CN109719706B - 基片卸载机械手及基片加工系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及IC加工设备技术领域，尤其是涉及一种基片卸载机械手及基片加工系统。基片卸载机械手包括基座、缓冲装置和浮动托盘；基座和浮动托盘均呈环臂状，浮动托盘位于基座上方；缓冲装置位于浮动托盘和基座之间，用于调整两者之间的相对位置；浮动托盘上设置有定位座，定位座上设置有用于定位抛光头的抛光头定位斜面和用于定位卸载后的基片的基片定位斜面。本申请的基片卸载机械手能够配合驱动装置直接将抛光头上的基片取下，并且在卸载基片时能够通过定位座、缓冲装置和浮动托盘的配合实现浮动托盘位置的调整，而浮动托盘的摆动能够使其与抛光头自适应对心，修正设备误差造成的影响，实现了基片的稳定卸载，且卸载过程操作简单、占用空间小。

Description

基片卸载机械手及基片加工系统

技术领域

本发明涉及IC加工设备技术领域，尤其是涉及一种基片卸载机械手及包括该基片卸载机械手的基片加工系统。

背景技术

在IC加工行业中，基片需要经过抛光、研磨、减薄等加工过程，其中，CMP设备的运行过程中，当基片完成抛光工序，首先需要将基片从抛光头上卸载下来，然后将其运送至距离较远的清洁区域进行清洁、干燥等工序。而卸载过程中需要特殊的机械手结构，保证其卸载过程顺利、位置准确，以便能够将基片放置在清洁区域的准确位置；且基片在运输的过程中，需要用洁净水使其保湿，防止结晶的产生；为保证安全，还需要在整个的过程中对基片状态进行监控，判断基片是否到位。

目前实现基片卸载的方式是抛光头将基片卸载置在中转位置，机器人或传输手在中转位置抓取基片，无法实现基片从抛光头上的直接卸载，导致卸载过程操作较为繁琐、占用空间较大。

发明内容

本申请的目的在于提供一种基片卸载机械手及包括该基片卸载机械手的基片加工系统，以解决现有技术中存在的无法实现直接通过机械手直接将基片从抛光头上的直接卸载，导致卸载过程操作较为繁琐、占用空间较大的技术问题。

本申请提供了一种基片卸载机械手，包括基座、缓冲装置和浮动托盘；

所述基座和所述浮动托盘均呈环臂状，且所述浮动托盘位于所述基座上方；所述缓冲装置位于所述浮动托盘和所述基座之间，用于调整所述浮动托盘和所述基座的相对位置；

所述浮动托盘上设置有定位座，所述定位座上设置有抛光头定位斜面和基片定位斜面；所述抛光头定位斜面呈弧形并与抛光头的底端边沿相适配，用于定位所述抛光头；所述基片定位斜面呈弧形并与基片的边沿相适配，用于承接所述基片以将其从抛光头上稳定取下。

进一步地，所述浮动托盘上还设置有检测装置；

所述检测装置包括检测喷头、喷水管路和水压传感器，所述检测喷头与所述喷水管路相连通，用于向所述基片上喷水；所述水压传感器设置于所述喷水管路内并靠近所述检测喷头处，用于检测所述检测喷头喷水的水压值。

进一步地，所述缓冲装置的数量为多个，多个缓冲装置间隔设置于所述浮动托盘和所述基座之间；

所述缓冲装置包括上压盖、下压盖和波纹管，所述上压盖与所述浮动托盘相连接，所述下压盖与所述基座相连接；所述波纹管位于所述上压盖和所述下压盖之间，且所述波纹管的两端分别与所述上压盖和所述下压盖相连接，所述浮动托盘和所述基座的相对位置改变能够带动所述波纹管伸缩或偏移。

进一步地，所述缓冲装置还包括连接螺钉；

所述连接螺钉沿竖直方向设置；所述下压盖上设置有容纳腔，所述连接螺钉的螺帽端位于所述容纳腔内，所述连接螺钉的螺纹连接端与所述上压盖相连接；所述波纹管伸缩或偏移能够带动所述连接螺钉的所述螺帽端在所述容纳腔内上下运动或水平偏转。

