CN109767994B - Oled基板及其图案偏移检测方法、装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种OLED基板及其图案偏移检测方法、装置，所述基板设有显示区和检测区，显示区形成第一图案和第二图案，所述方法包括：获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案与第二检测图案之间具有预设偏移量；在显示区形成第一图案和第二图案的同时，在检测区形成第一检测图案和第二检测图案；获取形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量；根据偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量。由此，通过在显示区外设置与第一图案和第二图案相对应的第一检测图案和第二检测图案，以将第一图案和第二图案显化，从而有利于实现对第一图案与第二图案的套嵌情况的检测。

Description

OLED基板及其图案偏移检测方法、装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种OLED基板及其图案偏移检测方法、装置。

背景技术

CF(Color Filter，彩色滤光片)和WOLED(White Organic Light EmittingDiode，白光有机发光半导体)是实现OLED全彩化显示的重要方法。

目前，全彩化OLED的基本结构是通过RGB和BM(Black Matrix，黑色矩阵)定义像素发光区，并通过OCA(Optically Clear Adhesive，光学胶)平坦化后，制作ITO(Indium TinOxides，氧化铟锡)等图案以及OLED其它功能层，并设置后盖密封。其中，最关键的技术之一就是OLED图案与BM图案的套嵌，由于BM图案不透光且反射率低(通常小于10％)，导致OLED图案与BM图案的套嵌位置难以在显微镜下检测，从而无法确定OLED图案与BM图案的套嵌情况。

发明内容

基于此，有必要针对由于BM图案不透光且反射率低，导致的OLED图案与BM图案的套嵌位置难以检测的问题，提供一种OLED基板及其图案偏移检测方法、装置。

一种OLED基板的图案偏移检测方法，基板设有显示区和检测区，显示区形成第一图案和第二图案，方法包括：

获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案与第二检测图案之间具有预设偏移量；

在显示区形成第一图案和第二图案的同时，在检测区形成第一检测图案和第二检测图案；

获取形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量；

根据形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量。

在其中一个实施例中，获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，包括：

根据第一图案确定第一检测图案；

在第一检测图案的基础上，根据第二图案确定第二检测图案，并使第二检测图案的边界超过第一检测图案的边界预设偏移量。

在其中一个实施例中，第一图案与第二图案之间的偏移量包括行偏移量和列偏移量，

根据第一图案确定第一检测图案，包括：

根据第一图案的列图案确定用于获取行偏移量的第一行检测图案；

根据第一图案的行图案形成用于获取列偏移量的第一列检测图案，第一检测图案包括第一行检测图案和第一列检测图案。

在其中一个实施例中，根据第二图案确定第二检测图案，包括：

根据第二图案的列图案确定用于获取行偏移量的行初始检测图案，行初始检测图案在列方向上的边界与第一行检测图案在列方向上的边界重叠；

将行初始检测图案在行方向上的边界向第一行检测图案的列中心线或向背离列中心线的方向延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案；

根据第二图案的行图案确定用于检测列偏移量的列初始检测图案，列初始检测图案在行方向上的边界与第一列检测图案在行方向上的边界重叠；

将列初始检测图案在列方向上的边界向第一列检测图案的行中心线或向背离行中心线的方向延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案，第二检测图案包括第二行检测图案和第二列检测图案。

在其中一个实施例中，根据形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量，包括：

计算形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量与预设偏移量之间的差值；

根据差值获取第一图案与第二图案之间的偏移量。

在其中一个实施例中，第一图案为黑色矩阵图案、阳极图案和像素形成图案中的任一种，第二图案为黑色矩阵图案、阳极图案和像素形成图案中的任一种。

在其中一个实施例中，基板还设有走线区，检测区为除显示区和走线区之外的任意区域。

一种OLED基板的图案偏移检测装置，基板设有显示区和检测区，显示区形成第一图案和第二图案，装置包括：

第一获取模块，用于获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案与第二检测图案之间具有预设偏移量；

形成模块，用于在显示区形成第一图案和第二图案的同时，在检测区形成第一检测图案和第二检测图案；

第二获取模块，用于获取形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量；

第三获取模块，用于根据形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量。

一种OLED基板，包括：

显示区，显示区形成第一图案和第二图案；

检测区，检测区形成与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案和第二检测图案用于获取第一图案与第二图案之间的偏移量。

