CN109599420A - 一种显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本申请提出了一种显示面板及其制作方法。所述显示面板包括基板以及像素单元。所述像素单元包括：薄膜晶体管阵列、平坦化层、像素定义层以及发光器件。所述发光器件包括：阳极层、阴极层和设置于所述阳极层与所述阴极层之间的至少两个发光层。以及至少一个辅助电极层，设置于相邻的所述发光层之间。其中，所述辅助电极层与所述阳极层和所述阴极层相互分离，所述发光层之间相互分离。本申请通过在显示面板中采用辅助电极和叠层发光层的结构。进而在发光器件的制备过程中不需要采用精细金属掩模版制程。在简化了显示面板制备工艺的同时，使单个像素可以发出全部颜色的光，提高了显示面板的分辨率。

Description

一种显示面板及其制作方法
技术领域
本申请涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
在平板显示技术中，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示器具有轻薄、主动发光、响应速度快、可视角大、色域宽、亮度高和功耗低等众多优点，逐渐成为继液晶显示器后的第三代显示技术。相对于液晶显示器(Liquid crystaldisplays，LCD)，OLED具有更省电，更薄，且视角宽的优势，这是LCD无法比拟的。目前，人们对显示的细腻程度即分辨率要求越来越高，但生产高质量、高分辨率的OLED显示屏仍然面临着许多挑战。
目前应用到显示领域的OLED屏幕通常采用R、G、B像素单元平铺的器件结构，RGB发光单元分别利用具有精准像素位置开口的精细金属掩模版(Fine Metal Mask，FMM)蒸镀到对应位置从而使不同像素发出不同颜色的光。但是这种结构对FMM的要求极高，尤其在大尺寸面板制造过程中，利用FMM精确蒸镀RGB发光单元尤为困难，因此，目前亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述问题。
发明内容
本申请提供一种显示面板及制作方法，以解决现有显示面板在制备发光层时需要采用精确金属掩模版进行精准对位，进而导致工艺难度较大，采用精确金属掩模版成本较高的问题。
为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
本申请提供一种显示面板，其中，所述显示面板包括基板以及设置于所述基板表面的像素单元，所述像素单元包括：
薄膜晶体管阵列，设置于所述基板上，包括阵列分布的薄膜晶体管；
平坦化层，设置在所述薄膜晶体管阵列上；
像素定义层，设置于平坦化层上，所述像素定义层包括间隔分布的像素定义体；
发光器件，设置于所述像素定义体之间区域，所述发光器件包括：
阳极层，设置于所述平坦化层上；
阴极层，设置于所述阳极层的上方；
至少两个发光层，设置于所述阳极层与所述阴极层之间；以及
至少一个辅助电极层，设置于相邻的所述发光层之间；
其中，所述辅助电极层与所述阳极层和所述阴极层相互分离，所述发光层之间相互分离。
根据本申请一实施例，所述发光器件包括第一发光层、第二发光层、第三发光层、第一辅助电极层以及第二辅助电极层；
其中，所述第一发光层，设置在所述阳极层上；
所述第一辅助电极层，设置在所述第一发光层上；
所述第二发光层，设置在所述第一辅助电极层上；
所述第二辅助电极层，设置在所述第二发光层上；
所述第三发光层，设置在所述第二辅助电极层上；
所述阴极层，设置在所述第三发光层上。
根据本申请一实施例，所述第一发光层、所述第二发光层以及所述第三发光层分别为红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层中的其中一者，且所述第一发光层、所述第二发光层以及所述第三发光层的发光颜色互不相同。
根据本申请一实施例，所述薄膜晶体管阵列通过不同的过孔与所述阳极层以及所述辅助电极层电连接。
根据本申请一实施例，所述辅助电极层、所述阳极层分别与不同的所述薄膜晶体管电连接。
