CN111584737A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制作方法，所述显示面板包括：电晶体基板；彩膜层，设置于所述电晶体基板上，所述彩膜层包括多个色阻块；平坦层，设置于所述电晶体基板上，并覆盖所述多个色阻块；像素定义层，设置于所述平坦层上；沟槽，对应设置于相邻的两个所述色阻块之间，且所述沟槽包括贯穿所述像素定义层的第一槽体，以及贯穿部分所述平坦层的第二槽体；以及反射阴极层，覆盖所述像素定义层，并填充于所述沟槽内；相比于现有技术，本申请防止了光线照射至相邻或其他不需要发光的色阻块内，进而避免了漏光现象的产生，提高了显示面板的发光效率。

Description

显示面板及其制作方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
有机电致发光显示装置(Organic Light-Emitting Display，简称为OLED)相对于液晶显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术，其中的自发光元件，即OLED器件主要由依次远离基板设置的阳极层、有机材料功能层(通常包括电子传输层、发光层以及空穴传输层等功能层)以及阴极层构成，根据发光方向的不同，OLED器件可分为底发光型(即相对于基板向下发光)和顶发光型(即相对于基板向上发光)两种类型。
目前的底发光型OLED器件中，光线需要通过平坦层和彩膜层，由于平坦层一般是高穿透有机材料，光线传播的多向性，将导致光线照射到不需要发光的区域，从而引起漏光，导致光效率降低。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法，能够防止显示面板内发出的光线照射至其他的像素区内，进而避免了漏光现象的发生，以及光效率降低的技术问题。
为解决上述技术问题，本申请实施例提供一种显示面板，包括：
电晶体基板；
彩膜层，设置于所述电晶体基板上，所述彩膜层包括多个色阻块；
平坦层，设置于所述电晶体基板上，并覆盖所述多个色阻块；
像素定义层，设置于所述平坦层上；
沟槽，对应设置于相邻的两个所述色阻块之间，且所述沟槽包括贯穿所述像素定义层的第一槽体，以及贯穿部分所述平坦层的第二槽体；以及
反射阴极层，覆盖所述像素定义层，并填充于所述沟槽内。
在本申请的一种实施例中，所述反射阴极层的材料包括银或铝。
在本申请的一种实施例中，所述第一槽体的内径大于或等于所述第二槽体的内径。
在本申请的一种实施例中，所述第二槽体的深度占所述平坦层厚度的10％至90％。
在本申请的一种实施例中，所述第二槽体的内径小于或等于相邻的两个所述色阻块之间的间距。
在本申请的一种实施例中，所述沟槽在所述彩膜层上的投影连续或不连续地包围所述多个色阻块中的每一者。
在本申请的一种实施例中，所述像素定义层形成有与所述多个色阻块一一对应的多个像素区，且所述多个像素区中的每一者内皆设置有有机发光层，所述有机发光层与所述反射阴极层电性连接。
在本申请的一种实施例中，所述显示面板还包括设置于所述平坦层和所述像素定义层之间的多个阳极，所述多个阳极与所述多个像素区一一对应，且每个所述像素区暴露其对应阳极的上表面，所述有机发光层设置于其对应的阳极上。
在本申请的一种实施例中，所述多个色阻块中的每一者皆独立的选自以下之一：红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块以及白色色阻块。
根据本申请的上述目的，提供一种显示面板的制作方法，所述方法包括：
S10、制备彩膜层于电晶体基板上，且所述彩膜层包括多个色阻块；
S20、制备平坦层于所述彩膜层上并覆盖所述多个色阻块，且所述平坦层上设置有贯穿部分所述平坦层的第二槽体，所述第二槽体对应位于相邻的两个所述色阻块之间；
S30、制备像素定义层于所述平坦层上，所述像素定义层对应所述第二槽体的位置设置有贯穿所述像素定义层的第一槽体，且所述第一槽体与所述第二槽体相连以形成沟槽；以及
S40、制备反射阴极层于所述像素定义层上，且所述反射阴极层覆盖所述像素定义层，并填充于所述沟槽内。