在其中一个实施例中，基板还设有走线区，检测区为除显示区和走线区之外的任意区域。

上述的OLED基板及其图案偏移检测方法、装置，通过获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案与第二检测图案之间具有预设偏移量，并通过在显示区形成第一图案和第二图案的同时，在检测区形成第一检测图案和第二检测图案，并通过获取形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量，以及根据形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量。由此，通过在显示区外设置与第一图案和第二图案相对应的第一检测图案和第二检测图案，以将第一图案和第二图案显化，从而有利于实现对第一图案与第二图案的套嵌情况的检测。

附图说明

图1为典型的CF型OLED的结构示意图；

图2为图1所示的CF型OLED中ITO图案与BM图案的套嵌图；

图3是一个实施例中OLED基板的图案偏移检测方法的流程图；

图4是一个实施例中第一图案与第二图案之间的偏移量的获取流程图；

图5是一个实施例中第一检测图案和第二检测图案的获取流程图；

图6是一个实施例中第一检测图案的获取流程图；

图7是一个实施例中第二检测图案的获取流程图；

图8a是一个实施例中黑色矩阵图案和阳极图案对应的检测图案的示意图；

图8b是一个实施例中像素形成图案和阳极图案对应的检测图案的示意图；

图8c是一个实施例中黑色矩阵图案和像素形成图案对应的检测图案的示意图；

图8d是一个实施例中黑色矩阵图案、阳极图案和像素形成图案对应的检测图案的示意图；

图9a是一个实施例中检测区在基板上的位置示意图；

图9b是另一个实施例中检测区在基板上的位置示意图；

图10是一个实施例中OLED基板的图案偏移检测装置的方框图；

图11是一个实施例中OLED基板的示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

参考图1和图2所示，目前全彩化OLED的基本结构是通过RGB和BM图案定义像素发光区，并通过OCA平坦化后，制作ITO图案、像素形成图案以及OLED其它功能层，并设置后盖密封。其中，最关键的技术之一就是OLED图案(如ITO图案、像素形成图案)与BM图案的套嵌，由于BM图案不透光且反射率低(通常小于10％)，导致OLED图案制作完成后，无法检测其相对BM图案的偏移情况，即无法检测其与BM图案的套嵌位置，从而无法确定其与BM图案的套嵌情况。基于此，本申请提供了一种OLED基板及其图案偏移检测方法、装置。

图3是一个实施例中OLED基板的图案偏移检测方法的流程图，如图3所示，OLED基板的图案偏移检测方法包括：

步骤302，获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案与第二检测图案之间具有预设偏移量。

步骤304，在显示区形成第一图案和第二图案的同时，在检测区形成第一检测图案和第二检测图案。

在一个实施例中，第一图案可以为黑色矩阵图案(即BM图案)、阳极图案(如ITO图案)和像素形成图案中的任一种，第二图案可以为黑色矩阵图案、阳极图案和像素形成图案中的任一种，第一图案与第二图案不同。

举例来说，通常基板上设有显示区和走线区，显示区形成有第一图案如黑色矩阵图案和第二图案如阳极图案，由于黑色矩阵图案不透光且反射率低，所以在阳极图案制作完成后，无法通过显微镜观测到黑色矩阵图案与阳极图案之间的偏移情况。为了能够清楚且方便的观测到黑色矩阵图案与阳极图案之间的偏移情况，可在基板上除显示区和走线区之外的任意区域设置检测区，并在该区域内形成与黑色矩阵图案对应的第一检测图案和与阳极图案对应的第二检测图案，以将黑色矩阵图案和阳极图案显化，从而便于实现对黑色矩阵图案与阳极图案之间的偏移情况的检测。

在实际应用中，可先根据黑色矩阵图案确定第一检测图案，根据阳极图案确定第二检测图案，然后在对黑色矩阵图案制程的同时，在检测区对第一检测图案进行制程，即黑色矩阵图案与第一检测图案同时形成，并在对阳极图案制程的同时，在检测区对第二检测图案进行制程，即阳极图案与第二检测图案同时形成，这样可以保证第一检测图案和第二检测图案能够真实反映黑色矩阵图案与阳极图案之间的偏移情况，从而保证检测的准确性。