根据本申请一实施例，所述显示面板包括：第一辅助电极层、第二辅助电极层、第一薄膜晶体管、第二薄膜晶体管，以及第三薄膜晶体管，所述阳极层与所述第一薄膜晶体管电连接，所述第一辅助电极层与所述第二薄膜晶体管电连接，所述第二辅助电极层与所述第三薄膜晶体管电连接。
根据本申请一实施例，所述过孔包括第一过孔、第二过孔、第三过孔；
所述阳极层通过所述第一过孔与所述第一薄膜晶体管电连接，所述第一辅助电极层通过所述第二过孔与所述第二薄膜晶体管电连接，所述第二辅助电极层通过第三过孔与所述第三薄膜晶体管电连接。
根据本申请一实施例，所述薄膜晶体管阵列包括依次层叠设置的有源层、第一栅绝缘层、第一金属层、第二栅绝缘层、第二金属层、间绝缘层以及第三金属层，所述第三金属层通过通孔与所述有源层连接；
所述第一过孔贯穿所述平坦化层，所述第二过孔和所述第三过孔贯穿所述像素定义层以及所述平坦化层，用以将所述薄膜晶体管的第三金属层与所述发光器件连接。
根据本申请的另一个方面，提供了一种显示面板的制作方法，包括：
步骤S10、提供一基板，在所述基板上制作薄膜晶体管阵列，所述薄膜晶体管阵列包括阵列分布的薄膜晶体管；
步骤S20、在所述薄膜晶体管阵列上形成平坦化层，在所述平坦化层上形成像素定义层，所述像素定义层包括间隔分布的像素定义体；
步骤S30、在所述像素定义体之间的空隙中依次形成阳极层、第一发光层、第一辅助电极层、第二发光层、第二辅助电极层、第三发光层以及阴极层；
其中，所述薄膜晶体管阵列包括第一薄膜晶体管、第二薄膜晶体管、以及第三薄膜晶体管，所述阳极层、所述第一辅助电极层、所述第二辅助电极层分别通过不同过孔与不同的所述薄膜晶体管电连接。
根据本申请一实施例，所述薄膜晶体管包括平坦化层，所述步骤S30包括：
步骤S301、在所述像素定义层与所述平坦化层中形成第一过孔，并在所述像素定义体之间形成通过第一过孔与所述第一薄膜晶体管的金属层电连接的阳极层；
步骤S302、在所述阳极层上形成第一发光层，在所述像素定义层与所述平坦化层中形成第二过孔，采用精细金属掩模版形成第一辅助电极层，所述第一辅助电极层通过所述第二过孔与所述第二薄膜晶体管的金属层电连接；
步骤S303、在所述第一辅助电极层上形成第二发光层，在像素定义层与所述平坦化层中形成第三过孔，采用精细金属掩模版形成第二辅助电极层，所述第二辅助电极层通过所述第三过孔与所述第三薄膜晶体管的金属层电连接；
步骤S303、在所述第二辅助电极层上依次形成第三发光层与阳极层；
其中，所述过孔包括第一过孔、第二过孔和第三过孔,所述第一过孔采用光罩工艺形成，所述第二过孔和所述第三过孔采用激光刻蚀工艺形成。
有益效果：本申请通过在显示面板中采用辅助电极和叠层发光层的结构，进而在发光器件的制备过程中不需要采用精细金属掩模版制程，在简化了显示面板制备工艺的同时，使单个像素可以发出全部颜色的光，提高了显示面板的分辨率。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2为本申请一实施例提供的一种显示面板中薄膜晶体管阵列的结构示意图；
图3为本申请另一实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程示意图；
图4a-4c所示为本申请另一实施例提供的一种显示面板的制作方法的工艺流程图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
请参阅图1，图1为本申请一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。
本申请提供了一种显示面板，包括基板10以及设置于所述基板10表面的像素单元20，所述像素单元20包括：薄膜晶体管阵列21、平坦化层22、像素定义层23和发光器件24。
薄膜晶体管阵列21，设置于所述基板10上，包括阵列分布的薄膜晶体管。
请参阅图2，图2为本申请一实施例提供的一种显示面板中薄膜晶体管阵列的结构示意图。
所述薄膜晶体管阵列21包括第一薄膜晶体管21a、第二薄膜晶体管21b，第三薄膜晶体管21c，所述三种薄膜晶体管在本申请中承分别承担不同的作用，在后面会进行陈述。
平坦化层22，设置在所述薄膜晶体管阵列21上，用于将所述薄膜晶体管阵列21的表面平坦化。