进一步地，所述的基片卸载机械手还包括清洁装置；

所述清洁装置包括支座和清洁喷头，所述支座的一端与所述定位座相连接，所述支座的另一端向所述浮动托盘的内侧延伸；所述清洁喷头设置于所述支座上远离所述定位座的一端，且所述清洁喷头的喷孔朝向所述基片。

进一步地，所述清洁装置的数量为多个，多个所述清洁装置沿所述浮动托盘的周向均匀间隔分布。

进一步地，所述清洁装置的数量为三个，三个所述清洁装置互成120°夹角分布。

进一步地，每一所述支座上设置有两个所述清洁喷头，一个所述清洁喷头的喷水方向垂直于所述基片的下端面，另一个所述清洁喷头的喷水方向与所述基片的下端面呈夹角设置。

进一步地，所述定位座远离所述支座的一侧上设置有连接座，所述抛光头定位斜面设置于所述连接座上。

本申请还提供了一种基片加工系统，包括上述任一技术方案所述的基片卸载机械手。

与现有技术相比，本发明的有益效果为：

本申请提供的基片卸载机械手作用于抛光头下方，在驱动装置的作用下，向上运动靠近基片，用于将抛光头上的基片卸载下来。

基片卸载机械手包括基座、缓冲装置和浮动托盘，浮动托盘位于基座上方，二者均对应设置为环臂式结构，因此能够环绕基片的周向将其卸载；缓冲装置设置于浮动托盘和基座之间，缓冲装置能够在竖直方向和水平方向发生一定的形变，因此能够调整浮动托盘和基座之间的位置关系。驱动装置驱动浮动托盘与基片接触后，若机械手与抛光头不同心，则浮动托盘能够趋向于与抛光头同心的方向摆动和偏移，从而带动缓冲机构发生偏移，配合浮动托盘调整其位置，使浮动托盘能够与抛光头的周向稳定且充分接触，然后进行基片卸载。

为增强浮动托盘与基片接触时对基片的定位和固定抓取作用，在浮动托盘上还设置有定位座，定位座上设置有抛光头定位斜面和基片定位斜面，抛光头定位斜面与抛光头的边沿相适配，基片定位斜面与基片的边沿相适配；抛光头定位斜面能够对抛光头起到定位作用，配合缓冲机构实现机械手位置的调整；具体地，在机械手与抛光头不同心时，抛光头定位斜面能够配合浮动托盘和缓冲结构调整抛光头与抛光头定位斜面的接触位置，使抛光头与抛光头定位斜面保持充分稳定接触，再进行基片的卸载；而基片定位斜面用于定位基片，基片卸载后稳定下落与基片定位斜面相接触，实现对基片的稳定承接作用，然后驱动装置带动基片卸载机械手向远离抛光头的方向移动时，即可实现基片的卸载。

本申请的基片卸载机械手能够配合驱动装置直接将抛光头上的基片取下，并且在卸载基片时能够通过定位座、缓冲装置和浮动托盘的配合实现浮动托盘位置的调整，而浮动托盘的摆动能够使其与抛光头自适应对心，同时有缓冲装置还具有一定的缓冲作用使浮动托盘与抛光头保持充分接触，然后进行基片卸载，可修正设备误差造成的影响，实现了基片的稳定卸载，且卸载过程操作简单、占用空间小。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的基片卸载机械手与基片在卸载过程中的位置及结构示意图；

图2为本发明实施例提供的基片卸载机械手的整体结构示意图；

图3为本发明实施例提供的基片卸载机械手的缓冲装置的剖视结构示意图；

图4为本发明实施例提供的基片卸载机械手的检测装置和清洁装置的结构示意图。

附图标记：

1-基座，2-缓冲装置，21-上压盖，22-下压盖，23-波纹管，24-连接螺钉，25-容纳腔，3-浮动托盘，4-定位座，41-基片定位斜面，5-基片，6-抛光头，7-检测装置，71-检测喷头，72-喷水管路，8-清洁装置，81-支座，82-清洁喷头，9-连接座，91-抛光头定位斜面。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