本申请的有益效果：本申请提供的显示面板，通过在平坦层和像素定义层中设置沟槽，并设置整层的反射阴极层，以填充于沟槽内，使得照射至沟槽区域的光线被反射回去，从而防止了光线照射至相邻或其他不需要发光的色阻块内，进而避免了漏光现象的产生，提高了显示面板的发光效率，提高了显示面板的显示效果。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请实施例提供的显示面板结构示意图。
图2为本申请实施例提供的一种沟槽平面结构示意图。
图3为本申请实施例提供的另一种沟槽平面结构示意图。
图4为本申请实施例提供的显示面板制作方法流程图。
图5为本申请实施例提供的显示面板制作过程结构示意图。
图6为本申请实施例提供的显示面板制作过程结构示意图。
图7为本申请实施例提供的显示面板制作过程结构示意图。
图8为本申请实施例提供的显示面板制作过程结构示意图。
图9为本申请实施例提供的显示面板制作过程结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
本申请针对现有的显示面板，由于平坦层中发生漏光，从而导致光效率降低，进而影响显示的技术问题。
为解决上述技术问题，本申请实施例提供一种显示面板，请参照图1所示，所述显示面板包括：电晶体基板101；彩膜层102，设置于所述电晶体基板101上，所述彩膜层102包括多个色阻块102a；平坦层103，设置于所述电晶体基板101上，并覆盖所述多个色阻块102a；像素定义层105，设置于所述平坦层103上；沟槽109，对应设置于相邻的两个所述色阻块102a之间，且所述沟槽109包括贯穿所述像素定义层105的第一槽体1091，以及贯穿部分所述平坦层103的第二槽体1092；以及反射阴极层107，覆盖所述像素定义层105，并填充于所述沟槽109内。
实施应用过程中，现有的底发光型显示面板，由于显示面板内的平坦层为高透光性，容易导致有机发光层发出的光线射入相邻的色阻块或其他不需要发光的色阻块中，导致漏光现象发生，且使得显示面板的发光效率降低，影响了显示效果，而本申请实施例提供的显示面板，通过在平坦层和像素定义层中设置沟槽，并设置反射阴极层填充于沟槽内，有效地的防止了光线射入相邻的色阻块或其他不需要发光的色阻块中，避免了漏光现象的发生，提高了显示面板的发光效率，提高了显示面板的显示效果。
具体地，请参照图1所示，所述显示面板包括电晶体基板101以及设置于所述电晶体基板101上的彩膜层102，且所述彩膜层102包括设置于所述电晶体基板101上的多个色阻块102a，且所述多个色阻块102a中的每一者皆独立的选自以下之一：红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块以及白色色阻块。
所述彩膜层102上设置有平坦层103，且所述平坦层103覆盖所述多个色阻块102a，所述平坦层103上设置有贯穿部分所述平坦层103的第二槽体1092，所述第二槽体1092对应位于相邻的两个所述色阻块102a之间，优选地，所述第二槽体1092的深度占所述平坦层厚度的10％至90％，所述第二槽体1092的内径小于或等于相邻的两个所述色阻块102a之间的间距，本申请实施例通过对所述第二槽体1092的尺寸限制，防止了所述第二槽体1092影响到像素区正常显示功能，并通过尽量增大所述第二槽体1092的深度以及内径，使得在所述第二槽体1092内填充所述反射阴极层107后，可以最大程度的防止光线照射至其他色阻块中，以达到防止漏光，提高光效，提高显示效果的目的。
所述平坦层103上设置有像素定义层106，且所述像素定义层106对应所述第二槽体1092的区域设置有第一槽体1091，所述第一槽体1091贯穿所述像素定义层1091，所述第一槽体1091与所述第二槽体1092相连以形成所述沟槽109，其中，所述所述第一槽体1091的内径大于或等于所述第二槽体1092的内径，可以使得所述反射阴极层107更充分、更容易地填充于所述沟槽109内。
所述像素定义层105形成有与所述多个色阻块102a一一对应的多个像素区108，且所述多个像素区108中的每一者内皆设置有有机发光层106。
所述像素定义层105上设置有反射阴极层107，且所述反射阴极层107覆盖所述像素定义层105，并填充于所述沟槽109内，且所述有机发光层106与所述反射阴极层107电性连接，优选地，所述反射阴极层107的材料包括银或铝，但不限于此，所述反射阴极层107的材料还可以为其他可反光的电极材料。