像素定义层23，设置于平坦化层22上，所述像素定义层23包括间隔分布的像素定义体23a，所述像素定义体23a之间的空隙区域为为像素区域。
发光器件24，设置于所述像素定义体23a之间区域，且设置在所述平坦化层22表面，所述发光器件24包括阳极层241、阴极层244、阴极层244、至少两个发光层242以及至少一个辅助电极层243。
阳极层241，设置于所述平坦化层22上，并于所述第一薄膜晶体管21a通过第一过孔31进行电连接。以接收所述第一薄膜晶体管21a所传递的电压信号。
阴极层244，设置于所述阳极层241的上方。
至少两个发光层242，设置于所述阳极层241与所述阴极层242之间。
至少一个辅助电极层243，设置于相邻的所述发光层242之间。
其中，所述辅助电极层243与所述阳极层241和所述阴极层242相互分离，所述发光层242之间相互分离，进而避免不同发光膜层之间产生相互影响。
在一种实施例中，所述发光器件24包括第一发光层242a、第二发光层242b、第三发光层242c、第一辅助电极层243a以及第二辅助电极层243b。
在一种实施例中，所述第一发光层242a设置在所述阳极层241上。
所述第一辅助电极层243a，设置在所述第一发光层242a上。
所述第二发光层242b，设置在所述第一辅助电极层243a上。
所述第二辅助电极层243b，设置在所述第二发光层242b上。
所述第三发光层242c，设置在所述第二辅助电极层243b上。
所述阴极层244，设置在所述第三发光层242c上。
在一种实施例中，所述第一发光层242a、所述第二发光层242b以及所述第三发光层242c，分别为红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层中的其中一者。且所述第一发光层242a、所述第二发光层242b以及所述第三发光层242c的发光颜色互不相同。
进一步的，所述发光层242包括空穴传输层、蓝色发光层以及电子传输层，无论是第一发光层242a、第二发光层242b还是第三发光层242c都具备上述膜层结构。
优选的，所述薄膜晶体管阵列21通过不同的过孔(包括第一过孔31、第二过孔32、第三过孔33)与所述阳极层241以及所述辅助电极层243电连接。
所述辅助电极层243、所述阳极层241分别与不同的所述薄膜晶体管电连接。
优选的，所述显示面板包括：第一辅助电极层243a、第二辅助电极层243b、第一薄膜晶体管21a、第二薄膜晶体管21b，以及第三薄膜晶体管21c，所述阳极层241与所述第一薄膜晶体管21a电连接，所述第一辅助电极层243a与所述第二薄膜晶体管21b电连接，所述第二辅助电极层243b与所述第三薄膜晶体管21c电连接。
进一步的，所述过孔包括第一过孔31、第二过孔32、第三过孔33；
所述阳极层241通过所述第一过孔31与所述第一薄膜晶体管电21a连接，所述第一辅助电极层243a通过所述第二过孔32与所述第二薄膜晶体管21b电连接，所述第二辅助电极层243b通过第三过孔33与所述第三薄膜晶体管21c电连接。
具体的，所述薄膜晶体管阵列21包括依次层叠设置的有源层、第一栅绝缘层212、第一金属层、第二栅绝缘层214、第二金属层、间绝缘层216以及第三金属层，所述第三金属层通过通孔与所述有源层连接；
具体的，所述有源层包括第一薄膜晶体管21a的有源层211a、第二薄膜晶体管21b的有源层211b、第三薄膜晶体管21c的有源层211c。第一金属层包括：第一薄膜晶体管21a的第一金属层213a、第二薄膜晶体管21b的第一金属层213b、第三薄膜晶体管21c的第一金属层213c。第二金属层包括：第一薄膜晶体管21a的第二金属层215a、第二薄膜晶体管21b的第二金属层215b、第三薄膜晶体管21c的第二金属层215c。第三金属层包括：第一薄膜晶体管21a的第三金属层217a、第二薄膜晶体管21b的第三金属层217b、第三薄膜晶体管21c的第三金属层217c。
所述第一过孔31贯穿所述平坦化层22，所述第二过孔32和所述第三过孔33贯穿所述像素定义层23以及所述平坦化层22，用以将所述薄膜晶体管的第三金属层与所述发光器件24连接。
