CN109518153A - 连续真空镀膜装置及镀膜系统 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及一种连续真空镀膜装置及镀膜系统,一种连续真空镀膜装置,包括:运送机构、进片室、镀膜室、出片室和传送机构;进片室与所述镀膜室之间设置有第一竖推式插板阀,镀膜室与所述出片室之间设置有第二竖推式插板阀,运送机构至少设置有两个,其中至少一个运送机构用于将待镀件输送至进片室内,其中至少另一个运送机构用于将已镀件由出片室输送到外部;进片室的顶部、镀膜室的顶部与所述出片室的顶部均设置有传送机构。本申请可实现对工件在相邻真空室内的传送,自动化成都高,生产效率高。
Description
技术领域
本申请涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及一种连续真空镀膜装置及镀膜系统。
背景技术
目前,现有的真空镀膜工艺均是集中在一个真空室内完成,各步工艺会互相影响,导致镀膜效果差等,且多需人工放置、调整以及从真空室取出工件,生产效率低。
发明内容
本申请的目的在于提供一种连续真空镀膜装置及镀膜系统,以解决现有技术中存在的真空镀膜工艺均是集中在一个真空室内完成,各步工艺会互相影响,导致镀膜效果差,且生产效率低的技术问题。
本申请提供了一种连续真空镀膜装置,包括:运送机构、进片室、镀膜室、出片室和传送机构;
所述进片室与所述镀膜室之间设置有第一竖推式插板阀,所述第一竖推式插板阀用于控制所述进片室与所述镀膜室相连通或者相隔离;所述镀膜室与所述出片室之间设置有第二竖推式插板阀,所述第二竖推式插板阀用于控制所述镀膜室与所述出片室相连通或者相隔离;
所述运送机构至少设置有两个,其中至少一个所述运送机构用于将待镀件输送至所述进片室内,其中至少另一个所述运送机构用于将已镀件由所述出片室输送到外部;
所述进片室的顶部、所述镀膜室的顶部与所述出片室的顶部均设置有所述传送机构。
具体地,所述镀膜室设置为内部中空的腔体,所述镀膜室的腔体内部设置有加热组件、电子枪、自动填料组件和坩埚组件;
所述自动填料组件设置在所述镀膜室的侧壁上,且设置在所述坩埚组件的正上方,所述自动填料组件用于将物料添加到所述坩埚组件内部;所述电子枪设置在所述坩埚组件的一侧,所述电子枪用于对所述坩埚组件内部物料蒸发;所述镀膜室的腔体内部设置有所述加热组件,所述加热组件用于加快物料蒸发。
具体地,所述自动填料组件包括进料容器、进料开关和驱动组件;
所述进料容器包括储料仓、进料管和出料管,所述储料仓和所述进料管相连通;
所述进料管和所述出料管之间设置有所述进料开关,所述进料开关用于使所述进料管与所述出料管之间连通或者断开;
所述驱动组件用于驱动所述进料开关运动,以使所述进料管与所述出料管之间连通或者断开。
具体地,还包括第一抽真空装置,所述第一抽真空装置与所述进片室连通,所述进片室设置为中空结构,所述第一抽真空装置用于对所述进片室抽真空;
所述第一抽真空装置包括第一低温泵、第一罗茨泵和第一机械泵;所述第一机械泵至少设置有三个,其中,至少一个所述第一机械泵与所述第一低温泵连通,所述第一低温泵与所述进片室连通,其中,至少两个所述第一机械泵与所述第一罗茨泵连通,所述第一罗茨泵的另一端通过管路分别与所述进片室和第一低温泵连通。
具体地,还包括第二抽真空装置,所述第二抽真空装置与所述镀膜室连通,且所述第二抽真空装置用于对所述镀膜室抽真空;所述所述第二抽真空装置包括第二机械泵、第二罗茨泵、第二低温泵;第二低温泵与所述镀膜室相连通,且设置在所述镀膜室的顶部;所述第二低温泵的另一端与所述第二罗茨泵连通,第二罗茨泵的另一端与所述旋片泵连通。
具体地,还包括第三抽真空装置,所述第三抽真空装置与所述出片室连通,所述出片室设置为中空结构,所述第三抽真空装置用于对所述出片室抽真空;所述第三抽真空装置包括第三低温泵、第三罗茨泵和第三机械泵;所述第三机械泵至少设置有三个,所述第三低温泵设置在所述出片室的底壁上,所述第三低温泵至少设置有两组,且每组所述第三低温泵的数量设置为两个,所述第三罗茨泵至少设置有一个;其中,至少两个所述第三机械泵与所述第三罗茨泵相连通,所述第三罗茨泵的另一端通过管路分别与所述第三低温泵和所述出片室底壁相连通,其中,至少一个所述第三机械泵与所述第三低温泵连通设置。
具体地,所述传送机构包括:第一电机、第一传递杆、第一同步轮和第一皮带;所述第一电机的输出轴通过第一皮带与所述第一传递杆连接,所述第一传递杆的一侧两端分别设置有多个第一同步轮,同一侧的多个所述第一同步轮沿第一方向间隔排布,所述第一方向垂直于所述第一连接杆的长度方向,每相邻所述第一同步轮之间通过所述第一皮带连接,所述第一传递杆与所述第一同步轮通过第一皮带连接。
具体地,所述运送机构包括第二框架以及设置在所述第二框架内的水平运送组件、竖直运送组件、承载组件和第一框架;所述第一框架用于支撑所述承载组件,所述承载组件用于悬挂待镀件,所述竖直运送组件用于将悬挂待镀件的所述承载组件提升至与所述进片室同一高度处位置;所述水平运输组件用于将悬挂待镀件的所述承载组件运输至所述进片室内;
所述承载组件包括大齿轮盘、承重板和承载板;所述大齿轮盘的下面设置有所述承重板,所述承重板的下面通过连接件与所述承载板连接;
所述水平运送组件包括:第二电机、第二传递杆、第二同步轮、第二皮带;所述第二电机的输出轴通过第二皮带与所述传递杆连接,所述第二传递杆的一侧两端分别设置有多个第二同步轮,同一侧的多个所述第二同步轮沿第一方向间隔排布,所述第一方向垂直于所述第二连接杆的长度方向,每相邻所述第二同步轮之间通过所述第二皮带连接,所述第二传递杆与所述第二同步轮通过皮带连接;
所述竖直运送组件包括:第三电机、滚轮组、第一滑轮、第二滑轮、第一吊环和第二吊环;
所述第一吊环设置在所述第一框架的上端,所述第二吊环设置在所述第一框架的下端,所述第一滑轮至少设置有四个,其中至少一个所述第一滑轮设置在所述第二框架的顶部边框上,其中至少另一个所述第一滑轮设置在所述第二框架的顶部中间,所述第二滑轮至少设置有四个,其中至少一个所述第二滑轮设置在所述第二框架的底部边框上,其中至少另一个所述其中至少另一个所述设置在所述第二框架的底部中间,所述滚轮组至少设置有两个滚轮,其中至少一个滚轮通过钢丝绳依次穿过第一滑轮和第一吊环;其中至少另一个滚轮通过钢丝绳依次穿过第二滑轮和第二吊环;所述滚轮同轴设置,且轴的一端设置有大齿轮,所述第三电机的输出小齿轮带动大齿轮旋转;所述大齿轮旋转带动所述第一框架沿竖直方向运动。