通常在此处附图中描述和显示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。

基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面参照图1至图4描述根据本发明一些实施例的基片卸载机械手及包括该基片卸载机械手的基片加工系统。

参见图1、图2和图4所示，本申请提供了一种基片卸载机械手，包括基座1、缓冲装置2和浮动托盘3；

基座1和浮动托盘3均呈环臂状，且浮动托盘3位于基座1上方；缓冲装置2位于浮动托盘3和基座1之间，用于调整浮动托盘3和基座1的相对位置；

浮动托盘3上设置有定位座4，定位座4上设置有连接座9，连接座9上设置有抛光头定位斜面91，抛光头定位斜面91呈弧形并与抛光头6的底端边沿相适配，用于定位抛光头6；定位座4上设置有基片定位斜面41，基片定位斜面41呈弧形并与基片5的边沿相适配，用于固定基片5以将其从抛光头6上取下。

参见图1、图2和图4所示，本申请实施例提供的基片卸载机械手作用于抛光头6下方，在驱动装置的作用下，向上运动靠近基片5，用于将抛光头6上的基片5卸载下来。

具体地，基片卸载机械手包括基座1、缓冲装置2和浮动托盘3，浮动托盘3位于基座1上方，二者均对应设置为环臂式结构，因此能够环绕基片5的周向将其卸载；缓冲装置2设置于浮动托盘3和基座1之间，缓冲装置2能够在竖直方向和水平方向发生一定的形变，因此能够调整浮动托盘3和基座1之间的位置关系。驱动装置驱动浮动托盘3与抛光头6接触后，若机械手与抛光头6不同心，则浮动托盘3能够趋向于与抛光头6同心的方向摆动和偏移，从而带动缓冲机构发生偏移，配合浮动托盘3调整其位置，使基片5能够稳定下落至浮动托盘3上，实现基片5的卸载。

参见图4所示，为增强浮动托盘3与抛光头6接触的稳定性及对所卸载的基片5稳定承接，在浮动托盘3上还设置有定位座4，定位座4上设置有抛光头定位斜面91和基片定位斜面41，其中抛光头定位斜面91与抛光头6的底端边沿相适配，用于定位抛光头6；基片定位斜面41能够与基片5的边沿相适配，用于稳定承接卸载的基片5。具体地，在机械手与抛光头6不同心时，抛光头定位斜面91能够配合浮动托盘3和缓冲机构调整抛光头6与抛光头定位斜面91的接触位置，使抛光头6与抛光头定位斜面91保持稳定且充分的接触，再进行基片5的卸载；而基片定位斜面41用于定位基片5，基片5卸载后稳定下落与基片定位斜面41相接触，实现对基片5的稳定承接作用，，然后驱动装置带动基片卸载机械手向远离抛光头6的方向移动时，即可实现基片5的卸载。

优选地，驱动装置可以为气缸驱动或电机驱动装置或其他驱动装置，可以带动基片卸载机械手靠近抛光头6和基片5运动，使浮动托盘3与抛光头6稳定接触并将能够稳定承接卸载的基片5。

优选地，缓冲装置2可以为弹簧、气囊、气体弹簧或液压缓冲器等结构，只要能够起到缓冲的作用，并配合浮动托盘3调整浮动托盘3与基片5的接触位置。

浮动托盘3和基座1的环臂式结构能够环设于基片5和抛光头6的外边沿，优选地，浮动托盘3和基座1的环抱范围大于基片5圆心角的一半；且浮动托盘3和基座1可以为半圆环形结构或正圆环行结构，也可以为带有折点的环形结构，在此不做具体限定。

本申请的基片卸载机械手能够配合驱动装置直接将抛光头6上的基片5取下，并且在卸载基片5时能够通过定位座4、缓冲装置2和浮动托盘3的配合实现浮动托盘3位置的调整，而浮动托盘3的摆动能够使其与抛光头6自适应对心，同时有缓冲装置2还具有一定的缓冲作用使浮动托盘3与抛光头6保持环充分接触，然后进行基片5卸载，可修正设备误差造成的影响，实现了基片5的稳定卸载，且卸载过程操作简单、占用空间小。