需要说明的是，当第一图案为阳极图案、第二图案为像素形成图案，或者第一图案为像素形成图案、第二图案为黑色矩阵图案时，相应第一检测图案和第二检测图案的形成过程均可参照上述，具体这里不再赘述。

步骤306，获取形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量。

具体地，在第一检测图案和第二检测图案形成后，可通过显微镜获取形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量。

步骤308，根据形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量。

具体地，在对第一检测图案和第二检测图案设计时，会使第一检测图案与第二检测图案之间形成明显的界限，即，第一检测图案的边界与第二检测图案的边界之间具有一定的偏移量，例如第一检测图案与第二检测图案处于嵌套状态，这样有利于实现对形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量的检测。其中，将设计时第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量定义为预设偏移量。在通过显微镜获得形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量后，将该偏移量与预设偏移量进行比较，从而可以确定出第一图案与第二图案之间的偏移情况。

在一个实施例中，如图4所示，根据形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量，包括：

步骤402，计算形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量与预设偏移量之间的差值。

步骤404，根据差值获取第一图案与第二图案之间的偏移量。

具体而言，在对第一图案与第二图案之间的偏移情况进行检测时，不仅包括行方向上的偏移情况，还包括列方向上的偏移情况，所以在对第一检测图案和第二检测图案进行设计时，会对两个方向上的偏移情况同时考虑，这样获得的预设偏移量包括预设行偏移量和预设列偏移量，并且检测获得的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量包括行检测偏移量和列检测偏移量。然后，计算行检测偏移量与预设行偏移量之间的差值，根据该差值的大小和符号即可确定出行方向上第一图案与第二图案之间的偏移情况，同时计算列检测偏移量与预设列偏移量之间的差值，根据该差值的大小和符号即可确定出列方向上第一图案与第二图案之间的偏移情况，从而确定出第一图案与第二图案之间的套嵌情况，进而根据该套嵌情况做适当的调整，以使套嵌情况满足实际要求。

本实施例中，通过获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案与第二检测图案之间具有预设偏移量，并通过在显示区形成第一图案和第二图案的同时，在检测区形成第一检测图案和第二检测图案，并通过获取形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量，以及根据形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量。由此，通过在显示区外设置与第一图案和第二图案相对应的第一检测图案和第二检测图案，以将第一图案和第二图案显化，从而有利于实现对第一图案与第二图案的套嵌情况的检测。

在一个实施例中，如图5所示，获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，包括：

步骤502，根据第一图案确定第一检测图案。

步骤504，在第一检测图案的基础上，根据第二图案确定第二检测图案，并使第二检测图案的边界超过第一检测图案的边界预设偏移量。

具体而言，在检测区形成第一检测图案和第二检测图案的主要目的是为了将第一图案与第二图案之间的套嵌情况进行显化，所以在设计第一检测图案和第二检测图案时，会根据第一图案和第二图案来确定第一检测图案和第二检测图案，并使其中一个检测图案的边界超出另一个检测图案的边界，以使两个检测图案产生明显的界限。举例来说，第一检测图案可以与第一图案相同，第二检测图案可在第二图案的基础上，将其边界向外延伸，以使其边界超过第一检测图案的边界，以产生明显的界限，从而便于对形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量进行检测，其中超出量即为第一检测图案与第二检测图案之间的预设偏移量。

在一个实施例中，第一图案与第二图案之间的偏移量包括行偏移量和列偏移量，如图6所示，根据第一图案确定第一检测图案，包括：

步骤602，根据第一图案的列图案确定用于获取行偏移量的第一行检测图案。

步骤604，根据第一图案的行图案确定用于获取列偏移量的第一列检测图案，第一检测图案包括第一行检测图案和第一列检测图案。

也就是说，不同方向上的偏移量的检测对应有不同的检测图案，根据不同的检测图案进行偏移量的检测。例如，当需要检测第一图案与第二图案在行方向上的偏移量即行偏移量时，可根据第一图案中列方向上的图案即列图案确定第一行检测图案，通过该第一行检测图案进行行偏移量的检测；当需要检测第一图案与第二图案在列方向上的偏移量即列偏移量时，可根据第一图案中行方向上的图案即行图案确定第一列检测图案，通过该第一列检测图案进行列偏移量的检测；当需要对行偏移量和列偏移量同时检测时，分别根据第一图案的列图案和行图案确定出第一行检测图案和第一列检测图案，以分别通过第一行检测图案和第一列检测图案对行偏移量和列偏移量进行检测。