另外，所述平坦层103与所述像素定义层105之间还设置有多个阳极104，所述多个阳极104与所述多个像素区108一一对应，且每个所述像素区108暴露其对应阳极104的上表面，所述有机发光层106设置于其对应的阳极104上，所述有机发光层106的上表面与所述阴极反射层107电性连接，需要说明的是，所述电晶体基板101上设置有电晶体器件，且所述电晶体器件可以通过过孔与所述阳极104电性连接(图中并未示出)，以完成所述有机发光层106的发光功能。
在本申请的一种实施例中，请参照图2所示，所述沟槽109在所述彩膜层上的投影连续地包围所述多个色阻块102a中的每一者，以将所述色阻块102a完全包围，最大程度的阻挡光线照射至其他色阻块中。
在本申请的另一种实施例中，请参照图3所示，所述沟槽109在所述彩膜层上的投影不连续地包围所述多个色阻块102a中的每一者，以阻挡光线照射至其他色阻块中。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板，通过在平坦层和像素定义层中设置沟槽，并设置整层的反射阴极层，以填充于沟槽内，使得照射至沟槽区域的光线被反射回去，从而防止了光线照射至相邻或其他不需要发光的色阻块内，进而避免了漏光现象的产生，提高了显示面板的发光效率，提高了显示面板的显示效果，本申请实施例在制备阴极的同时，直接将阴极进行一整层的制备，并填充于沟槽内，一道工序内完成了阴极和反光结构的制备，极大程度的节省了工艺工序和工艺成本，提高了工艺效率和产品良率。
另外，本申请实施例还提供了一种显示面板的制作方法，即上述实施例中所述的显示面板的制作方法，请结合图1、图4、图5、图6、图7、图8以及图9所示。
所述方法包括：
S10、制备彩膜层102于电晶体基板101上，且所述彩膜层102包括多个色阻块102a。
提供电晶体基板101，且所述电晶体基板101上设置有电晶体器件。
在所述电晶体基板101上制备多个色阻块102a以形成所述彩膜层102。
S20、制备平坦层103于所述彩膜层102上并覆盖所述多个色阻块102a，且所述平坦层103上设置有贯穿部分所述平坦层103的第二槽体1092，所述第二槽体1092对应位于相邻的两个所述色阻块102a之间。
在所述彩膜层102上制备平坦层103，且所述平坦层103覆盖所述多个色阻块102a，同时，可以采用半透膜光罩工艺在所述平坦层103上制备所述第二槽体1092，且所述第二槽体1092对应位于相邻的两个所述色阻块102a之间。
在本申请实施例中，所述第二槽体1092贯穿部分所述平坦层103，所述第二槽体1092的深度占所述平坦层厚度的10％至90％，所述第二槽体1092的内径小于或等于相邻的两个所述色阻块102a之间的间距，本申请实施例通过对所述第二槽体1092的尺寸限制，防止了所述第二槽体1092影响到像素区正常显示功能，并通过尽量增大所述第二槽体1092的深度以及内径，使得在所述第二槽体1092内填充所述反射阴极层107后，可以最大程度的防止光线照射至其他色阻块中，以达到防止漏光，提高光效，提高显示效果的目的。
S30、制备像素定义层105于所述平坦层103上，所述像素定义层105对应所述第二槽体1092的位置设置有贯穿所述像素定义层105的第一槽体1091，且所述第一槽体1091与所述第二槽体1092相连以形成沟槽109。
需要说明的是，所述步骤S30还包括，在所述平坦层103上制备多个阳极104，所述多个阳极104避开所述第二槽体1092设置并与所述多个色阻块102a一一对应。
在所述平坦层103上制备像素定义层105，且所述像素定义层105在对应所述第二槽体1092的位置设置有第一槽体1091，所述第一槽体1091与所述第二槽体1092相连以形成所述沟槽109，其中，所述所述第一槽体1091的内径大于或等于所述第二槽体1092的内径，可以使得后续的所述反射阴极层107更充分、更容易的填充于所述沟槽109内。
另外，所述像素定义层105形成有与所述多个色阻块102a一一对应的多个像素区108，同时，所述多个阳极104与所述多个像素区108一一对应，且每个所述像素区108暴露其对应阳极104的上表面，并在每个所述阳极104上制备所述有机发光层106，即在所述多个像素区108中的每一者内皆可以通过喷墨打印工艺制备所述有机发光层106。
