CN109585512A - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

一种显示基板及其制作方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN109585512A
CN109585512A CN201811487530.8A CN201811487530A CN109585512A CN 109585512 A CN109585512 A CN 109585512A CN 201811487530 A CN201811487530 A CN 201811487530A CN 109585512 A CN109585512 A CN 109585512A
Authority
CN
China
Prior art keywords
ultraviolet
absorption material
ultraviolet absorption
base plate
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201811487530.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109585512B (zh
Inventor
文官印
吴海东
杜小波
李彦松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201811487530.8A priority Critical patent/CN109585512B/zh
Publication of CN109585512A publication Critical patent/CN109585512A/zh
Priority to US16/539,253 priority patent/US20200185482A1/en
Application granted granted Critical
Publication of CN109585512B publication Critical patent/CN109585512B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H10K50/865—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. light-blocking layers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/126—Shielding, e.g. light-blocking means over the TFTs
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/858—Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，为解决显示基板在紫外线的照射下，降低使用寿命的问题。所述显示基板包括：基底，设置在所述基底上的显示单元，设置在所述显示单元远离所述基底的一侧，且覆盖至少部分所述显示单元的紫外线屏蔽层，所述紫外线屏蔽层包括至少两种紫外线吸收材料，所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同。本发明提供的显示基板用于自发光显示。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
近年来，有机电致发光器件(英文：Organic Light Emitting Device，以下简称OLED)以其自发光、高效率、高亮度、低驱动电压、响应速度快以及能实现大面积光电显示等优点，受到人们的广泛关注。但是OLED器件在采用化学气相沉积(英文：Chemical VaporDeposition，简称：CVD)工艺进行薄膜封装时，以及在阳光下使用时，均会受到紫外线的照射，紫外线会导致OLED器件中的有机发光材料变质，从而影响OLED器件的使用寿命。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，用于解决显示基板在紫外线的照射下，降低使用寿命的问题。
为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
本发明的第一方面提供一种显示基板，包括：
基底，
设置在所述基底上的显示单元，
设置在所述显示单元远离所述基底的一侧，且覆盖至少部分所述显示单元的紫外线屏蔽层，所述紫外线屏蔽层包括至少两种紫外线吸收材料，所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同。
可选的，所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段相叠加后，能够覆盖10nm～400nm的波长范围。
可选的，所述至少两种紫外线吸收材料的折射率各不相同，所述紫外线屏蔽层存在至少两个区域具有不同的折射率，所述至少两个区域沿垂直于所述基底的方向依次分布。
可选的，沿靠近所述基底至远离所述基底的方向，所述紫外线屏蔽层的折射率逐渐降低。
可选的，所述紫外线屏蔽层包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，所述至少两个区域包括沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上，依次分布的第一区域、第二区域和第三区域，所述第一区域包括第一紫外线吸收材料，所述第二区域包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第三区域包括第二紫外线吸收材料。
可选的，所述紫外线屏蔽层包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，所述至少两个区域包括沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上，依次分布的第四区域、第五区域和第六区域，所述第四区域中所述第一紫外线吸收材料与所述第二紫外线吸收材料的质量比为X1，X1大于1；所述第六区域中所述第一紫外线吸收材料与所述第二紫外线吸收材料的质量比为X3，X3小于1；所述第五区域中所述第一紫外线吸收材料与所述第二紫外线吸收材料的质量比为X2，X2小于X1，且大于X3。