进一步地，在一个实施例中，如图7所示，根据第二图案确定第二检测图案，包括：

步骤702，根据第二图案的列图案确定用于获取行偏移量的行初始检测图案，行初始检测图案在列方向上的边界与第一行检测图案在列方向上的边界重叠。

步骤704，将行初始检测图案在行方向上的边界向第一行检测图案的列中心线或向背离列中心线的方向延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案。

具体地，在根据第一图案的列图案确定第一行检测图案后，在第一行检测图案的基础上，根据第二图案中列方向上的图案即列图案确定行初始检测图案，该行初始检测图案在列方向上的边界与第一行检测图案在列方向上的边界重叠，接着，将行初始检测图案在行方向上的边界向第一行检测图案的列中心线或者背离列中心线的方向延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案，通过该第二行检测图案和第一行检测图案进行行偏移量的检测。其中，行初始检测图案在行方向上的边界的延长方向与第一图案和第二图案相关。

举例来说，参考图8a所示，当第一图案为黑色矩阵图案、第二图案为阳极图案时，可先根据黑色矩阵图案在列方向上的图案即列图案确定出第一行检测图案，例如，第一行检测图案与黑色矩阵图案的列图案相同，然后根据阳极图案在列方向上的图案即列图案确定出行初始检测图案，并且该行初始检测图案在列方向上的边界与第一行检测图案在列方向上的边界重叠。接着，将行初始检测图案在行方向的边界向第一行检测图案的列中心线延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案，这样获得的第二行检测图案在列方向上的边界将超出第一行检测图案在列方向上的边界预设行偏移量，记为X1(X1大于零)。

参考图8b所示，当第一图案为阳极图案、第二图案为像素形成图案时，可先根据阳极图案在列方向上的图案即列图案确定出第一行检测图案，例如，第一行检测图案与阳极图案的列图案相同，然后根据像素形成图案在列方向上的图案即列图案确定出行初始检测图案，并且该行初始检测图案在列方向上的边界与第一行检测图案在列方向上的边界重叠。接着，将行初始检测图案在行方向的边界向第一行检测图案的列中心线延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案，这样获得的第二行检测图案在列方向上的边界将超出第一行检测图案在列方向上的边界预设行偏移量，记为X2(X2大于零)。

参考图8c所示，当第一图案为像素形成图案、第二图案为黑色矩阵图案时，可先根据像素形成图案在列方向上的图案即列图案确定出第一行检测图案，例如，第一行检测图案与像素形成图案的列图案相同，然后根据黑色矩阵图案在列方向上的图案即列图案确定出行初始检测图案，并且该行初始检测图案在列方向上的边界与第一行检测图案在列方向上的边界重叠。接着，将行初始检测图案在行方向的边界向背离第一行检测图案的列中心线延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案，这样获得的第二行检测图案在列方向上的边界将超出第一行检测图案在列方向上的边界预设行偏移量，记为X3(X3大于零)。

步骤706，根据第二图案的行图案确定用于检测列偏移量的列初始检测图案，列初始检测图案在行方向上的边界与第一列检测图案在行方向上的边界重叠。

步骤708，将列初始检测图案在列方向上的边界向第一列检测图案的行中心线或向背离行中心线的方向延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案，第二检测图案包括第二行检测图案和第二列检测图案。

具体地，在根据第一图案的行图案确定第一列检测图案后，在第一列检测图案的基础上，根据第二图案中行方向上的图案即行图案确定列初始检测图案，该列初始检测图案在行方向上的边界与第一列检测图案在行方向上的边界重叠，接着，将列初始检测图案在列方向上的边界向第一列检测图案的行中心线或者背离行中心线的方向延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案，通过该第二列检测图案和第一列检测图案进行列偏移量的检测。其中，列初始检测图案在列方向上的边界的延长方向与第一图案和第二图案相关。