根据本申请的另一个实施例，请参阅图3，图3提供了一种显示面板的制作方法，包括：
请参阅图4a，步骤S10、提供一基板10，在所述基板10上制作薄膜晶体管阵列21，所述薄膜晶体管阵21列包括阵列分布的薄膜晶体管。
请参阅图4b，步骤S20、在所述薄膜晶体管阵列21上形成平坦化层22，在所述平坦化层22上形成像素定义层23，所述像素定义层23包括间隔分布的像素定义体23a。
请参阅图4c，步骤S30、在所述像素定义体23a之间的空隙中依次形成阳极层241、第一发光层242a、第一辅助电极层243a、第二发光层242b、第二辅助电极层243b、第三发光层242c以及阴极层244。
在一种实施例中，所述薄膜晶体管阵列21包括第一薄膜晶体管21a、第二薄膜晶体管21b、以及第三薄膜晶体管21c，所述阳极层241、所述第一辅助电极层243a、所述第二辅助电极层243b分别通过不同过孔与不同的所述薄膜晶体管电连接。
在一种实施例中，所述步骤S30包括：
步骤S301、在所述像素定义层23与所述平坦化层22中形成第一过孔31，并在所述像素定义体23a之间形成通过第一过孔31与所述第一薄膜晶体管21a的金属层电连接的阳极层241。
步骤S302、在所述阳极层241上形成第一发光层242a，在所述像素定义层23与所述平坦化层22中形成第二过孔32，采用第一精细金属掩模版形成第一辅助电极层243a，所述第一辅助电极层243a通过所述第二过孔32与所述第二薄膜晶体管21b的金属层电连接。
步骤S303、在所述第一辅助电极层243a上形成第二发光层242b，在像素定义层23与所述平坦化层22中形成第三过孔32，采用第二精细金属掩模版形成第二辅助电极层243b，所述第二辅助电极层243b通过所述第三过孔33与所述第三薄膜晶体管21c的金属层电连接。
步骤S303、在所述第二辅助电极层243b上依次形成第三发光层242c与阴极层244。
其中，所述过孔包括第一过孔31、第二过孔32和第三过孔33,所述第一过孔31采用光罩工艺形成，所述第二过孔32和所述第三过孔33采用激光刻蚀工艺形成。
在一种实施例中，所述精细金属掩模版用于定义所述辅助电极层243的边界，所述边界包括像素区和过孔区。
在显示面板的像素区内，阳极层241与第一辅助电极层243a之间的电压降决定了第一发光层242a的发光亮度，第一辅助电极层243a和第二辅助电极层243b之间的电压降决定了第二发光层242b的发光亮度,第二辅助电极层243b与阴极层244之间的电压将决定了第三发光层242c的发光亮度。本申请通过薄膜晶体管阵列21分别控制阳极层241、第一辅助电极层243a和第二辅助电极层243b的电压，从而实现了对RGB三色的亮度调控和OLED全彩发光，在提高了显示面板分辨率的同时，避免了精细金属掩模版与像素进行精准对位的问题，提高了显示面板的制作效率。
本申请通过在显示面板中采用辅助电极和叠层发光层的结构，进而在发光器件的制备过程中不需要采用精细金属掩模版制程，在简化了显示面板制备工艺的同时，使单个像素可以发出全部颜色的光，提高了显示面板的分辨率。
综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括基板以及设置于所述基板表面的像素单元，所述像素单元包括：
薄膜晶体管阵列，设置于所述基板上，包括阵列分布的薄膜晶体管；
平坦化层，设置在所述薄膜晶体管阵列上；
像素定义层，设置于平坦化层上，所述像素定义层包括间隔分布的像素定义体；以及
发光器件，设置于所述像素定义体之间区域，所述发光器件包括：
阳极层，设置于所述平坦化层上；
阴极层，设置于所述阳极层的上方；
至少两个发光层，设置于所述阳极层与所述阴极层之间；以及
至少一个辅助电极层，设置于相邻的所述发光层之间；
其中，所述辅助电极层与所述阳极层和所述阴极层相互分离，所述发光层之间相互分离。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光器件包括第一发光层、第二发光层、第三发光层、第一辅助电极层以及第二辅助电极层；
其中，所述第一发光层，设置在所述阳极层上；