可选的，所述紫外线吸收材料包括：三苯胺类有机材料、氮杂芳香环结构材料或咔唑类苯并共轭结构的三胺衍生物。
基于上述显示基板的技术方案，本发明的第二方面提供一种显示装置，包括上述显示基板。
基于上述显示基板的技术方案，本发明的第三方面提供一种显示基板的制作方法，用于制作上述显示基板，所述制作方法包括：
在基底上制作显示单元；
在所述显示单元远离所述基底的一侧制作紫外线屏蔽层，所述紫外线屏蔽层覆盖所述显示单元的至少部分，所述紫外线屏蔽层包括至少两种紫外线吸收材料，所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同。
可选的，所述在所述显示单元上制作紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
利用所述至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成所述紫外线屏蔽层。
可选的，所述利用所述至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
利用与所述紫外线吸收材料一一对应的蒸发源蒸镀对应的紫外线吸收材料，形成所述紫外线屏蔽层。
可选的，当所述至少两种紫外线吸收材料的折射率各不相同，所述紫外线屏蔽层存在至少两个区域具有不同的折射率，所述至少两个区域沿垂直于所述基底的方向依次分布时，形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
通过控制各所述蒸发源的蒸镀速率和/或蒸镀时间，形成所述紫外线屏蔽层。
可选的，所述至少两种紫外线吸收材料包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，当沿靠近所述基底至远离所述基底的方向，所述紫外线屏蔽层的折射率逐渐降低时，形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
在整个蒸镀周期的第一时段，控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源进行蒸镀，与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源停止蒸镀；
在整个蒸镀周期的第二时段，控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源和与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源共同进行蒸镀；
在整个蒸镀周期的第三时段，控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源停止蒸镀，与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源进行蒸镀。
可选的，所述至少两种紫外线吸收材料包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，当沿靠近所述基底至远离所述基底的方向，所述紫外线屏蔽层的折射率逐渐降低时，形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源和与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源共同进行蒸镀，并控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源的蒸镀速率逐渐降低，控制与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源的蒸镀速率逐渐升高。
可选的，所述利用所述至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
将所述至少两种紫外线吸收材料混合，制备出混合材料；
利用蒸发源蒸镀所述混合材料，形成所述紫外线屏蔽层。
本发明提供的技术方案中，在显示单元上制作了能够覆盖至少部分显示单元的紫外线屏蔽层，该紫外线屏蔽层包括至少两种紫外线吸收材料，且所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同，这样在对显示基板进行薄膜封装时，紫外线屏蔽层能够吸收进行封装工艺的腔室中的不同波段紫外线，避免了在对显示基板进行封装时，封装工艺的腔室中的紫外线对显示基板中显示单元包括的发光材料层产生影响。而且，在将封装后的显示基板应用在外界环境中时，显示基板中的紫外线屏蔽层同样能够吸收外界环境中的不同波段紫外线，以避免外界环境中的紫外线对显示基板中显示单元包括的发光材料层产生影响。因此，本发明提供的技术方案中，紫外线屏蔽层能够吸收不同波段紫外线，使得显示基板在封装过程中和使用过程中均能够避免紫外线对其包括的发光材料层产生影响，很好的保证了显示基板的使用寿命。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1为本发明实施例提供的显示基板的结构示意图；
图2为两种紫外线吸收材料叠加后的吸光系数示意图；
图3为本发明实施例提供的采用一个蒸发源制作紫外线屏蔽层的示意图；
图4为本发明实施例提供的采用多个蒸发源制作紫外线屏蔽层的示意图；
图5为本发明实施例提供的紫外线屏蔽层的第一示意图；
图6为本发明实施例提供的紫外线屏蔽层的第二示意图。
附图标记：
1-基底， 2-显示单元，
3-紫外线屏蔽层， 31-第一区域，
32-第二区域， 33-第三区域，
34-第四区域， 35-第五区域，
36-第六区域， 4-蒸发源。
具体实施方式
为了进一步说明本发明实施例提供的显示基板及其制作方法、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。
如背景技术所述，OLED器件是不需要背光源的自发光器件，其是通过电极驱动其内部的发光材料层实现发光，但也因为这样，其内部的发光材料层决定了OLED器件的使用寿命，由于该发光材料层一般采用有机发光材料结合一些掺杂剂形成，而有机发光材料和掺杂剂在紫外线的照射下，均容易发生分解变质，导致其制作的发光材料层的寿命降低。
现有技术中，OLED器件在制作时，会在最后进行薄膜封装工艺，该薄膜封装工艺一般采用CVD工艺，而进行CVD工艺的腔室内存在大量的紫外线，这就使得在对OLED器件进行薄膜封装时，OLED器件直接暴露在紫外线里，从而对OLED器件的使用寿命产生影响。不仅如此，在对OLED器件封装后，将该OLED器件暴露在太阳光下使用时，太阳光中含有的紫外线同样会对OLED器件中的发光材料层产生影响，进而影响OLED器件的使用寿命。