举例来说，参考图8a所示，当第一图案为黑色矩阵图案、第二图案为阳极图案时，可先根据黑色矩阵图案在行方向上的图案即行图案确定出第一列检测图案，例如，第一列检测图案与黑色矩阵图案的行图案相同，然后根据阳极图案在行方向上的图案即行图案确定出列初始检测图案，并且该列初始检测图案在行方向上的边界与第一列检测图案在行方向上的边界重叠。接着，将列初始检测图案在列方向的边界向第一列检测图案的行中心线延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案，这样获得的第二列检测图案在行方向上的边界将超出第一列检测图案在行方向上的边界预设列偏移量，记为Y1(Y1大于零)。

参考图8b所示，当第一图案为阳极图案、第二图案为像素形成图案时，可先根据阳极图案在行方向上的图案即行图案确定出第一列检测图案，例如，第一列检测图案与阳极图案的行图案相同，然后根据像素形成图案在行方向上的图案即行图案确定出列初始检测图案，并且该列初始检测图案在行方向上的边界与第一列检测图案在行方向上的边界重叠。接着，将列初始检测图案在列方向的边界向第一列检测图案的行中心线延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案，这样获得的第二列检测图案在行方向上的边界将超出第一列检测图案在行方向上的边界预设列偏移量，记为Y2(Y2大于零)。

参考图8c所示，当第一图案为像素形成图案、第二图案为黑色矩阵图案时，可先根据像素形成图案在行方向上的图案即行图案确定出第一列检测图案，例如，第一列检测图案与像素形成图案的行图案相同，然后根据黑色矩阵图案在行方向上的图案即行图案确定出列初始检测图案，并且该列初始检测图案在行方向上的边界与第一列检测图案在行方向上的边界重叠。接着，将列初始检测图案在列方向的边界向背离第一列检测图案的行中心线延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案，这样获得的第二列检测图案在行方向上的边界将超出第一列检测图案在行方向上的边界预设列偏移量，记为Y3(Y3大于零)。

在实际应用中，可按照上述方式预先设计出第一检测图案和第二检测图案，然后在第一图案和第二图案进行制程的同时，对第一检测图案和第二检测图案进行制程，并在制程完成后，通过显微镜等对制程后的第一检测图案和第二检测图案进行检测，以获得制程后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量，然后将该偏移量与预设偏移量进行比较计算，以确定出第一图案与第二图案之间的偏移量。

举例来说，当第一图案为黑色矩阵图案、第二图案为阳极图案时，在对黑色矩阵图案、阳极图案以及图8a所示的第一检测图案和第二检测图案制程完成后，通过显微镜对制程后的第一检测图案和第二检测图案进行检测，获得制程后的第一检测图案与第二检测图案在行方向上的偏移量即行检测偏移量为X1’，在列方向上的偏移量即列检测偏移量为Y1’，然后通过比较X1’与X1，就可以确定出黑色矩阵图案与阳极图案在行方向上的偏移量，通过比较Y1’与Y1，就可以确定出黑色矩阵图案与阳极图案在列方向上的偏移量。

当第一图案为阳极图案、第二图案为像素形成图案时，在对阳极图案、像素形成图案以及图8b所示的第一检测图案和第二检测图案制程完成后，通过显微镜对制程后的第一检测图案和第二检测图案进行检测，获得制程后的第一检测图案与第二检测图案在行方向上的偏移量即行检测偏移量为X2’，在列方向上的偏移量即列检测偏移量为Y2’，然后通过比较X2’与X2，就可以确定出阳极图案与像素形成图案在行方向上的偏移量，通过比较Y2’与Y2，就可以确定出阳极图案与像素形成图案在列方向上的偏移量。