具体地,所述第一竖推式插板阀;所述第一竖向插板阀包括阀体、密封板组件、导向组件和驱动装置;所述密封板组件、所述导向组件均位于所述阀体内;所述阀体的第一方向上的第一侧壁上设有第一通孔,所述阀体的第一方向上的第二侧壁上设有第二通孔,所述第一通孔与所述第二通孔相对设置;
所述密封板组件包括支撑板和密封板,所述支撑板用于封堵所述第一通孔,所述密封板用于封堵所述第二通孔,所述支撑板与所述密封板通过伞形连接件相连接;
所述导向组件包括沿第二方向设置的导杆和导轮,所述导杆位于所述密封板组件上方,所述密封板组件与所述导轮相连接,所述导轮位于所述导杆上,并能沿着所述导杆的延伸方向滑动;所述第二方向垂直于所述第一方向;
所述驱动装置能够驱动所述密封板组件沿所述导杆方向移动。
本申请还提供一种镀膜系统,包括上述技术方案中任一项所述的连续真空镀膜装置。
与现有技术相比,本申请的有益效果为:本申请提供的连续真空镀膜装置将整个工艺分别为多个步骤,每一步骤在不同的真空室内进行,且相邻的真空室有插板阀机构控制相隔离,进而避免了相互影响,保证镀膜效果,且每个真空室内设置有传送机构,加以插板阀机构可以控制相邻的真空室连通,进而可实现了对工件在相邻真空室内的传送,自动化成都高,生产效率高。
本申请提供的镀膜系统,包括上述所述的连续真空镀膜装置,因而,通过真空室内的传送机构实现了工件的自动传送。
附图说明
为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本申请的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的结构示意图;
图2为T图1中A的内部结构放大图;
图3为为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的传送机构示意图;
图4为本申请实施例提供的第一竖推式插板阀的结构示意图;
图5为图4中A-A处剖面图;
图6为图4中B-B处剖面图;
图7为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的填料组件的结构示意图;
图8为图7中A处的放大示意图;
图9为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的填料组件的进料开关的结构示意图;
图10为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的填料组件的进料开关的又一结构示意图;
图11为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的填料组件的第二视角下的结构示意图;
图12为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的填料组件的第三视角视角下的结构示意图;
图13为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的运输机构在第一视角下的结构示意图;
图14为本申请实施例提供的连续真空镀膜装置的运输机构在第二视角下的结构示意图。
附图标记:
100-镀膜室;101-进料容器;102-进料开关;103-驱动组件; 104-储料仓;105-进料管;106-出料管;107-第一挡料板;108- 储料管;109-第二挡料板;110-挡板固定板;111-进料孔;112- 通气孔;113-水冷机构;114-密封组件;115-导向套;116-安装座;117-检修门;118-加热组件;119-电子枪;120-自动填料组件;123-端盖;124-连接杆;125-风扇;126-第二抽真空装置; 127-第二低温泵;128-第二罗茨泵;129-第二机械泵;130-200- 进片室;202-第一抽真空装置;203-第一低温泵;204-第一机械泵;205-第一罗茨泵;300-出片室;301-第二抽真空装置;302- 第三机械泵;303-第三低温泵;305-第三罗茨泵;400-传送机构; 401-第一电机;402-第一传递杆;403-第一同步轮;404-第一皮带;500-第一竖推式插板阀;501-阀体;502-第一通孔;503- 第二通孔;504-密封板组件;505-支撑板;506-密封板;507- 弹性件;508-波纹膨胀管;509-伞形连接件;510-固定支架;511- 导向组件;512-导杆;513-导轮;515-驱动装置;516-滑道;517- 限位件;518-阀板冷却水道;519-支撑板冷却水道;520-密封板冷却水道;521-第二竖推式插板阀;600-运送机构;601-承载板; 602-第二电机;603-第二框架;604-第一框架;605-大齿轮盘; 606-承重板;608-第二传递杆;609-第二同步轮;611-第三电机; 612-第一滑轮;613-第二滑轮;614-第一吊环。
具体实施方式
下面将结合附图对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。
结合图1,在本申请提供一种连续真空镀膜装置,包括:运送机构600、进片室200、镀膜室100、出片室300和传送机构 400;进片室200与镀膜室100之间设置有第一竖推式插板阀 500,镀膜室100与出片室300之间设置有第二竖推式插板阀,运送机构600至少设置有两个,其中至少一个运送机构600用于将待镀件输送至进片室300内,其中至少另一个运送机构600 用于将已镀件由出片室200输送到外部;进片室300的顶部、镀膜室100的顶部与出片室200的顶部均设置有传送机构。
具体地,本连续真空镀膜装置将整个工艺分别为多个步骤,每一步骤在不同的真空室内进行,且相邻的真空室有插板阀机构控制相隔离,进而避免了相互影响,保证镀膜效果,且每个真空室内设置有传送机构,加以插板阀机构可以控制相邻的真空室连通,进而可实现了对工件在相邻真空室内的传送,自动化成都高,生产效率高。