基于上述问题的存在，本发明的发明人经研究发现，可在OLED器件进行薄膜封装之前，在OLED器件的表面制作一层能够屏蔽紫外线的膜层，该膜层可采用具有一定的紫外线吸收能力的紫外线吸收材料，但是很少有一种紫外线吸收材料能够吸收整个紫外光波段的紫外光，因此，本发明的发明人经进一步研究发现可以采用两种或多种紫外线吸收材料进行共同蒸镀形成用于屏蔽紫外线的膜层，这样该膜层就能够屏蔽多个紫外线波段的紫外线，从而更好的避免了紫外线对OLED器件产生的影响，达到提升OLED器件寿命的目的。
请参阅图1，本发明实施例提供了一种显示基板，包括：基底1，设置在基底1上的显示单元2，以及设置在显示单元2远离基底1的一侧，且覆盖至少部分显示单元2的紫外线屏蔽层3，紫外线屏蔽层3包括至少两种紫外线吸收材料，至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同。
具体地，上述显示基板在制作时，可先在基底1上制作显示单元2，然后采用至少两种能够吸收不同波段紫外线的紫外线吸收材料在显示单元2上共同蒸镀形成紫外线屏蔽层3，该紫外线屏蔽层3能够覆盖至少部分显示单元2，然后再进行薄膜封装工艺，具体可采用CVD工艺在形成有紫外线屏蔽层3的显示单元2上形成封装薄膜，由于显示单元2上形成有紫外线屏蔽层3，因此，在采用CVD工艺进行薄膜封装时，紫外线屏蔽层3能够吸收腔室内多种波段的紫外线，避免室内的紫外线对显示单元2中的发光材料层产生影响。
在将上述显示基板应用在具有紫外线的环境中时，显示基板中的紫外线屏蔽层3能够吸收环境中的紫外线，避免环境中的紫外线对显示单元2中的发光材料层产生影响。
更详细地说，如图2所示，以紫外线屏蔽层3包括两种紫外线吸收材料为例，其中第一种紫外线吸收材料CPL1对380nm波段附近的紫外线吸收能力较强，第二种紫外线吸收材料CPL2对310nm波段附近的紫外线吸收能力较强，当将CPL1和CPL2共同蒸镀时，可以得到对300nm～400nm波段的紫外线均具有较强吸收能力的紫外线屏蔽层3(图2中的实线代表采用CPL1和CPL2形成的紫外线屏蔽层3对应的吸光系数k)。需要说明，图2中横坐标代表波长，纵坐标代表吸光系数。
根据上述显示基板的具体结构、制作过程和应用过程可知，本发明实施例提供的显示基板中，在显示单元2上制作了能够覆盖至少部分显示单元2的紫外线屏蔽层3，该紫外线屏蔽层3包括至少两种紫外线吸收材料，且所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同，这样在对显示基板进行薄膜封装时，紫外线屏蔽层3能够吸收进行封装工艺的腔室中的不同波段紫外线，避免了在对显示基板进行封装时，封装工艺的腔室中的紫外线对显示基板中显示单元2包括的发光材料层产生影响。而且，在将封装后的显示基板应用在外界环境中时，显示基板中的紫外线屏蔽层3同样能够吸收外界环境中不同波段的紫外线，以避免外界环境中的紫外线对显示基板中显示单元2包括的发光材料层产生影响。因此，本发明实施例提供的显示基板中，紫外线屏蔽层3能够吸收不同波段紫外线，使得显示基板在封装过程中和使用过程中均能够避免紫外线对其包括的发光材料层产生影响，很好的保证了显示基板的使用寿命。
进一步地，可设置上述实施例中紫外线屏蔽层3包括的至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段相叠加后，能够覆盖10nm～400nm的波长范围。
具体地，上述设置方式使得形成的紫外线屏蔽层3能够吸收全波段的紫外线，这样无论显示基板在封装过程中或是实际应用中，外界各波段的紫外线均能够被紫外线屏蔽层3吸收，从而更好的避免了显示基板中显示单元2包括的发光材料层受到紫外线的影响，保证了显示基板的使用寿命。
在一些实施例中，还可设置上述实施例中紫外线屏蔽层3包括的至少两种紫外线吸收材料的折射率各不相同，紫外线屏蔽层3存在至少两个区域具有不同的折射率，所述至少两个区域沿垂直于基底1的方向依次分布。
具体地，在制作紫外线屏蔽层3时，除了考虑其对紫外线的吸收波段外，还可以设置其采用的紫外线吸收材料具有不同的折射率，这样就可以根据显示基板的实际出光要求，制作存在所述至少两个区域具有不同的折射率的紫外线屏蔽层3，使得制作的紫外线屏蔽层3更符合显示基板的出光要求，从而更好的提升显示基板的出光性能。
更详细地说，可选用具有不同折射率的紫外线吸收材料共同蒸镀形成紫外线屏蔽层3，紫外线吸收材料的折射率可选在1.8～2.2之间。而且，在对多种具有不同折射率的紫外线吸收材料共同蒸镀时，可在蒸镀过程中通过不断调解蒸发源4上方的蒸镀开关的开关程度来控制每种紫外线吸收材料的蒸发速率，从而得到不同折射率分布的紫外线屏蔽层3。
进一步地，可设置沿靠近基底1至远离基底1的方向，紫外线屏蔽层3的折射率逐渐降低。
具体地，设置沿靠近基底1至远离基底1的方向，紫外线屏蔽层3的折射率逐渐降低，使得紫外线屏蔽层3具有聚光效果，这样在将紫外线屏蔽层3形成在显示器将中的显示单元2上时，可以更好的提升显示基板的出光效率。
在一些实施例中，所述紫外线屏蔽层3包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，所述至少两个区域包括沿靠近基底1至远离基底1的方向上，依次分布的第一区域31、第二区域32和第三区域33，第一区域31包括第一紫外线吸收材料，第二区域32包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，第三区域33包括第二紫外线吸收材料。
具体地，如图5所示，制作上述实施例提供的紫外线屏蔽层3时，可以在整个蒸镀周期的第一时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4进行蒸镀，与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4停止蒸镀，在显示基板的显示单元2上形成包括第一紫外线吸收材料的第一区域31；在整个蒸镀周期的第二时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4和与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4共同进行蒸镀，在第一区域31背向显示单元2的一侧继续形成第二区域32，该第二区域32包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料；在整个蒸镀周期的第三时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4停止蒸镀，与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4进行蒸镀，在第二区域32背向显示单元2的一侧继续形成第三区域33，该第三区域33包括第二紫外线吸收材料。上述方式形成的紫外线屏蔽层3中，第一区域31、第二区域32和第三区域33的折射率依次减小，从而形成了沿靠近基底1至远离基底1的方向，折射率逐渐降低的紫外线屏蔽层3。