当第一图案为像素形成图案、第二图案为黑色矩阵图案时，在对像素形成图案、黑色矩阵图案以及图8c所示的第一检测图案和第二检测图案制程完成后，通过显微镜对制程后的第一检测图案和第二检测图案进行检测，获得制程后的第一检测图案与第二检测图案在行方向上的偏移量即行检测偏移量为X3’，在列方向上的偏移量即列检测偏移量为Y3’，然后通过比较X3’与X3，就可以确定出像素形成图案与黑色矩阵图案在行方向上的偏移量，通过比较Y3’与Y3，就可以确定出像素形成图案与黑色矩阵图案在列方向上的偏移量。

可以理解的是，当显示区同时包括黑色矩阵图案、阳极图案和像素形成图案时，可参照图8d预先设计出相应的检测图案。其中，设置阳极图案对应的检测图案的边界在行方向上超出黑色矩阵图案对应的检测图案的边界的长度均为X1，在列方向上超出黑色矩阵图案对应的检测图案的边界的长度均为Y1，同时设置像素形成图案对应的检测图案的边界在行方向上超出阳极图案对应的检测图案的边界的长度均为X2，在列方向上超出阳极图案对应的检测图案的边界的长度均为Y2，以及设置黑色矩阵图案对应的检测图案的边界在行方向上超出像素形成图案对应的检测图案的边界的长度均为X3，在列方向上超出像素形成图案对应的检测图案的边界的长度均为Y3。

然后，在对黑色矩阵图案、阳极图案和像素形成图案制程的同时，对相应的检测图案进行制程，并在制程完成后，检测制程后的黑色矩阵图案对应的检测图案与阳极图案对应的检测图案在行方向和列方向上的偏移量X1’和Y1’，并与理论设计的X1和Y1相比较，以获得黑色矩阵图案与阳极图案在行方向和列方向上的偏差；检测制程后的像素形成图案对应的检测图案与阳极图案对应的检测图案在行方向和列方向上的偏移量X2’和Y2’，并与理论设计的X2和Y2相比较，以获得像素形成图案与阳极图案在行方向和列方向上的偏差；检测制程后的黑色矩阵图案对应的检测图案与像素形成图案对应的检测图案在行方向和列方向上的偏移量X3’和Y3’，并与理论设计的X3和Y3相比较，以获得黑色矩阵图案与像素形成图案在行方向和列方向上的偏差。

本实施例中，通过在检测区设置相应的检测图案，并且该检测图案不同于显示区的图案，如检测区的检测图案采用嵌套方式设计，以使检测图案之间产生明显的界限，从而便于实现对形成后的检测图案之间的偏移量的检测，进而可获得显示区图案之间的偏移量，而且方法简单可靠。

需要说明的是，上述均以黑色矩阵图案、阳极图案以及像素形成图案为例对本申请进行说明，而在实际应用中，通过简单的更改设计就可以检测出其它不同图案的套嵌情况，具体这里就不再详述。

另外，在生产制造过程中，通常是先制作大片基板，然后对大片基板进行切割以形成所需尺寸的基板。其中，当基板为大片基板时，可在大片基板的四周以及中间区域设置检测区，例如，参考图9a所示，可在大片基板的四个角以及中点区域分别设置一个检测区，或者，参考图9b所示，在大片基板的四个角、每条边的中点以及整个大片基板的中点区域分别设置一个检测区，这样根据不同检测区获得的偏差数据对显示区的图案做适当的调整，可使显示区的图案套嵌更加符合要求。

上述OLED基板的图案偏移检测方法，通过在除显示区和走线区之外的区域设置由显示区的图案相互嵌套形成的检测区，以检测显示区的图案套嵌情况，方法简单、易于实现、可靠性高，适用于OLED基板的量产。

应该理解的是，虽然图3-7的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，这些步骤可以以其它的顺序执行。而且，图3-7中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段，这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，这些子步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其它步骤或者其它步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

在一个实施例中，提供了一种OLED基板的图案偏移检测装置，基板设有显示区和检测区，显示区形成第一图案和第二图案，如图10所示，OLED基板的图案偏移检测装置包括：第一获取模块110、形成模块120、第二获取模块130和第三获取模块140。

其中，第一获取模块110用于获取与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案与第二检测图案之间具有预设偏移量。形成模块120用于在显示区形成第一图案和第二图案的同时，在检测区形成第一检测图案和第二检测图案。第二获取模块130用于获取形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量。第三获取模块140用于根据形成后的第一检测图案与第二检测图案之间的偏移量和预设偏移量，获取第一图案与第二图案之间的偏移量。