参见图1、图2和图4所示，在本申请的一个实施例中，优选地，浮动托盘3上还设置有检测装置7；

检测装置7包括检测喷头71、喷水管路72和水压传感器，检测喷头71与喷水管路72相连通，用于向基片5上喷水；水压传感器设置于喷水管路72内并靠近检测喷头71处，用于检测检测喷头71喷水的水压值。

在该实施例中，浮动托盘3上还设置有检测装置7，检测装置7用于检测基片5是否被卸载下来，防止进行误操作。

具体地，参见图4所示，检测装置7包括检测喷头71、喷水管路72和水压传感器，检测喷头71与喷水管路72相连通，检测喷头71朝向基片5设置，并能够向基片5喷射水。在喷水管路72内设置有水压传感器，水压传感器用于检测喷水管路72内水压的变化，从而判断喷头喷水压力的变化，进而判断基片5是否被卸载下来。当本申请的基片卸载机械手完成基片5卸载动作时，驱动机构会带动基片卸载机械手远离抛光头6，此时检测装置7开启，检测喷头71向基片5喷射水，若基片5成功卸载，则检测喷头71与基片5之间的间距恒定，因此当输入喷水管理内的水压和流速一定时，喷头喷出的水在打在基片5上的一刻水压下降，之后一直保持恒定，而靠近喷头处的喷水管路72内水压变化与喷头的水压变化基本一致；若基片5未能成功卸载，则喷头喷出的水在打在基片5上的一刻水压下降，之后随着基片卸载机械手远离抛光头6及其上的基片5，使得检测喷头71与基片5的间距逐渐增大，因此检测喷头71的水压逐渐减小，水压传感器即检测到水压逐渐减小的信号，判断基片5未能成功卸载。

因此，本申请的基片卸载机械手在能够直接从抛光头6卸载基片5的基础上，还能够判断基片5是否卸载成功，从而避免了后序的误操作。

需要说明的是，上述实施例给出的水压传感器设置于喷水管路72内且靠近检测喷头71的位置，因此水压传感器检测其所在处的喷水管路72内的水压变化基本与检测喷头71的水压变化对应一致。而由于检测喷头71与基片5之间的空间较小，将水压传感器设置于喷水管路72内的好处是节省空间。

此外，上述实施例给出的是通过水压传感器检测喷水管路72内的水压信号来判断基片5是否被卸载；还可以在喷水管路72内测试流速传感器，通过喷水管路72内水流速的变化来判断基片5的卸载情况，因为当喷头上的水打在基片5上时，由于受到阻碍作用，水流速降低，之后若成功卸载，喷头与基片5之间的距离不变则检测到的水流速基本恒定；而若未能成功卸载，喷头与基片5之间的间距变大，则检测到的水流速会变大。

参见图1至图3所示，在本申请的一个实施例中，优选地，缓冲装置2的数量为多个，多个缓冲装置2间隔设置于浮动托盘3和基座1之间；

缓冲装置2包括上压盖21、下压盖22和波纹管23，上压盖21与浮动托盘3相连接，下压盖22与基座1相连接；波纹管23位于上压盖21和下压盖22之间，且波纹管23的两端分别与上压盖21和下压盖22相连接，浮动托盘3和基座1的相对位置改变能够带动波纹管23伸缩或偏移。

参见图1至图3所示，在该实施例中，为保证浮动托盘3位置调整时的稳定性，缓冲装置2设置为多个，多个缓冲装置2间隔设置于浮动托盘3和基座1之间。

具体地，参见图3所示，缓冲装置2包括上压盖21、下压盖22和波纹管23，上压盖21与浮动托盘3通过螺钉固定连接，下压盖22通过螺钉与基座1固定连接，波纹管23位于上压盖21和下压盖22之间，且波纹管23的两端分别与上压盖21和下压盖22相连接。由于波纹管23可以沿竖直方向伸缩或沿水平方向偏移，因此能够配合浮动托盘3在竖直方向上和水平方向上进行一定量的位置变化，从而使得浮动托盘3更稳定地包覆在基片5的周向，并将基片5卸载下来。