S40、制备反射阴极层107于所述像素定义层105上，且所述反射阴极层107覆盖所述像素定义层105，并填充于所述沟槽109内。
在所述有机发光层106上蒸镀所述反射阴极层107，同时，在所述像素定义层105上以及所述沟槽109内蒸镀所述反射阴极层107，使得所述反射阴极层107覆盖所述像素定义层105并填充于所述沟槽109内。
所述反射阴极层107的材料包括银或铝，但不限于此，所述反射阴极层107的材料还可以为其他可反光的电极材料。
另外，后续可以按照常规制程进行封装层等结构的制备，在此不再赘述。
综上所述，本申请实施例通过在制作显示面板过程中，依次在平坦层上制备第二槽体，在像素定义层中制备第一槽体，且第一槽体和第二槽体相连形成位于相邻的两个色阻块之间的沟槽，并在制备蒸镀阴极材料的同时，也在像素定义层上和沟槽内蒸镀阴极材料，以形成阴极反射层，使得照射至沟槽区域的光线被反射回去，从而防止了光线照射至相邻或其他不需要发光的色阻块内，进而避免了漏光现象的产生，提高了显示面板的发光效率，提高了显示面板的显示效果，且在制备蒸镀阴极材料的同时，完成了整层阴极反射层的制备，极大程度的节省了工艺工序和工艺成本，提高了工艺效率和产品良率。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
电晶体基板；
彩膜层，设置于所述电晶体基板上，所述彩膜层包括多个色阻块；
平坦层，设置于所述电晶体基板上，并覆盖所述多个色阻块；
像素定义层，设置于所述平坦层上；
沟槽，对应设置于相邻的两个所述色阻块之间，且所述沟槽包括贯穿所述像素定义层的第一槽体，以及贯穿部分所述平坦层的第二槽体；以及
反射阴极层，覆盖所述像素定义层，并填充于所述沟槽内。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述反射阴极层的材料包括银或铝。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一槽体的内径大于或等于所述第二槽体的内径。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二槽体的深度占所述平坦层厚度的10％至90％。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二槽体的内径小于或等于相邻的两个所述色阻块之间的间距。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述沟槽在所述彩膜层上的投影连续或不连续地包围所述多个色阻块中的每一者。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层形成有与所述多个色阻块一一对应的多个像素区，且所述多个像素区中的每一者内皆设置有有机发光层，所述有机发光层与所述反射阴极层电性连接。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述平坦层和所述像素定义层之间的多个阳极，所述多个阳极与所述多个像素区一一对应，且每个所述像素区暴露其对应阳极的上表面，所述有机发光层设置于其对应的阳极上。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述多个色阻块中的每一者皆独立的选自以下之一：红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块以及白色色阻块。
10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
S10、制备彩膜层于电晶体基板上，且所述彩膜层包括多个色阻块；
S20、制备平坦层于所述彩膜层上并覆盖所述多个色阻块，且所述平坦层上设置有贯穿部分所述平坦层的第二槽体，所述第二槽体对应位于相邻的两个所述色阻块之间；
S30、制备像素定义层于所述平坦层上，所述像素定义层对应所述第二槽体的位置设置有贯穿所述像素定义层的第一槽体，且所述第一槽体与所述第二槽体相连以形成沟槽；以及
S40、制备反射阴极层于所述像素定义层上，且所述反射阴极层覆盖所述像素定义层，并填充于所述沟槽内。
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