在本申请的一个实施例中,结合图1和图2,镀膜室100 为内部中空的腔体,镀膜室100的腔体内部设置有加热组件118、电子枪119、自动填料组件120和坩埚组件;
自动填料组件120设置在镀膜室100的侧壁上,且设置在坩埚组件的正上方,自动填料组件120用于将物料添加到坩埚组件内部;电子枪119设置在坩埚组件的一侧,电子枪119用于对坩埚组件内部物料蒸发;镀膜室100的腔体内部设置有加热组件118,加热组件118用于加快物料蒸发。
具体地,加热组件118至少四组,四组加热组件118间隔设置,四组加热组件118设置在镀膜室100的四个角处,更具体地,加热组件118优选为碘钨灯,加热组件118能够增加镀膜室100内抽气的速率,增加气体分子的运动速度,进而实现更好的镀膜。
具体地,坩埚组件包括坩埚、端盖123和连接杆124,坩埚上设置有端盖123,端盖123上设置有连接杆124,连接杆 124的另一端与电机输出轴连接,电机利用控制系统进行控制,当需要向坩埚内部添加物料或者是利用电子枪119对物料进行蒸发作用时,控制电机,利用连接杆124将端盖123从坩埚上面移开,当不需要向坩埚内部添加物料,或者是不需利用电子枪119对坩内部的物料进行蒸发作用时,驱动电机,带动连接杆124,从而使端盖123盖在坩埚上。
具体地,电子枪119是产生、加速及会聚高能量密度电子束流的装置,它发射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的电子束,又称电子注;在电子枪119里,灯丝,一般是钨丝,通电加热后,表面产生大量的热电子,在阳极和阴极之间的高压电场作用下,热电子加速向阳极方向高速移动,并获得很高的动能,其具体速度值取决于加速电压的高低,一般可以达到光速的三分之二左右,在聚焦线圈的作用下可使电子束流聚焦,在导向线圈,又称偏转线圈的作用下可使电子束发生偏转,从而在一定范围内进行扫描;电子枪119的工作电压通常在几十到几百千伏之间,为防止高压击穿、束流散射及其能量减损,电子枪119的真空度须保持在6.67x10^-2帕以上。
具体地,镀膜室100的内壁由内之外依次设置有第一层加热反射板、第二层加热反射板和不锈钢镜面热辐射反射板,三层反射板之间相互作用,实现对镀膜室100的加热作用,进一步加快离子扩散速度,实现对带镀件的快速镀膜。
具体地,镀膜室100优选设置为正方形结构,且镀膜室100 的外侧壁设置有为不锈钢,更具地,镀膜室100的外侧壁优选为SUS304不锈钢材质。
具体地,在镀膜室100的外侧壁上设置有水冷机构113,具体地,水冷机构113优选为蛇形缠绕在镀膜室100外侧壁上的水管或者是水袋,且水管或者水袋的另一端连接制冷装置,制冷装置用于对水管或者是水袋内的水进行制冷,更具体地,制冷装置的型号优选选为JL0.3。
具体地,镀膜室100的侧壁设置有观察窗,观察窗用于观察镀膜室100内部的工作情况,实现实时监测的目的,更加便捷;具体地,观察窗的数量设置有三个,便于维修不同角落处的部件;更具体地,观察窗设置为透明玻璃窗,且在透明玻璃窗的一侧、且靠近镀膜室100腔体的一侧设置有防污挡板,防污挡板用于阻挡蒸发的离子贴附在透明玻璃窗上,当需要通过观察窗观察时,打开防污挡板,透过观察窗观察,当不需要观察时,将防污挡板合到透明玻璃窗上。
具体地,镀膜室100的侧壁上还设置有检修门117,检修门117方便检修,在实际的工作过程中,当连续真空镀膜装置出现部件的损坏,通过检修门117方便对连续真空镀膜装置中的小部件进行检修,具体地,在检修门117与镀膜室100连接处设置有密封胶圈,密封胶圈用于密封,使镀膜室100始终保持密封的状态,从而更好的实现对带镀件的镀膜。
具体地,镀膜腔体内设置有膜厚仪,膜厚仪用于检测带镀件厚度,当厚度达到阈值,此时停止镀膜,具体地,膜厚仪采用磁感应原理时,利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小,来测定镀膜厚度,也可以测定与之对应的磁阻的大小,来表示其覆层厚度,覆层越厚,则磁阻越大,磁通越小,利用磁感应原理的测厚仪,原则上可以有导磁基体上的非导磁覆层厚度,一般要求基材导磁率在500以上,如果覆层材料也有磁性,则要求与基材的导磁率之差足够大。
具体地,镀膜室100内还设置有离子源,离子源用于增大离化率,当通过电压时,使镀膜室100内部充多氩离子,氩离子用于用于加快物料的蒸发。
更具体地,镀膜室100的顶部设置有风扇125,且风扇125 设置在承载板的下方,风扇125可以进行旋转,旋转的风扇125 使蒸发的物料更加均匀,即使镀膜更加均匀。
在本申请的一个实施例中,如图7至图12所示,填料组件包括进料容器101、进料开关102和驱动组件103,其中进料容器101用于输送原料,进料容器101包括储料仓104、进料管 105和出料管106,其中储料仓104用于储存原料,进料管105 和出料管106用于将储料仓104中的原料输送至设定位置,在进料管105和出料管106之间设置有用于控制进料的进料开关 102,进料开关102与驱动组件103相连,驱动组件103用于控制进料开关102的运动,实现进料开关102将进料管105与出料管106之间连通或者断开,进而控制原料输送至设定位置;利用驱动组件103驱动进料开关102,实现进料容器101中存储的原料添加至坩埚内,解决了现有技术中存在的需要人工向镀膜机内添加镀膜原料,人工添料效率低下以及人工添料需要中断镀膜过程,使得镀膜过程不能形成流水线作业的技术问题。
具体地,进料管105的出口端与出料管106的入口端相对,且进料管105的出口端与出料管106的入口端之间间隔设置;进料开关102包括第一挡料板107,第一挡料板107设置于进料管105和出料管106之间,第一挡料板107使得进料管105 与出料管106之间连通或者断开。