优选地，上压盖21可以设置于浮动托盘3的上端面，可以设置于浮动托盘3的下端面；同理，下压盖22也可设置于基座1的上端面或下端面，在此不做具体限定。

优选地，波纹管23选用金属波纹管。

参见图3所示，在本申请的一个实施例中，优选地，缓冲装置2还包括连接螺钉24；

连接螺钉24沿竖直方向设置；下压盖22上设置有容纳腔25，连接螺钉24的螺帽端位于容纳腔25内，连接螺钉24的螺纹连接端与上压盖21相连接；波纹管23伸缩或偏移能够带动连接螺钉24的螺帽端在容纳腔25内上下运动或水平偏转。

在该实施例中，由于波纹管23具有一定的柔性，因此会出现偏移量过大的情况，为更好的控制浮动托盘3的摆动，缓冲装置2还包括连接螺钉24，连接螺钉24沿竖直方向设置，且连接螺钉24的螺纹连接端与上盖板相固定连接，连接螺钉24的螺帽端伸入下压盖22的容纳腔25内，下压盖22的容纳腔25具有一个收口，因此能够保证连接螺钉24的螺帽端不会从容纳腔25内跑出，因此就限制了上压盖21在竖直方向上的移动范围；并且由于容纳腔25在水平方向上的尺寸也有限，因此限制了上压盖21在水平方向上的偏移范围，从而保证了浮动托盘3能够在一定的水平和竖直范围内摆动，实现浮动托盘3与抛光头6自适应对心，保证基片5的稳定卸载。

参见图1、图2和图4所示，在本申请的一个实施例中，优选地，的基片卸载机械手还包括清洁装置8；

清洁装置8包括支座81和清洁喷头82，支座81的一端与定位座4相连接，支座81的另一端向浮动托盘3的内侧延伸；清洁喷头82设置于支座81上远离定位座4的一端，且清洁喷头82的喷孔朝向基片5。

在该实施例中，由于基片5在卸载和搬运的过程中需要洁净水保湿处理，否则会有析出结晶的风险存在；因此本申请的基片卸载机械手还设置有清洁装置8。

具体地，清洁装置8包括支座81和清洁喷头82，支座81的一端与定位座4固定连接，支座81的另一端向浮动托盘3的内侧延伸，而清洁喷头82设置于支座81向浮动托盘3内侧延伸的一端，从而使得在卸载基片5时，清洁喷头82位于基片5的底部，用于向基片5喷射清洁水，以保持其湿度。

需要说明的是，清洁喷头82与清洁水管路相连通，用于向清洁喷头82供水。

在本申请的一个实施例中，优选地，清洁装置8的数量为多个，多个清洁装置8沿浮动托盘3的周向均匀间隔分布。

在该实施例中，为更均匀地对基片5进行保湿处理，设置清洁装置8的数量为多个，清洁装置8沿浮动托盘3的周向均匀间隔分布，且各清洁装置8的喷头均向基片5的底部延伸，对基片5进行均匀保湿处理。

参见图1和图2所示，在本申请的一个实施例中，优选地，清洁装置8的数量为三个，三个清洁装置8互成120°夹角分布。

在该实施例中，进一步优选地，清洁装置8的数量为三个，且三个清洁装置8互成120°夹角分布，在保证装置结构简洁性的基础上实现了对基片5的全面保湿处理。

优选地，三个清洁装置8中的两个分别位于环臂形浮动托盘3的两端，另一个清洁装置8位于浮动托盘3的中部。

参见图4所示，在本申请的一个实施例中，优选地，每一支座81上设置有两个清洁喷头82，一个清洁喷头82的喷水方向垂直于基片5的下端面，另一个清洁喷头82的喷水方向与基片5的下端面呈夹角设置。

在该实施例中，为保证清洁装置8对基片5清洁保湿处理的全面性，在每个支座81上均设置有两个清洁喷头82，一个清洁喷头82的喷水方向垂直于基片5的下端面，另一个清洁喷头82的喷水方向与基片5的下端面呈夹角设置，以增加清洁喷头82的喷淋面积，以保证对基片5进行最大面积的清洁与湿润处理。