在一些实施例中，所述紫外线屏蔽层3包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，第一紫外线吸收材料的折射率大于第二紫外线吸收材料的折射率，所述至少两个区域包括沿靠近基底1至远离基底1的方向上，依次分布的第四区域34、第五区域35和第六区域36，第四区域34中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X1，X1大于1；第六区域36中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X3，X3小于1；第五区域35中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X2，X2小于X1，且大于X3。
具体地，如图6所示，制作上述实施例提供的紫外线屏蔽层3时，可以控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4和与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4共同进行蒸镀，并同时控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4的蒸镀速率逐渐降低，控制与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4的蒸镀速率逐渐升高，这样在整个蒸镀周期的初始时段，第一紫外线吸收材料的蒸镀速率较快，第二紫外线吸收材料的蒸镀速率较慢，从而形成第四区域34，第四区域34中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X1，X1大于1；在整个蒸镀周期的中间时段，第一紫外线吸收材料的蒸镀速率和第二紫外线吸收材料的蒸镀速率相近，从而形成第五区域35，第五区域35中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X2，X2小于X1，且大于X3；在整个蒸镀周期的最后时段，第一紫外线吸收材料的蒸镀速率较慢，第二紫外线吸收材料的蒸镀速率较快，从而形成第六区域36，第六区域36中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X3，X3小于1；上述方式形成的紫外线屏蔽层3中，第四区域34、第五区域35和第六区域36的折射率依次减小，从而形成了沿靠近基底1至远离基底1的方向，折射率逐渐降低的紫外线屏蔽层3。
上述紫外线屏蔽层3可选用的紫外线吸收材料多种多样，示例性的，该紫外线吸收材料可包括：三苯胺类有机材料、氮杂芳香环结构材料或咔唑类苯并共轭结构的三胺衍生物；这些类型的材料对紫外线具有较好的吸收效果，且对除紫外线波段之外的其它波段的光线，例如：可见光波段，吸收效果较差，因此，在选用这些类型的紫外线吸收材料制作紫外线屏蔽层3时，所制作的紫外线屏蔽层3不仅具有良好的紫外线吸收效果，而且不会对显示基板的正常显示产生影响。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述实施例提供的显示基板。
由于上述实施例提供的显示基板中，在显示单元2上制作了能够覆盖至少部分显示单元2的紫外线屏蔽层3，该紫外线屏蔽层3能够吸收不同波段紫外线，使得显示基板在封装过程中和使用过程中均能够避免紫外线对其包括的发光材料层产生影响，很好的保证了显示基板的使用寿命；因此，本发明实施例提供的显示装置在包括上述实施例提供的显示基板时，同样具有上述技术效果。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，用于制作上述实施例提供的显示基板，所述制作方法包括：
在基底1上制作显示单元2；
在显示单元2远离基底1的一侧制作紫外线屏蔽层3，紫外线屏蔽层3覆盖显示单元2的至少部分，紫外线屏蔽层3包括至少两种紫外线吸收材料，至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同。
具体地，可先在基底1上制作显示单元2，该显示单元2一般包括薄膜晶体管阵列层、阳极层、发光材料层和阴极层等，然后采用至少两种能够吸收不同波段紫外线的紫外线吸收材料在显示单元2上形成紫外线屏蔽层3，该紫外线屏蔽层3能够覆盖至少部分显示单元2，然后再进行薄膜封装工艺，具体可采用CVD工艺在形成有紫外线屏蔽层3的显示单元2上形成封装薄膜，由于显示单元2上形成有紫外线屏蔽层3，因此，在采用CVD工艺进行薄膜封装时，紫外线屏蔽层3能够吸收腔室内多种波段的紫外线，避免室内的紫外线对显示单元2中的发光材料层产生影响。
在将采用上述制作方法制作的显示基板应用在具有紫外线的环境中时，显示基板中的紫外线屏蔽层3能够吸收环境中的紫外线，避免环境中的紫外线对显示单元2中的发光材料层产生影响。
采用本发明实施例提供的制作方法制作的显示基板中，在显示单元2上制作了能够覆盖至少部分显示单元2的紫外线屏蔽层3，该紫外线屏蔽层3包括至少两种紫外线吸收材料，且所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同，这样在对显示基板进行薄膜封装时，紫外线屏蔽层3能够吸收进行封装工艺的腔室中的不同波段紫外线，避免了在对显示基板进行封装时，封装工艺的腔室中的紫外线对显示基板中显示单元2包括的发光材料层产生影响。而且，采用本发明实施例提供的制作方法制作的显示基板应用在外界环境中时，显示基板中的紫外线屏蔽层3同样能够吸收外界环境中的不同波段紫外线，以避免外界环境中的紫外线对显示基板中显示单元2包括的发光材料层产生影响。因此，采用本发明实施例提供的制作方法制作的显示基板中，紫外线屏蔽层3能够吸收不同波段紫外线，使得显示基板在封装过程中和使用过程中均能够避免紫外线对其包括的发光材料层产生影响，很好的保证了显示基板的使用寿命。