具体地,进料管105的出口端与出料管106的入口端相对,也就是说,进料管105和出料管106的管口相对使得原料可以从进料管105流入出料管106中,进料管105的出口端与出料管106的入口端之间具有一设定的距离,使得第一挡料板107 可以放置在进料管105和出料管106相对的的管口处,阻挡原料从进料管105流入出料管106中,即阻挡原料流入镀膜强室内,在驱动组件103驱动挡板运动,挡板从进料管105和出料管106相对的的管口处移出,原料可以从进料管105流入出料管106中,实现向坩埚内添料。
具体地,进料容器101还包括储料管108,储料管108位于进料管105和出料管106之间,储料管108的两端分别与进料管105的出口端及出料管106的入口端相对;第一挡料板107 设置于进料管105和储料管108之间,进料开关102还包括第二挡料板109,第二挡料板109设置于储料管108和出料管106 之间;在第一挡料板107连通进料管105和储料管108时,第二挡料板109断开储料管108和出料管106;在第一挡料板107 断开进料管105和储料管108时,第二挡料板109连通储料管 108和出料管106。
具体地,进料容器101还包括储料管108,储料管108用于控制添加至坩埚内的原料的量,具体的,储料管108位于进料管105和出料管106之间,储料管108两端的管口分别与进料管105的出口端及出料管106的入口端相对设置。进料开关 102包括设置于进料管105和储料管108之间的第一挡料板107,及设置于储料管108和出料管106之间的第二挡料板109,在第一挡料板107连通进料管105和储料管108时,第二挡料板 109断开进料管105和储料管108,此时,原料由进料管105 流入储料管108中,因为第二挡料板109断开了储料管108和出料管106,原料即不能从储料管108中流出,储料管108的容量即决定了一次向坩埚内添加原料的量;在第一挡料板107 断开进料管105和储料管108时,第二挡料板109连通储料管 108和出料管106,则储料管108中存储的原料即可以流入出料管106中,添加至坩埚内,此时由于第一挡料板107断开进料管105和储料管108时,即不能影响流入坩埚内原料的量。
更具体地,进料开关102还包括挡板固定板110,挡板固定板110与驱动组件103的输出轴相连;第一挡料板107和第二挡料板109分别与挡板固定板110连接,其中,第二挡料板 109上开设有进料孔111。
更具体地,进料开关102还包括挡板固定板110,挡板固定板110与驱动组件103的输出轴相连,且挡板固定板110与第一挡料板107和第二挡料板109分别连接,驱动组件103驱动挡板固定板110运动,即可带动第一挡料板107和第二挡料板109运动。其中,第一挡料板107阻挡原料流入储料管108,在第二挡料板109上开设有进料孔111,储料管108中存储的原料即通过进料口流入出料管106中。具体地,第二挡料板109 的长度大于第一挡料板107,在第一挡料板107从进料管105 和储料管108相对的管口处移出时,第二挡料板109还能对储料管108和出料管106进行阻挡。
更具体地,如施工需要对每次添加原料的量进行调整,可以通过更换不同长度的储料管108,实现添加不同量的原料。储料管108的长度变化时,可以通过长圆孔调节第一挡料板107 和第二挡料板109之间的距离,用于在二者之间放置不同长度的储料管108,而无需在制作不同的第一挡料板107和第二挡料板109。
在实际的应用过程中,驱动组件103位于镀膜室100外,进料容器101和进料开关102位于镀膜室100内,驱动组件103 的输出轴贯穿镀膜室100的侧壁;输出轴和镀膜室100的侧壁之间安装有密封组件114,密封组件114上设置有导向套115,导向套115用于对输出轴的运动方向导向;驱动组件103位于镀膜室100外,进料容器101和进料开关102位于镀膜室100 内,可以对驱动组件103进行控制,实现添加原料。输出轴和坩埚的侧壁之间安装有密封组件114,用来对坩埚的密封,防止漏气造成坩埚内部真空度不足,密封组件114上设置有导向套115,在输出轴伸出较长时,导向套115对输出轴的运动方向导向,防止输出轴偏移;驱动组件103上设置有安装座116,安装座116位于坩埚外,安装座116用于将驱动组件103固定于坩埚侧壁上。
在本申请的一个实施例中,结合图1和图2,还包括第一抽真空装置202,第一抽真空装置202与进片室200连通,进片室200设置为中空结构,第一抽真空装置202用于对进片室 200抽真空;
第一抽真空装置202包括第一低温泵203、第一罗茨泵205 和第一机械泵204;第一机械泵204至少设置有三个,其中,至少一个第一机械泵204与第一低温泵203连通,第一低温泵 203与进片室200连通,其中,至少两个第一机械泵204与第一罗茨泵205连通,第一罗茨泵205的另一端通过管路分别与进片室200和第一低温泵203连通。
进一步地,高真空抽气系统为一台型号为DIP8000的莱宝低温泵,一台型号为D25B机械泵和型号为W251罗茨泵组成抽气系统,对进片腔体进行独立的抽气;低真空抽气系统为型号为WAU1001的罗茨泵和一台型号为SV630机械泵组成的粗抽气系统;更进一步地,第一低温泵203与进片室200底壁连接,进片室200底壁设置有第一挡板阀206,当抽气时,第一挡板阀206向进片室200腔体内部运动,当不抽气时,在第一气缸201的带动下,第一挡板阀206封堵在进片室200底壁上,实现密封。
具体地,进片室200上设置有第一检修门,第一检修门用于对进片室200的检修。
更具体地,进片室200优选设置为箱式真空腔体,进片室 200尺寸优选设置为2110*2110*450mm,采用25mm厚度的 SUS304不锈钢板加强焊接成型,并经过退火处理消除应力,进片室200腔体内设有加热器,加热器用于加热除气。
在本申请的一个实施例中,结合图1和图2,还包括第二抽真空装置126,第二抽真空装置126与镀膜室100连通,且第二抽真空装置126用于对镀膜室100抽真空;第二抽真空装置126包括第二机械泵129、第二罗茨泵128、第二低温泵127;第二低温泵127与镀膜室100相连通,且设置在镀膜室100的顶部;第二低温泵127的另一端与第二罗茨泵128连通,第二罗茨泵128的另一端与旋片泵连通。