所述第一辅助电极层，设置在所述第一发光层上；
所述第二发光层，设置在所述第一辅助电极层上；
所述第二辅助电极层，设置在所述第二发光层上；
所述第三发光层，设置在所述第二辅助电极层上；
所述阴极层，设置在所述第三发光层上。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一发光层、所述第二发光层以及所述第三发光层分别为红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层中的其中一者，且所述第一发光层、所述第二发光层以及所述第三发光层的发光颜色互不相同。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管阵列通过不同的过孔与所述阳极层以及所述辅助电极层电连接。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述辅助电极层、所述阳极层分别与不同的所述薄膜晶体管电连接。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：第一辅助电极层、第二辅助电极层、第一薄膜晶体管、第二薄膜晶体管，以及第三薄膜晶体管，所述阳极层与所述第一薄膜晶体管电连接，所述第一辅助电极层与所述第二薄膜晶体管电连接，所述第二辅助电极层与所述第三薄膜晶体管电连接。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述过孔包括第一过孔、第二过孔、第三过孔；
所述阳极层通过所述第一过孔与所述第一薄膜晶体管电连接，所述第一辅助电极层通过所述第二过孔与所述第二薄膜晶体管电连接，所述第二辅助电极层通过第三过孔与所述第三薄膜晶体管电连接。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管阵列包括依次层叠设置的有源层、第一栅绝缘层、第一金属层、第二栅绝缘层、第二金属层、间绝缘层以及第三金属层，所述第三金属层通过通孔与所述有源层连接；
所述第一过孔贯穿所述平坦化层，所述第二过孔和所述第三过孔贯穿所述像素定义层以及所述平坦化层，用以将所述薄膜晶体管的第三金属层与所述发光器件连接。
9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
步骤S10、提供一基板，在所述基板上制作薄膜晶体管阵列，所述薄膜晶体管阵列包括阵列分布的薄膜晶体管；
步骤S20、在所述薄膜晶体管阵列上形成平坦化层，在所述平坦化层上形成像素定义层，所述像素定义层包括间隔分布的像素定义体；
步骤S30、在所述像素定义体之间的空隙中依次形成阳极层、第一发光层、第一辅助电极层、第二发光层、第二辅助电极层、第三发光层以及阴极层；
其中，所述薄膜晶体管阵列包括第一薄膜晶体管、第二薄膜晶体管、以及第三薄膜晶体管，所述阳极层、所述第一辅助电极层、所述第二辅助电极层分别通过不同过孔与不同的所述薄膜晶体管电连接。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S30包括：
步骤S301、在所述像素定义层与所述平坦化层中形成第一过孔，并在所述像素定义体之间形成通过第一过孔与所述第一薄膜晶体管的金属层电连接的阳极层；
步骤S302、在所述阳极层上形成第一发光层，在所述像素定义层与所述平坦化层中形成第二过孔，采用精细金属掩模版形成第一辅助电极层，所述第一辅助电极层通过所述第二过孔与所述第二薄膜晶体管的金属层电连接；
步骤S303、在所述第一辅助电极层上形成第二发光层，在像素定义层与所述平坦化层中形成第三过孔，采用精细金属掩模版形成第二辅助电极层，所述第二辅助电极层通过所述第三过孔与所述第三薄膜晶体管的金属层电连接；
步骤S303、在所述第二辅助电极层上依次形成第三发光层与阳极层；
其中，所述过孔包括第一过孔、第二过孔和第三过孔，所述第一过孔采用光罩工艺形成，所述第二过孔和所述第三过孔采用激光刻蚀工艺形成。
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