值得注意，在采用至少两种能够吸收不同波段紫外线的紫外线吸收材料在显示单元2上形成紫外线屏蔽层3时，优选的，所采用的至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段相叠加后，能够覆盖10nm～400nm的波长范围，这样就使得形成的紫外线屏蔽层3能够吸收全波段的紫外线，从而使得无论显示基板在封装过程中或是实际应用中，外界各波段的紫外线均能够被紫外线屏蔽层3吸收，从而更好的避免了显示基板中显示单元2包括的发光材料层受到紫外线的影响，保证了显示基板的使用寿命。
另外，更为优选的，上述紫外线屏蔽层3能够覆盖显示单元2的全部区域，这样使得紫外线屏蔽层3能够对显示单元2更全面的保护，更好的避免紫外线对显示单元2产生影响。
上述紫外线屏蔽层3的制作工艺多种多样，在一些实施例中，上述在显示单元2上制作紫外线屏蔽层3的步骤可具体包括：利用至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成紫外线屏蔽层3。
具体地，可采用至少两种能够吸收不同波段紫外线的紫外线吸收材料在显示单元2上共同蒸镀形成紫外线屏蔽层3，这样形成的紫外线屏蔽层3不仅能够更好的覆盖在显示单元2上，而且紫外线屏蔽层3的形成厚度和各种不同紫外线吸收材料的分布区域也能够根据实际需要实现更好的控制。
上述利用至少两种紫外线吸收材料蒸镀形成紫外线屏蔽层3的具体蒸镀方式多种多样，下面列举两种具体的蒸镀方式，并对其蒸镀过程和产生的有益效果进行说明。
第一种方式，如图3所示，上述利用至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成紫外线屏蔽层3的步骤具体包括：将至少两种紫外线吸收材料混合，制备出混合材料；利用蒸发源4蒸镀混合材料，形成紫外线屏蔽层3。
具体地，通过上述第一种方式制作紫外线屏蔽层3时，可先将至少两种能够吸收不同波段紫外线的紫外线吸收材料混合，制备出混合材料，然后利用蒸发源4蒸镀该混合材料，形成能够吸收多种波段紫外线的紫外线屏蔽层3。
采用上述第一种方式制作紫外线屏蔽层3时，仅需要利用一个蒸镀源进行蒸镀，蒸镀工艺简单，且成本较低。
需要说明，在选用紫外线吸收材料时，除了使各种紫外线吸收材料满足各自对应的紫外线吸收波段各不相同外，还可以使各紫外线吸收材料对应的各项热学参数比较接近，这样更有利于形成良好的蒸镀效果。
第二种方式，如图4所示，上述利用至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成紫外线屏蔽层3的步骤可具体包括：利用与紫外线吸收材料一一对应的蒸发源4蒸镀对应的紫外线吸收材料，形成紫外线屏蔽层3。
具体地，通过上述第二种方式制作紫外线屏蔽层3时，可将各紫外线吸收材料设置在对应的蒸发源4中，通过各蒸发源4单独蒸镀对应的紫外线吸收材料，形成紫外线屏蔽层3。
采用上述第二种方式制作紫外线屏蔽层3时，各种紫外线吸收材料的蒸镀时间和蒸镀速率均能够单独控制，这样就能够根据实际需要，控制形成的紫外线屏蔽层3中各种紫外线吸收材料的分布区域以及蒸镀时间，形成更符合实际需求的紫外线屏蔽层3。
进一步地，当至少两种紫外线吸收材料的折射率各不相同，紫外线屏蔽层3存在至少两个区域具有不同的折射率，所述至少两个区域沿垂直于基底1的方向依次分布时，采用上述第二种方式形成紫外线屏蔽层3的步骤具体包括：通过控制各蒸发源4的蒸镀速率和/或蒸镀时间，形成紫外线屏蔽层3。
具体地，在制作紫外线屏蔽层3时，除了考虑其对紫外线的吸收波段外，还可以设置其采用的紫外线吸收材料具有不同的折射率，这样就可以根据显示基板的实际出光要求，制作存在至少两个区域具有不同的折射率的紫外线屏蔽层3，使得制作的紫外线屏蔽层3更符合显示基板的出光要求，从而更好的提升显示基板的出光性能。
更详细地说，当采用上述第二种方式形成紫外线屏蔽层3时，能够利用与紫外线吸收材料一一对应的蒸发源4蒸镀对应的紫外线吸收材料，从而使得各种紫外线吸收材料的蒸镀时间和蒸镀速率均能够单独控制，这样可根据要形成的紫外线屏蔽层3中具有不同折射率的区域的分布要求，控制各蒸发源4的蒸镀速率和/或蒸镀时间，从而得到不同折射率分布的紫外线屏蔽层3。
更进一步地，可制作沿靠近基底1至远离基底1的方向，紫外线屏蔽层3的折射率逐渐降低，这样能够使得紫外线屏蔽层3具有聚光效果，在将紫外线屏蔽层3形成在显示器将中的显示单元2上时，可以更好的提升显示基板的出光效率。
在一些实施例中，当上述实施例中紫外线屏蔽层3包括的至少两种紫外线吸收材料包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，第一紫外线吸收材料的折射率大于第二紫外线吸收材料的折射率，当沿靠近基底1至远离基底1的方向，紫外线屏蔽层3的折射率逐渐降低时，上述形成紫外线屏蔽层3的步骤可具体包括：
在整个蒸镀周期的第一时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4进行蒸镀，与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4停止蒸镀；
在整个蒸镀周期的第二时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4和与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4共同进行蒸镀；
在整个蒸镀周期的第三时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4停止蒸镀，与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4进行蒸镀。
具体地，如图5所示，可以在整个蒸镀周期的第一时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4进行蒸镀，与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4停止蒸镀，在显示基板的显示单元2上形成包括第一紫外线吸收材料的第一区域31；在整个蒸镀周期的第二时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4和与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4共同进行蒸镀，在第一区域31背向显示单元2的一侧继续形成第二区域32，该第二区域32包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料；在整个蒸镀周期的第三时段，控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4停止蒸镀，与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4进行蒸镀，在第二区域32背向显示单元2的一侧继续形成第三区域33，该第三区域33包括第二紫外线吸收材料。上述方式形成的紫外线屏蔽层3中，第一区域31、第二区域32和第三区域33的折射率依次减小，从而形成了沿靠近基底1至远离基底1的方向，折射率逐渐降低的紫外线屏蔽层3。