使用时,首先开启第二旋片泵,然后开启第二罗茨泵128,最后开启第二低温泵127,具体地,第二罗茨泵128、第二机械泵129与第二低温泵127相互配合使用,从而提供高真空前级抽气,获得快速工件换装抽气。
在本申请的一个实施例中,结合图1和图2,还包括第三抽真空装置301,第三抽真空装置301与出片室300连通,出片室300设置为中空结构,第三抽真空装置301用于对出片室 300抽真空;第三抽真空装置301包括第三低温泵303、第三罗茨泵305和第三机械泵302;第三机械泵302至少设置有三个,第三低温泵303设置在出片室300的底壁上,第三低温泵303 至少设置有两组,且每组第三低温泵303的数量设置为两个,第三罗茨泵305至少设置有一个;其中,至少两个第三机械泵 302与第三罗茨泵305相连通,第三罗茨泵305的另一端通过管路分别与第三低温泵303和出片室300底壁相连通,其中,至少一个第三机械泵302与第三低温泵303连通设置。
更进一步地,第三低温泵303与出片室300底壁连接,出片室300底壁设置有第二挡板阀,两组第三低温泵303共用一个第二挡板阀,当抽气时,第二挡板阀向出片室300腔体内部运动,当不抽气时,在第一气缸的带动下,第二挡板阀封堵在出片室300底壁上,实现密封。
在本申请的一个实施例中,结合图3,传送机构400包括:第一电机401、第一传递杆402、第一同步轮403和第一皮带 404;
第一电机401的输出轴通过第一皮带404与第一传递杆402连接,第一传递杆402的一侧两端分别设置有多个第一同步轮403,同一侧的多个第一同步轮403沿第一方向间隔排布,第一方向垂直于第一连接杆的长度方向,每相邻第一同步轮 403之间通过第一皮带404连接,第一传递杆402与第一同步轮403通过第一皮带404连接。
第一电机401带动第一传递杆402旋转,旋转的第一传递杆402通过第一皮带404带动第一同步轮403之间的互相传动,进而能够把承载组件从进片室200输送至镀膜室100,把承载组件从镀膜室100输送至出片室300。
在本申请的一个实施例中,结合图14,运送机构600包括第二框架603以及设置在第二框架603内的水平运送组件、竖直运送组件、承载组件和第一框架604;第一框架604用于支撑承载组件,承载组件用于悬挂待镀件,竖直运送组件用于将悬挂待镀件的承载组件提升至与进片室200同一高度处位置;水平运输组件用于将悬挂待镀件的承载组件运输至进片室200 内;
承载组件包括大齿轮盘605、承重板606和承载板601;大齿轮盘605的下面设置有承重板606,承重板606的下面通过连接件与承载板601连接;
具体地在实际的操作过程中,承载板601的下面挂设有带镀件,利用第四电机的输出齿轮带动大齿轮盘605转动,大齿轮盘605的转动带动承重板606的转动,承重板606的转动带动承载板601的旋转。
水平运送组件包括:第二电机602、第二传递杆608、第二同步轮609、第二皮带;第二电机602的输出轴通过第二皮带与传递杆连接,第二传递杆608的一侧两端分别设置有多个第二同步轮609,同一侧的多个第二同步轮609沿第一方向间隔排布,第一方向垂直于第二连接杆的长度方向,每相邻第二同步轮609之间通过第二皮带连接,第二传递杆608与第二同步轮609通过皮带连接;
第二电机602带动第二传递杆608旋转,旋转的第二传递杆608通过第二皮带带动第二同步轮609之间的互相传动,进而实现对第二承载组件的水平移动。
竖直运送组件包括:第三电机611、滚轮组、第一滑轮612、第二滑轮613、第一吊环614和第二吊环;
第一吊环614设置在第一框架604的上端,第二吊环设置在第一框架604的下端,第一滑轮612至少设置有四个,其中至少一个第一滑轮612设置在第二框架603的顶部边框上,其中至少另一个第一滑轮612设置在第二框架603的顶部中间,第二滑轮613至少设置有四个,其中至少一个第二滑轮613设置在第二框架603的底部边框上,其中至少另一个其中至少另一个设置在第二框架603的底部中间,滚轮组至少设置有两个滚轮,其中至少一个滚轮通过钢丝绳依次穿过第一滑轮612和第一吊环614;其中至少另一个滚轮通过钢丝绳依次穿过第二滑轮613和第二吊环;滚轮同轴设置,且轴的一端设置有大齿轮,第三电机611的输出小齿轮带动大齿轮旋转;大齿轮旋转带动第一框架604沿竖直方向运动。
具体地,承载组件设置在第一框架604内部,首先承载组件处于地面,人工将带镀件挂设在承载组件的承载板601上,然后驱动第三电机611,使第一框架604沿竖直向上的方向运动,当到达与进片室200同一高度处时,停止驱动,利用第二电机602驱动第一框架604沿水平方向运动,从而使承载组件与送到进片室200中。
在本申请的一个实施例中,如图4至图6所示,第一竖推式插板阀包括阀体501、密封板组件504、导向组件511和驱动装置515;
密封板组件504、导向组件511均位于阀体501内;阀体 501的第一方向上的第一侧壁上设有第一通孔502,阀体501 的第一方向上的第二侧壁上设有第二通孔503,第一通孔502 与第二通孔503相对设置;
密封板组件504包括支撑板505和密封板506,支撑板505 用于封堵第一通孔502,密封板506用于封堵第二通孔503,支撑板505与密封板506通过伞形连接件509相连接。
导向组件511包括沿第二方向设置的导杆512和导轮513,导杆512位于密封板组件504上方,密封板组件504与导轮513 相连接,导轮513位于导杆512上,并能沿着导杆512的延伸方向滑动;第二方向垂直于第一方向;
驱动装置515能够驱动密封板组件504沿导杆512方向移动。
具体地,竖推式插板阀包括阀体501、密封板组件504、导向组件511和驱动装置515,密封板组件504、导向组件511均位于阀体501内;
阀体501的第一方向上的第一侧壁上设有第一通孔502,阀体501的第一方向上的第二侧壁上设有第二通孔503,并且第一通孔502与第二通孔503相对设置,第一通孔502为竖推式插板阀的物料入口,第二通孔503为竖推式插板阀的物料出口;当第一通孔502与第二通孔503连通时,竖推式插板阀为开启状态,物料能够从一侧的真空腔室通过第一通孔502和第二通孔503穿过阀体501,到达竖推式插板阀的另一侧的真空腔室,实现物料的流通;当第一通孔502与第二通孔503被密封封闭时,竖推式插板阀将处于密封关闭状态,并实现对相邻两个真空腔室的密封封闭。