参见图4所示，在本申请的一个实施例中，优选地，所述定位座4上远离支座81的一侧设置有连接座9，抛光头定位斜面91设置于连接座9上。

在该实施例中，由于基片5位于抛光头6内，为实现抛光头定位斜面91对抛光头6的稳定定位作用，抛光头定位斜面91位于基片定位斜面41的外侧，且抛光头定位斜面91的高度高于基片定位斜面41，因此在定位座4上设置一连接座9，且连接座9位于定位座4上远离支座81的一侧，以调整抛光头定位斜面91的位置使其与抛光头6相接触。此外，由于本申请的基片卸载机械手包括多个定位座4，因此抛光头定位斜面91的数量也为多个，从而能够更稳定地对抛光头6起到定位作用。

本申请还提供了一种基片加工系统，包括上述任一实施例的基片卸载机械手。

在该实施例中，由于基片加工系统包括基片卸载机械手，因而具有基片卸载机械手的全部有益效果，在此不再一一赘述。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (9)

1.一种基片卸载机械手，其特征在于，包括基座、缓冲装置和浮动托盘；

所述基座和所述浮动托盘均呈环臂状，且所述浮动托盘位于所述基座上方；所述缓冲装置位于所述浮动托盘和所述基座之间，用于调整所述浮动托盘和所述基座的相对位置；

所述浮动托盘上设置有定位座，所述定位座上设置有抛光头定位斜面和基片定位斜面；所述抛光头定位斜面呈弧形并与抛光头的底端边沿相适配，用于定位所述抛光头；所述基片定位斜面呈弧形并与基片的边沿相适配，用于承接所述基片以将其从所述抛光头上稳定取下；

所述浮动托盘上还设置有检测装置；

所述检测装置包括检测喷头、喷水管路和水压传感器，所述检测喷头与所述喷水管路相连通，用于向所述基片上喷水；所述水压传感器设置于所述喷水管路内并靠近所述检测喷头处，用于检测所述检测喷头喷水的水压值。

2.根据权利要求1所述的基片卸载机械手，其特征在于，所述缓冲装置的数量为多个，多个缓冲装置间隔设置于所述浮动托盘和所述基座之间；

所述缓冲装置包括上压盖、下压盖和波纹管，所述上压盖与所述浮动托盘相连接，所述下压盖与所述基座相连接；所述波纹管位于所述上压盖和所述下压盖之间，且所述波纹管的两端分别与所述上压盖和所述下压盖相连接，所述浮动托盘和所述基座的相对位置改变能够带动所述波纹管伸缩或偏移。

3.根据权利要求2所述的基片卸载机械手，其特征在于，所述缓冲装置还包括连接螺钉；

所述连接螺钉沿竖直方向设置；所述下压盖上设置有容纳腔，所述连接螺钉的螺帽端位于所述容纳腔内，所述连接螺钉的螺纹连接端与所述上压盖相连接；所述波纹管伸缩或偏移能够带动所述连接螺钉的所述螺帽端在所述容纳腔内上下运动或水平偏转。

4.根据权利要求1所述的基片卸载机械手，其特征在于，还包括清洁装置；

所述清洁装置包括支座和清洁喷头，所述支座的一端与所述定位座相连接，所述支座的另一端向所述浮动托盘的内侧延伸；所述清洁喷头设置于所述支座上远离所述定位座的一端，且所述清洁喷头的喷孔朝向所述基片。

5.根据权利要求4所述的基片卸载机械手，其特征在于，所述清洁装置的数量为多个，多个所述清洁装置沿所述浮动托盘的周向均匀间隔分布。

6.根据权利要求5所述的基片卸载机械手，其特征在于，所述清洁装置的数量为三个，三个所述清洁装置互成120°夹角分布。

7.根据权利要求5或6所述的基片卸载机械手，其特征在于，每一所述支座上设置有两个所述清洁喷头，一个所述清洁喷头的喷水方向垂直于所述基片的下端面，另一个所述清洁喷头的喷水方向与所述基片的下端面呈夹角设置。

8.根据权利要求4所述的基片卸载机械手，其特征在于，所述定位座远离所述支座的一侧上设置有连接座，所述抛光头定位斜面设置于所述连接座上。

9.一种基片加工系统，其特征在于，包括权利要求1至8任一项所述的基片卸载机械手。

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