在另外一些实施例中，当上述实施例中紫外线屏蔽层3包括的至少两种紫外线吸收材料包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，第一紫外线吸收材料的折射率大于第二紫外线吸收材料的折射率，当沿靠近基底1至远离基底1的方向，紫外线屏蔽层3的折射率逐渐降低时，上述形成紫外线屏蔽层3的步骤还可以具体包括：
控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4和与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4共同进行蒸镀，并控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4的蒸镀速率逐渐降低，控制与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4的蒸镀速率逐渐升高。
具体地，如图6所示，可以控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4和与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4共同进行蒸镀，并同时控制与第一紫外线吸收材料对应的蒸发源4的蒸镀速率逐渐降低，控制与第二紫外线吸收材料对应的蒸发源4的蒸镀速率逐渐升高，这样在整个蒸镀周期的初始时段，第一紫外线吸收材料的蒸镀速率较快，第二紫外线吸收材料的蒸镀速率较慢，从而形成第四区域34，第四区域34中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X1，X1大于1；在整个蒸镀周期的中间时段，第一紫外线吸收材料的蒸镀速率和第二紫外线吸收材料的蒸镀速率相近，从而形成第五区域35，第五区域35中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X2，X2小于X1，且大于X3；在整个蒸镀周期的最后时段，第一紫外线吸收材料的蒸镀速率较慢，第二紫外线吸收材料的蒸镀速率较快，从而形成第六区域36，第六区域36中第一紫外线吸收材料与第二紫外线吸收材料的质量比为X3，X3小于1；上述方式形成的紫外线屏蔽层3中，第四区域34、第五区域35和第六区域36的折射率依次减小，从而形成了沿靠近基底1至远离基底1的方向，折射率逐渐降低的紫外线屏蔽层3。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：
基底，
设置在所述基底上的显示单元，
设置在所述显示单元远离所述基底的一侧，且覆盖至少部分所述显示单元的紫外线屏蔽层，所述紫外线屏蔽层包括至少两种紫外线吸收材料，所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段相叠加后，能够覆盖10nm～400nm的波长范围。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述至少两种紫外线吸收材料的折射率各不相同，所述紫外线屏蔽层存在至少两个区域具有不同的折射率，所述至少两个区域沿垂直于所述基底的方向依次分布。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，沿靠近所述基底至远离所述基底的方向，所述紫外线屏蔽层的折射率逐渐降低。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述紫外线屏蔽层包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，所述至少两个区域包括沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上，依次分布的第一区域、第二区域和第三区域，所述第一区域包括第一紫外线吸收材料，所述第二区域包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第三区域包括第二紫外线吸收材料。
6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述紫外线屏蔽层包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，所述至少两个区域包括沿靠近所述基底至远离所述基底的方向上，依次分布的第四区域、第五区域和第六区域，所述第四区域中所述第一紫外线吸收材料与所述第二紫外线吸收材料的质量比为X1，X1大于1；所述第六区域中所述第一紫外线吸收材料与所述第二紫外线吸收材料的质量比为X3，X3小于1；所述第五区域中所述第一紫外线吸收材料与所述第二紫外线吸收材料的质量比为X2，X2小于X1，且大于X3。
7.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述紫外线吸收材料包括：三苯胺类有机材料、氮杂芳香环结构材料或咔唑类苯并共轭结构的三胺衍生物。
8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～7中任一项所述的显示基板。
9.一种显示基板的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1～7中任一项所述的显示基板，所述制作方法包括：
在基底上制作显示单元；
在所述显示单元远离所述基底的一侧制作紫外线屏蔽层，所述紫外线屏蔽层覆盖所述显示单元的至少部分，所述紫外线屏蔽层包括至少两种紫外线吸收材料，所述至少两种紫外线吸收材料对应的紫外线吸收波段各不相同。