密封板组件504包括支撑板505和密封板506,支撑板505 与密封板506通过伞形连接件509相连接,并通过伞形连接件 509对支撑板505与密封板506起到稳定支撑的作用;支撑板 505能够罩设于第一通孔502上,并与阀体501的一侧内壁相抵靠密封;密封板506能够罩设与第二通孔503上,并与阀体 501的另一侧内壁相抵靠密封;因此,密封板组件504能够对第一通孔502和第二通孔503进行密封,当密封板组件504移动至第一通孔502和第二通孔503处时,能够对第一通孔502 和第二通孔503进行封堵密封,竖推式插板阀将处于密封关闭状态,并实现对相邻两个真空腔室的密封封闭;当密封板组件 504从第一通孔502和第二通孔503处移开时,第一通孔502 与第二通孔503之间没有障碍物遮挡,形成物流通路,能够用于对相邻两个真空腔室内的物料进行转移。
导向组件511包括导杆512和导轮513,导轮513能够沿导杆512的延伸方向滑动;密封板组件504与导轮513通过导轮513吊臂相连接,吊挂在导杆512的导杆512的下方,当导轮513沿导杆512延伸方向滑动时,会带动密封板组件504在阀体501内随之移动,密封板组件504会在阀体501内从一侧移向另一侧;驱动装置515与密封板组件504相连接,驱动装置515能够驱动密封板组件504沿导杆512方向移动。
具体地,竖推式插板阀用于对连续真空镀膜装置时,将插板阀与连续真空镀膜装置的两个真空腔体通过螺栓进行连接,并且连续真空镀膜装置的真空腔体与插板阀阀体5011的贴合处设有密封件,真空腔体与插板阀阀体5011之间形成密封,物料能够从一侧的真空腔室通过第一通孔502和第二通孔503穿过阀体501,到达竖推式插板阀的另一侧的真空腔室,实现物料的流通;当需要对物料进行真空腔室间的转移时,通过驱动装置515驱动密封板组件504沿导杆512方向移动,从第一通孔502和第二通孔503处移开时,第一通孔502与第二通孔503 之间没有障碍物遮挡,形成物流通路,从而使物料穿过插板阀阀体501进行真空腔室间的转移;当需要关断竖推式插板阀,对真空腔室密封封闭时,通过驱动装置515驱动密封板组件504 沿导杆512方向移动至第一通孔502和第二通孔503处,通过密封板组件504对第一通孔502和第二通孔503进行密封密封,实现竖推式插板阀的密封,从而实现对真空腔室的密封;具体地,驱动装置515可以为气缸。因此,通过驱动装置515驱动密封板组件504沿导向组件511运动,来实现对阀门的开启和关闭的自动控制,从而实现连续真空镀膜装置的真空腔体间的连通和密封的自动控制,便于操作,同时保证了阀门良好的密封性能。
在本申请的一个实施例中,优选地,如图6所示,包括导向滑道516,导向滑道516位于支撑板505下方;导向滑道516 内设有滑轮,滑轮的数量为多个,多个滑轮与支撑板505相连接。
在该实施例中,竖推式插板阀包括导向滑道516,导向滑道516与导向杆的方向一致,导向滑道516位于支撑板505下方,导向滑道516内设有多个滑轮,支撑板505的下方与滑轮相连接,从而当驱动装置515驱动密封板组件504沿导杆512 方向往返运动时,支撑板505也通过滑轮在滑道516内做往返运动。通过滑动的设置,能够对支撑板505起到支撑和导向的作用,从而使密封板组件504在驱动装置515的作用下做往复运动时更平稳。
在本申请的一个实施例中,优选地,如图2所示,阀体501 的第二方向上的第三侧壁上设有限位件517;限位件517的数量为多个,多个限位件517能够与密封板组件504相抵靠。
在该实施例中,阀体501的第二方向上的第三侧壁上设有限位件517,当需要对阀体501和真空腔室进行密封时,需要通过驱动装置515驱动密封板组件504沿导杆512方向移动至第一通孔502和第二通孔503处对其进行密封封堵,当密封板组件504运动至与限位件517抵靠的位置时,密封板组件504 的密封板506与支撑板505正好位于第一通孔502与第二通孔 503处,能够对第一通孔502和第二通孔503进行密封封堵,从而使竖推式插板阀关闭,实现对真空腔室的密封。
具体地,伞形连接件509的数量为多个,多个伞形连接件 509均匀分布于支撑板505与密封板506之间。
更具体地,支撑板505与密封板506通过伞形连接件509 连接在一起;并通过伞形连接件509对支撑板505与密封板506 起到稳定支撑的作用。伞形连接件509的数量为多个,多个伞形连接件509均匀分布于支撑板505与密封板506之间,能够使支撑板505与密封板506更稳定的设置于阀体501内,并在运动过程中更平稳地运行,从而保证支撑板505与密封板506 同阀体501内壁贴合的更紧密,达到更好地密封性能。
更具体地,伞形连接件509包括第一连接件、第二连接件和定位轴;第一连接件和第二连接件的一端均套设在定位轴上,并与定位轴转动连接,第一连接件的另一端与支撑板505转动连接,第二连接件的另一端与密封板506转动连接。
更具体地,伞形连接件509包括第一连接件、第二连接件和定位轴;第一连接件和第二连接件的一端均套设在定位轴上,并与定位轴转动连接,第一连接件的另一端与支撑板505转动连接,第二连接件的另一端与密封板506转动连接。当支撑板 505与密封板506向相反方向运动,并与阀体501内壁抵靠密封的过程中,支撑板505和密封板506会带动第一连接件与第二连接件以定位轴为中心发生旋转;通过在支撑板505与密封板506之间设置伞形连接件509,在对支撑板505与密封板506 起到连接作用的同时,也能够对支撑板505起到支撑和牵引的作用;第一连接件的另一端与支撑板505转动连接,第二连接件的另一端与密封板506转动连接,因而当支撑板505与密封板506在运动过程中,并受到伞形连接件509的牵引时,能够使支撑板505与密封板506保持在竖直方向而不发生偏转;因此,通过伞形连接件509的设置,能够使支撑板505与密封板 506稳定的设置于阀体501内,并在运动过程中平稳地运行,保证支撑板505与密封板506同阀体501内壁贴合的更紧密,从而保证更好地密封性能。