关于OLED基板的图案偏移检测装置的具体限定可以参见上文中对于OLED基板的图案偏移检测方法的限定，在此不再赘述。上述OLED基板的图案偏移检测装置中的各个模块可全部或部分通过软件、硬件及其组合来实现。上述各模块可以硬件形式内嵌于或独立于计算机设备中的处理器中，也可以以软件形式存储于计算机设备中的存储器中，以便于处理器调用执行以上各个模块对应的操作。

在一个实施例中，提供了一种OLED基板，如图11所示，OLED基板200包括：显示区210和检测区220。

其中，显示区210形成第一图案和第二图案。检测区220形成与第一图案对应的第一检测图案和与第二图案对应的第二检测图案，第一检测图案和第二检测图案用于获取第一图案与第二图案之间的偏移量。

在一个实施例中，基板200还设有走线区(图中未示出)，检测区220为除显示区210和走线区之外的任意区域。

关于OLED基板的具体限定可以参见上文中对于OLED基板的图案偏移检测方法的限定，在此不再赘述。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种OLED基板的图案偏移检测方法，其特征在于，所述基板设有显示区和检测区，所述检测区设置于所述显示区以及走线区之外，所述显示区形成第一图案和第二图案，所述方法包括：

获取与所述第一图案对应的第一检测图案和与所述第二图案对应的第二检测图案，所述第一检测图案与所述第二检测图案之间具有预设偏移量；

在所述显示区形成所述第一图案和所述第二图案的同时，在所述检测区形成所述第一检测图案和所述第二检测图案；

获取形成后的所述第一检测图案与所述第二检测图案之间的偏移量；

根据形成后的所述第一检测图案与所述第二检测图案之间的偏移量和所述预设偏移量，获取所述第一图案与所述第二图案之间的偏移量；

所述第一图案与所述第二图案之间的偏移量包括行偏移量和列偏移量，所述第一检测图案包括第一行检测图案和第一列检测图案，所述第二检测图案包括第二行检测图案和第二列检测图案，所述第一行检测图案与所述第二行检测图案用于获取所述行偏移量，所述第一列检测图案与所述第二列检测图案用于获取所述列偏移量；

获取与所述第一图案对应的第一检测图案和与所述第二图案对应的第二检测图案，包括：根据所述第二图案确定所述第二检测图案；

所述根据所述第二图案确定所述第二检测图案，包括：

根据所述第二图案的列图案确定所述行偏移量的行初始检测图案，所述行初始检测图案在列方向上的边界与所述第一行检测图案在列方向上的边界重叠；

将所述行初始检测图案在行方向上的边界向所述第一行检测图案的列中心线或向背离所述列中心线的方向延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案；

根据所述第二图案的行图案确定所述列偏移量的列初始检测图案，所述列初始检测图案在行方向上的边界与所述第一列检测图案在行方向上的边界重叠；

将所述列初始检测图案在列方向上的边界向所述第一列检测图案的行中心线的方向延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取与所述第一图案对应的第一检测图案和与所述第二图案对应的第二检测图案，包括：

根据所述第一图案确定所述第一检测图案；

在所述第一检测图案的基础上，根据所述第二图案确定所述第二检测图案，并使所述第二检测图案的边界超过所述第一检测图案的边界所述预设偏移量。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述根据所述第一图案确定所述第一检测图案，包括：

根据所述第一图案的列图案确定用于获取所述行偏移量的第一行检测图案；

根据所述第一图案的行图案确定用于获取所述列偏移量的第一列检测图案。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一图案为黑色矩阵图案，所述第二图案为阳极图案，可先根据黑色矩阵图案在列方向上的图案即列图案确定出第一行检测图案。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据形成后的所述第一检测图案与所述第二检测图案之间的偏移量和所述预设偏移量，获取所述第一图案与所述第二图案之间的偏移量，包括：