10.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在所述显示单元上制作紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
利用所述至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成所述紫外线屏蔽层。
11.根据权利要求10所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述利用所述至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
利用与所述紫外线吸收材料一一对应的蒸发源蒸镀对应的紫外线吸收材料，形成所述紫外线屏蔽层。
12.根据权利要求11所述的显示基板的制作方法，其特征在于，当所述至少两种紫外线吸收材料的折射率各不相同，所述紫外线屏蔽层存在至少两个区域具有不同的折射率，所述至少两个区域沿垂直于所述基底的方向依次分布时，形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
通过控制各所述蒸发源的蒸镀速率和/或蒸镀时间，形成所述紫外线屏蔽层。
13.根据权利要求12所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述至少两种紫外线吸收材料包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，当沿靠近所述基底至远离所述基底的方向，所述紫外线屏蔽层的折射率逐渐降低时，形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
在整个蒸镀周期的第一时段，控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源进行蒸镀，与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源停止蒸镀；
在整个蒸镀周期的第二时段，控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源和与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源共同进行蒸镀；
在整个蒸镀周期的第三时段，控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源停止蒸镀，与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源进行蒸镀。
14.根据权利要求12所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述至少两种紫外线吸收材料包括第一紫外线吸收材料和第二紫外线吸收材料，所述第一紫外线吸收材料的折射率大于所述第二紫外线吸收材料的折射率，当沿靠近所述基底至远离所述基底的方向，所述紫外线屏蔽层的折射率逐渐降低时，形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源和与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源共同进行蒸镀，并控制与所述第一紫外线吸收材料对应的蒸发源的蒸镀速率逐渐降低，控制与所述第二紫外线吸收材料对应的蒸发源的蒸镀速率逐渐升高。
15.根据权利要求10所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述利用所述至少两种紫外线吸收材料，蒸镀形成所述紫外线屏蔽层的步骤具体包括：
将所述至少两种紫外线吸收材料混合，制备出混合材料；
利用蒸发源蒸镀所述混合材料，形成所述紫外线屏蔽层。
CN201811487530.8A 2018-12-06 2018-12-06 一种显示基板及其制作方法、显示装置 Active CN109585512B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811487530.8A CN109585512B (zh) 2018-12-06 2018-12-06 一种显示基板及其制作方法、显示装置
US16/539,253 US20200185482A1 (en) 2018-12-06 2019-08-13 Display substrate, method for preparing the same, and display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811487530.8A CN109585512B (zh) 2018-12-06 2018-12-06 一种显示基板及其制作方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109585512A true CN109585512A (zh) 2019-04-05
CN109585512B CN109585512B (zh) 2021-09-21

Family

ID=65926111

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811487530.8A Active CN109585512B (zh) 2018-12-06 2018-12-06 一种显示基板及其制作方法、显示装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20200185482A1 (zh)
CN (1) CN109585512B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114763725A (zh) * 2021-01-13 2022-07-19 群创光电股份有限公司 窗户与透明显示装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1409134A (zh) * 2001-10-03 2003-04-09 伊斯曼柯达公司 紫外光过滤元件
CN101518151A (zh) * 2006-11-06 2009-08-26 新加坡科技研究局 纳米粒子封装阻障叠层
US20100033657A1 (en) * 2008-08-05 2010-02-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Light absorption layer for a display device