更具体地,密封板组件504包括固定支架510,伞形连接件509通过定位轴与固定支架510相连接;驱动装置515与固定支架510相连接,固定支架510与导轮513相连接,用于拉动密封板组件504沿导杆512方向滑动。
更具体地,密封板组件504包括固定支架510,用于固定伞形连接件509,从而对支撑板505与密封板506起到稳定支撑的作用;伞形连接件509通过定位轴与固定支架510相连接,从而使支撑板505与密封板506通过伞形连接件509与固定支架510相连接;因而,固定支架510对支撑板505与密封板506 能够起到稳定支撑的作用;具体地,固定支架510上还设有限位轴套,定位轴穿过限位轴套与固定支架510固定连接。
驱动装置515与固定支架510相连接,通过固定支架510 将支撑板505与密封板506连接在一起,因此当驱动装置515 驱动固定支架510运动时,会带动支撑板505与密封板506随之发生运动,使密封板组件504能够在驱动装置515的驱动下沿导杆512方向做往复运动,从而实现密封板组件504对竖推式插板阀的密封关闭和开启。
更具体地,密封板组件504包括波纹膨胀管508和气体通道;
气体通道位于支撑板505内,且支撑板505上设有气体通道出口,波纹膨胀管508的一端与气体通道出口相连通,波纹膨胀管508的另一端与密封板506相连接;气体通道出口和波纹膨胀管508的数量均为多个并一一对应,多个波纹膨胀管508 均匀分布在支撑板505与密封板506之间。
更具体地,支撑板505内设有气体通道,且支撑板505上设有气体通道出口,波纹膨胀管508设置于支撑板505与密封板506之间,且波纹膨胀管508的一端与支撑板505上的气体通道出口相连通,使气体能够进入到波纹膨胀管508内,波纹膨胀管508的另一端与密封板506相连接,并对波纹膨胀管508 进行封堵,使气体不能被排出;从而,当气体被持续通入到波纹膨胀管508内时,波纹膨胀管508内的气压增大,波纹膨胀管508膨胀变长;进而,将支撑板505与密封板506向相反方向撑开,使支撑板505向设有第一通孔502的阀体501的一侧侧壁方向移动并与阀体501内壁紧紧抵靠密封,从而对第一通孔502进行封堵密封;密封板506向设有第二通孔503的阀体 501的一侧侧壁方向移动并与阀体501内壁紧紧抵靠密封,从而对第二通孔503进行封堵密封;进而,通多对第一通孔502 与第二通孔503之间的通路的密封关闭,实现了对相邻两个真空腔室的密封。
具体地,通过增大波纹膨胀管508内的气压,能够使作用于支撑板505与密封板506上的推力增大,进而使支撑板505 与密封板506与阀体501内壁贴合的更紧密,使阀门具有更好的密封性能。
更具体地,密封板组件504包括弹性件507,弹性件507 的一端与支撑板505相连接,弹性件507的另一端与密封板506 相连接,用于拉动密封板506向支撑板505方向移动;弹性件 507的数量为多个;多个弹性件507均匀分布与支撑板505与密封板506之间。
更具体地,支撑板505与密封板506之间还设置有弹性件 507,弹性件507的一端与支撑板505相连接,弹性件507的另一端与密封板506相连接;当需要开启插板阀将第一通孔502 与第二通孔503打通时,对波纹膨胀管508内的气体进行排放,从而支撑板505与密封板506不再受到波纹膨胀管508的推力的作用,同时依靠支撑板505与密封板506之间设置的弹性件 507将支撑板505与密封板506向中间拉紧,并相互靠近,使支撑板505与密封板506不再与阀体501内壁贴合密封,并通过驱动装置515驱动支撑板505与密封板506运动,移出第一通孔502与第二通孔503的范围,从而实现阀门的开启。
弹性件507的数量为多个,且多个弹性件507均匀分布在支撑板505与密封板506之间,从而使弹性件507产生的拉紧力能够更均匀地分布在支撑板505与密封板506上,保证了支撑板505与密封板506在移动过程中的稳定性;具体地,弹性件507可以为拉紧弹簧。
更具体地,优选地,如图2和图6所示,包括阀板冷却水道518;阀板冷却水道518包括支撑板冷却水道518和密封板冷却水道520,支撑板冷却水道518固定设置于支撑板505上,密封板冷却水道520固定设置于密封板506上。
更具体地,竖推式插板阀包括阀板冷却水道518,阀板冷却水道518包括支撑板冷却水道518和密封板冷却水道520,支撑板冷却水道518设置于支撑板505上,密封板冷却水道520 设置于密封板506上;通过向阀板冷却水道518内通入循环冷却水对支撑板505与密封板506进行降温,同时也是对阀体501 进行降温,从而使插板阀在对两个高温腔体进行密封时,仍能保证插板阀温度在适宜使用的范围内,具有良好的密封性能,实现对高温真空腔室的密封。
本申请还提供了一种连续真空镀膜系统,包括上述任一实施例的连续真空镀膜装置。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案,而非对其限制;对其中部分进行等同替换;修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种连续真空镀膜装置,其特征在于,包括:运送机构、进片室、镀膜室、出片室和传送机构;
所述进片室与所述镀膜室之间设置有第一竖推式插板阀,所述第一竖推式插板阀用于控制所述进片室与所述镀膜室相连通或者相隔离;所述镀膜室与所述出片室之间设置有第二竖推式插板阀,所述第二竖推式插板阀用于控制所述镀膜室与所述出片室相连通或者相隔离;
所述运送机构至少设置有两个,其中至少一个所述运送机构用于将待镀件输送至所述进片室内,其中至少另一个所述运送机构用于将已镀件由所述出片室输送到外部;
所述进片室的顶部、所述镀膜室的顶部与所述出片室的顶部均设置有所述传送机构。
2.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置,其特征在于,所述镀膜室设置为内部中空的腔体,所述镀膜室的腔体内部设置有加热组件、电子枪、自动填料组件和坩埚组件;
所述自动填料组件设置在所述镀膜室的侧壁上,且设置在所述坩埚组件的正上方,所述自动填料组件用于将物料添加到所述坩埚组件内部;所述电子枪设置在所述坩埚组件的一侧,所述电子枪用于对所述坩埚组件内部物料蒸发;所述镀膜室的腔体内部设置有所述加热组件,所述加热组件用于加快物料蒸发。
3.根据权利要求2所述的连续真空镀膜装置,其特征在于,所述自动填料组件包括进料容器、进料开关和驱动组件;
所述进料容器包括储料仓、进料管和出料管,所述储料仓和所述进料管相连通;
所述进料管和所述出料管之间设置有所述进料开关,所述进料开关用于使所述进料管与所述出料管之间连通或者断开;
所述驱动组件用于驱动所述进料开关运动,以使所述进料管与所述出料管之间连通或者断开。
4.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置,其特征在于,还包括第一抽真空装置,所述第一抽真空装置与所述进片室连通,所述进片室设置为中空结构,所述第一抽真空装置用于对所述进片室抽真空;
所述第一抽真空装置包括第一低温泵、第一罗茨泵和第一机械泵;所述第一机械泵至少设置有三个,其中,至少一个所述第一机械泵与所述第一低温泵连通,所述第一低温泵与所述进片室连通,其中,至少两个所述第一机械泵与所述第一罗茨泵连通,所述第一罗茨泵的另一端通过管路分别与所述进片室和第一低温泵连通。
5.根据权利要求2所述的连续真空镀膜装置,其特征在于,还包括第二抽真空装置,所述第二抽真空装置与所述镀膜室连通,且所述第二抽真空装置用于对所述镀膜室抽真空;所述所述第二抽真空装置包括第二机械泵、第二罗茨泵、第二低温泵;第二低温泵与所述镀膜室相连通,且设置在所述镀膜室的顶部;所述第二低温泵的另一端与所述第二罗茨泵连通,第二罗茨泵的另一端与所述旋片泵连通。
6.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置,其特征在于,还包括第三抽真空装置,所述第三抽真空装置与所述出片室连通,所述出片室设置为中空结构,所述第三抽真空装置用于对所述出片室抽真空;所述第三抽真空装置包括第三低温泵、第三罗茨泵和第三机械泵;所述第三机械泵至少设置有三个,所述第三低温泵设置在所述出片室的底壁上,所述第三低温泵至少设置有两组,且每组所述第三低温泵的数量设置为两个,所述第三罗茨泵至少设置有一个;其中,至少两个所述第三机械泵与所述第三罗茨泵相连通,所述第三罗茨泵的另一端通过管路分别与所述第三低温泵和所述出片室底壁相连通,其中,至少一个所述第三机械泵与所述第三低温泵连通设置。
7.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置,其特征在于,所述传送机构包括:第一电机、第一传递杆、第一同步轮和第一皮带;
所述第一电机的输出轴通过第一皮带与所述第一传递杆连接,所述第一传递杆的一侧两端分别设置有多个第一同步轮,同一侧的多个所述第一同步轮沿第一方向间隔排布,所述第一方向垂直于所述第一连接杆的长度方向,每相邻所述第一同步轮之间通过所述第一皮带连接,所述第一传递杆与所述第一同步轮通过第一皮带连接。
8.根据权利要求4所述的连续真空镀膜装置,其特征在于,所述运送机构包括第二框架以及设置在所述第二框架内的水平运送组件、竖直运送组件、承载组件和第一框架;所述第一框架用于支撑所述承载组件,所述承载组件用于悬挂待镀件,所述竖直运送组件用于将悬挂待镀件的所述承载组件提升至与所述进片室同一高度处位置;所述水平运输组件用于将悬挂待镀件的所述承载组件运输至所述进片室内;
所述承载组件包括大齿轮盘、承重板和承载板;所述大齿轮盘的下面设置有所述承重板,所述承重板的下面通过连接件与所述承载板连接;
所述水平运送组件包括:第二电机、第二传递杆、第二同步轮、第二皮带;所述第二电机的输出轴通过第二皮带与所述传递杆连接,所述第二传递杆的一侧两端分别设置有多个第二同步轮,同一侧的多个所述第二同步轮沿第一方向间隔排布,所述第一方向垂直于所述第二连接杆的长度方向,每相邻所述第二同步轮之间通过所述第二皮带连接,所述第二传递杆与所述第二同步轮通过皮带连接;
所述竖直运送组件包括:第三电机、滚轮组、第一滑轮、第二滑轮、第一吊环和第二吊环;
所述第一吊环设置在所述第一框架的上端,所述第二吊环设置在所述第一框架的下端,所述第一滑轮至少设置有四个,其中至少一个所述第一滑轮设置在所述第二框架的顶部边框上,其中至少另一个所述第一滑轮设置在所述第二框架的顶部中间,所述第二滑轮至少设置有四个,其中至少一个所述第二滑轮设置在所述第二框架的底部边框上,其中至少另一个所述其中至少另一个所述设置在所述第二框架的底部中间,所述滚轮组至少设置有两个滚轮,其中至少一个滚轮通过钢丝绳依次穿过第一滑轮和第一吊环;其中至少另一个滚轮通过钢丝绳依次穿过第二滑轮和第二吊环;所述滚轮同轴设置,且轴的一端设置有大齿轮,所述第三电机的输出小齿轮带动大齿轮旋转;所述大齿轮旋转带动所述第一框架沿竖直方向运动。
9.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置,其特征在于,所述第一竖推式插板阀;
所述第一竖向插板阀包括阀体、密封板组件、导向组件和驱动装置;
所述密封板组件、所述导向组件均位于所述阀体内;所述阀体的第一方向上的第一侧壁上设有第一通孔,所述阀体的第一方向上的第二侧壁上设有第二通孔,所述第一通孔与所述第二通孔相对设置;
所述密封板组件包括支撑板和密封板,所述支撑板用于封堵所述第一通孔,所述密封板用于封堵所述第二通孔,所述支撑板与所述密封板通过伞形连接件相连接;
所述导向组件包括沿第二方向设置的导杆和导轮,所述导杆位于所述密封板组件上方,所述密封板组件与所述导轮相连接,所述导轮位于所述导杆上,并能沿着所述导杆的延伸方向滑动;所述第二方向垂直于所述第一方向;
所述驱动装置能够驱动所述密封板组件沿所述导杆方向移动。
10.一种镀膜系统,其特征在于,包括权利要求1至9中任一项所述的连续真空镀膜装置。
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