计算形成后的所述第一检测图案与所述第二检测图案之间的偏移量与所述预设偏移量之间的差值；

根据所述差值获取所述第一图案与所述第二图案之间的偏移量。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一图案为黑色矩阵图案、阳极图案和像素形成图案中的任一种，所述第二图案为所述黑色矩阵图案、所述阳极图案和所述像素形成图案中的任一种。

7.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述基板还设有走线区，所述检测区为除所述显示区和所述走线区之外的任意区域。

8.一种OLED基板的图案偏移检测装置，其特征在于，所述基板设有显示区和检测区，所述检测区设置于所述显示区以及走线区之外，所述显示区形成第一图案和第二图案，所述装置包括：

第一获取模块，用于获取与所述第一图案对应的第一检测图案和与所述第二图案对应的第二检测图案，所述第一检测图案与所述第二检测图案之间具有预设偏移量；

形成模块，用于在所述显示区形成所述第一图案和所述第二图案的同时，在所述检测区形成所述第一检测图案和所述第二检测图案；

第二获取模块，用于获取形成后的所述第一检测图案与所述第二检测图案之间的偏移量；

第三获取模块，用于根据形成后的所述第一检测图案与所述第二检测图案之间的偏移量和所述预设偏移量，获取所述第一图案与所述第二图案之间的偏移量；

所述第一图案与所述第二图案之间的偏移量包括行偏移量和列偏移量，所述第一检测图案包括第一行检测图案和第一列检测图案，所述第二检测图案包括第二行检测图案和第二列检测图案，所述第一行检测图案与所述第二行检测图案用于获取所述行偏移量，所述第一列检测图案与所述第二列检测图案用于获取所述列偏移量；

获取与所述第一图案对应的第一检测图案和与所述第二图案对应的第二检测图案，包括：根据所述第二图案确定所述第二检测图案；

所述根据所述第二图案确定所述第二检测图案，包括：

根据所述第二图案的列图案确定所述行偏移量的行初始检测图案，所述行初始检测图案在列方向上的边界与所述第一行检测图案在列方向上的边界重叠；

将所述行初始检测图案在行方向上的边界向所述第一行检测图案的列中心线或向背离所述列中心线的方向延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案；

根据所述第二图案的行图案确定所述列偏移量的列初始检测图案，所述列初始检测图案在行方向上的边界与所述第一列检测图案在行方向上的边界重叠；

将所述列初始检测图案在列方向上的边界向所述第一列检测图案的行中心线的方向延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案。

9.一种OLED基板，其特征在于，包括：

显示区，所述显示区形成第一图案和第二图案；

检测区，所述检测区形成与所述第一图案对应的第一检测图案和与所述第二图案对应的第二检测图案，所述第一检测图案和所述第二检测图案用于获取所述第一图案与所述第二图案之间的偏移量，所述检测区设置于所述显示区以及走线区之外；

所述第一图案与所述第二图案之间的偏移量包括行偏移量和列偏移量，所述第一检测图案包括第一行检测图案和第一列检测图案，所述第二检测图案包括第二行检测图案和第二列检测图案，所述第一行检测图案与所述第二行检测图案用于获取所述行偏移量，所述第一列检测图案与所述第二列检测图案用于获取所述列偏移量；

获取与所述第一图案对应的第一检测图案和与所述第二图案对应的第二检测图案，包括：根据所述第二图案确定所述第二检测图案；

所述根据所述第二图案确定所述第二检测图案，包括：

根据所述第二图案的列图案确定所述行偏移量的行初始检测图案，所述行初始检测图案在列方向上的边界与所述第一行检测图案在列方向上的边界重叠；

将所述行初始检测图案在行方向上的边界向所述第一行检测图案的列中心线或向背离所述列中心线的方向延长预设行偏移量，以获得第二行检测图案；

根据所述第二图案的行图案确定所述列偏移量的列初始检测图案，所述列初始检测图案在行方向上的边界与所述第一列检测图案在行方向上的边界重叠；

将所述列初始检测图案在列方向上的边界向所述第一列检测图案的行中心线的方向延长预设列偏移量，以获得第二列检测图案。

10.根据权利要求9所述的OLED基板，其特征在于，所述基板还设有走线区，所述检测区为除所述显示区和所述走线区之外的任意区域。

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