CN102057750A (zh) * 2008-04-09 2011-05-11 新加坡科技研究局 用于封装对氧气和/或湿气敏感的电子器件的多层膜
CN104950370A (zh) * 2014-03-25 2015-09-30 住友化学株式会社 偏振板及液晶面板
CN105470405A (zh) * 2014-09-25 2016-04-06 三星显示有限公司 有机发光二极管显示器及其制造方法
CN108899438A (zh) * 2018-06-21 2018-11-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1409134A (zh) * 2001-10-03 2003-04-09 伊斯曼柯达公司 紫外光过滤元件
CN101518151A (zh) * 2006-11-06 2009-08-26 新加坡科技研究局 纳米粒子封装阻障叠层
CN102057750A (zh) * 2008-04-09 2011-05-11 新加坡科技研究局 用于封装对氧气和/或湿气敏感的电子器件的多层膜
US20100033657A1 (en) * 2008-08-05 2010-02-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Light absorption layer for a display device
CN104950370A (zh) * 2014-03-25 2015-09-30 住友化学株式会社 偏振板及液晶面板
CN105470405A (zh) * 2014-09-25 2016-04-06 三星显示有限公司 有机发光二极管显示器及其制造方法
CN108899438A (zh) * 2018-06-21 2018-11-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20200185482A1 (en) 2020-06-11
CN109585512B (zh) 2021-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
An et al. Photostability and photodegradation processes in colloidal CsPbI3 perovskite quantum dots
CN106653820B (zh) 一种柔性显示面板及制作方法、柔性显示装置
Yum et al. Panchromatic engineering for dye-sensitized solar cells
CN103872089B (zh) 一种显示面板及其制备方法、显示装置
KR101746951B1 (ko) MOF(Metal Organic Framework) 기반의 코발트 황화물의 제조 방법, 및 이를 이용한 염료감응형 태양전지
WO2014067853A1 (de) Organisches optoelektronisches bauelement und verfahren zum betrieb des organischen optoelektronischen bauelements
Fernandes et al. Development of multidye UV filters for OPVs using luminescent materials
WO2009112152A1 (de) Opto-elektronisches bauelement enthaltend neutrale übergangsmetallkomplexe
CN110016646A (zh) 一种用于高能射线探测的铅基卤素钙钛矿膜的制备方法
CN109585512A (zh) 一种显示基板及其制作方法、显示装置
CN104795460A (zh) 光伏封装结构及其应用的太阳能组件
WO2015040104A1 (de) Bauelement und verfahren zum herstellen eines bauelementes
CN206098458U (zh) 显示结构
US11335891B2 (en) Irradiation assembly, packaging device and packaging method
Zhang et al. Realizing high-efficiency and stable perovskite solar cells via double-perovskite nanocrystal passivation
US9972661B2 (en) Organic light-emitting display device including thin-film solar cell and method of manufacturing the organic light-emitting display device
AU2013276167A1 (en) Filter system for photoactive components
KR101549406B1 (ko) 발광 다이오드의 색변환용 기판 및 그 제조방법
CN108028087A (zh) 电源
Opoku et al. Perovskite photovoltaics for artificial light harvesting
CN110148607A (zh) 一种led显示面板、其制备方法及显示装置
CN103943709A (zh) 一种可提高太阳能电池转化效率的光电转换方法
Wang et al. Tellurium-Doped 0D Organic–Inorganic Hybrid Lead-Free Perovskite for X-ray Imaging
KR101319141B1 (ko) 염료감응 태양전지용 천연염료 용액 제조방법 및 이를 이용한 천연염료 감응 태양전지 제조방법
WO2014067851A1 (de) Organisches optoelektronisches bauelement und verfahren zum betrieb des organischen optoelektronischen bauelements

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant