层的比较示例3相比，可以显著改善对于外部冲击的抗冲击性。通过这样，实施例3的窗口构件可以应用于柔性显示设备以保护显示模块免受外部冲击。
根据本发明构思的实施例的窗口构件可以具有相对于外部冲击改善的抗冲击性，同时保持柔性。
根据本发明构思的实施例的显示设备可以具有抵抗外部冲击的强特性并且同时确保折叠或卷曲时的柔性。
尽管已经描述了本发明构思的示例性实施例，但是应该理解，本发明构思不应限定于这些示例性实施例，而是可以由本领域技术人员在如下文中所请求保护的本发明构思的精神和范围内做出各种改变和修改。因此，本发明构思的实际保护范围应由所附权利要求的技术范围确定。

Claims (17)

1.一种窗口构件，包括：
第一基底构件，具有第一厚度；
第一冲击吸收层，布置在所述第一基底构件的一个表面上并且具有第二厚度和小于所述第一基底构件的储能模量的储能模量；
第一硬涂层，布置在所述第一冲击吸收层上；以及
第二硬涂层，布置在所述第一基底构件的与所述一个表面相对的另一个表面上，并且
所述第二厚度与所述第一厚度的比率等于或大于1.0且等于或小于1.67。
2.根据权利要求1所述的窗口构件，其中所述第一厚度等于或大于30μm且等于或小于55μm，并且
所述第二厚度等于或大于45μm且等于或小于55μm。
3.根据权利要求1所述的窗口构件，进一步包括：
第二冲击吸收层，布置在所述第一硬涂层上并且具有与所述第二厚度相同的厚度；以及
第三硬涂层，布置在所述第二冲击吸收层上。
4.根据权利要求1所述的窗口构件，进一步包括：
第二基底构件，布置在所述第一基底构件和所述第二硬涂层之间并且具有第三厚度；以及
粘合构件，布置在所述第一基底构件和所述第二基底构件之间以将所述第一基底构件耦接至所述第二基底构件。
5.根据权利要求4所述的窗口构件，其中所述第三厚度与所述第一厚度的比率等于或大于1.0且等于或小于1.67。
6.根据权利要求4所述的窗口构件，其中所述第三厚度等于或大于45μm且等于或小于55μm。
7.根据权利要求4的窗口构件，其中所述第二基底构件具有面对所述第一基底构件的一个表面以及与所述一个表面相对的另一个表面，并且
所述第二硬涂层接触所述第二基底构件的所述另一个表面。
8.根据权利要求1所述的窗口构件，进一步包括：
第三冲击吸收层，布置在所述第一基底构件和所述第二硬涂层之间，并且具有小于所述第一基底构件的储能模量的储能模量以及与所述第二厚度相同的厚度。
9.根据权利要求1所述的窗口构件，进一步包括：
功能层，布置所述第二硬涂层上；以及
底漆层，布置在所述功能层和所述第二硬涂层之间以增大所述功能层和所述第二硬涂层之间的粘合力。
10.根据权利要求1所述的窗口构件，其中所述第一基底构件包括：
弯曲区域，沿着在第一方向上延伸的弯曲轴是可弯曲的；以及
平坦区域，限定为与所述弯曲区域相邻的区域。
11.根据权利要求1所述的窗口构件，其中所述第一基底构件包括聚酰亚胺。
12.根据权利要求1所述的窗口构件，其中所述第一冲击吸收层包括聚氨酯、硅基聚合物或橡胶。
13.根据权利要求1所述的窗口构件，其中所述第一基底构件具有等于或大于3.5GPa且等于或小于7.0GPa的储能模量，并且
所述第一冲击吸收层具有等于或大于45MPa且等于或小于50MPa的储能模量。
14.根据权利要求1所述的窗口构件，其中所述第一冲击吸收层接触所述第一基底构件的所述一个表面，并且
所述第一硬涂层接触所述第一冲击吸收层的一个表面。
15.根据权利要求1所述的窗口构件，其中所述第一硬涂层具有等于或大于5μm且等于或小于10μm的厚度。
16.一种窗口构件，包括：
第一基底构件，相对于沿着一个方向延伸的弯曲轴是可弯曲的；
第一冲击吸收层，布置在所述第一基底构件的一个表面上并且具有小于所述第一基底构件的储能模量的储能模量；
第一硬涂层，布置在所述第一冲击吸收层上；
第二硬涂层，布置在所述第一基底构件的与所述一个表面相对的另一个表面上；以及
第二基底构件，布置在所述第一基底构件与所述第二硬涂层之间。
17.一种显示设备，包括：
显示模块，具有配置用于显示图像的顶表面以及与所述顶表面相对的后表面；以及
根据权利要求1至16中任一项所述的窗口构件，布置在所述显示模块的所述顶表面上。
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