CN109407375B - 一种显示面板及其制作方法、显示屏组件、电子设备 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制作方法、显示屏组件、电子设备，其中，该显示面板包括位于显示面板的有效显示区内的透光区域；其中，透光区域用于为设置于显示面板的非显示面的光学元件提供穿透显示面板厚度方向的光路；其中，显示面板的非显示面上设置有至少覆盖透光区域的透明导电层。通过上述方式，能够在不影响光路的情况下，为背面静电提供导电路径，将静电有效的分散导走，对显示面板内部的电路起到保护作用。

Description

一种显示面板及其制作方法、显示屏组件、电子设备
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制作方法、显示屏组件、电子设备。
背景技术
为了满足用户对全面屏的需求，现有的电子设备对屏占比的要求也越来越高。为了实现更高的屏占比，在增加显示屏大小的同时，也减少了电子设备正面的功能组件的安装空间，现有技术中一般将这些功能组件设置在电子设备侧面或背面，亦或是采用隐藏式的设计将功能组件设置在屏下。
发明内容
本申请采用的一个技术方案是：提供一种显示面板，该显示面板包括位于显示面板的有效显示区内的透光区域；其中，透光区域用于为设置于显示面板的非显示面的光学元件提供穿透显示面板厚度方向的光路；其中，显示面板的非显示面上设置有至少覆盖透光区域的透明导电层。
本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显示面板的制作方法，该制作方法包括：提供一TFT基板和一CF基板；其中，TFT基板和CF基板包括位于有效显示区内的透光区域，透光区域用于为设置于显示面板的非显示面的光学元件提供穿透显示面板厚度方向的光路，TFT基板包括下基板和形成于下基板上的TFT层；在TFT基板远离TFT层的一侧，形成透明导电层；其中，透明导电层至少覆盖透光区域；将TFT基板和CF基板对盒形成显示面板。
本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显示面板的制作方法，该制作方法包括：提供一TFT基板和一CF基板；其中，TFT基板和CF基板包括位于有效显示区内的透光区域，透光区域用于为设置于显示面板的非显示面的光学元件提供穿透显示面板厚度方向的光路；将TFT基板和CF基板对盒形成显示面板；在TFT基板远离CF基板的一侧，形成透明导电层；其中，透明导电层至少覆盖透光区域。
本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显示屏组件，该显示屏组件包括显示面板和背光板；其中，显示面板是如上述的显示面板或采用如上述的显示面板的制作方法制作得到的显示面板。
本申请采用的另一个技术方案是：提供一种电子设备，该电子设备包括中框组件以及设置中框组件相对两侧面的后壳和显示屏组件；其中，显示屏组件的有效显示区内设置有透光区域，中框组件包括对应透光区域设置的光学元件，显示屏组件是如上述的显示屏组件。
本申请提供的显示面板包括位于显示面板的有效显示区内的透光区域；其中，透光区域用于为设置于显示面板的非显示面的光学元件提供穿透显示面板厚度方向的光路；其中，显示面板的非显示面上设置有至少覆盖透光区域的透明导电层。通过上述方式，能够在显示面板非显示面的裸露区域通过设置透明导电层来防止静电进入显示面板的内部，这样既不会影响光路，还可以为静电提供导电路径，将静电有效的分散导走，对显示面板内部的电路起到保护作用。进一步，采用该显示面板制作的电子设备，能够将光学元件在显示面板的背部进行隐藏式设计，光学元件通过显示面板上的透光区域进行光线的传输，有利于提高显示屏的屏占比，实现全面屏。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：
图1是本申请提供的显示面板第一实施例的结构示意图；
图2是本申请提供的显示面板第二实施例的结构示意图；
图3是本申请提供的显示面板第三实施例的结构示意图；
图4是本申请提供的显示面板第四实施例的结构示意图；
图5是本申请提供的显示面板中TFT基板的结构示意图；
图6是本申请提供的显示面板中CF基板的结构示意图；
图7是本申请提供的显示面板第五实施例的结构示意图；
图8是本申请提供的显示面板的制作方法一实施例的流程示意图；
图9是本申请提供的显示面板的制作方法另一实施例的流程示意图；
图10是本申请提供的显示屏组件一实施例的结构示意图；
图11是本申请提供的电子设备一实施例的结构示意图。
具体实施方式
在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
参阅图1，图1是本申请提供的显示面板第一实施例的结构示意图，该显示面板10包括TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板11、CF(color filter，彩色滤光片)基板12以及TFT基板11和CF基板12之间的液晶层13。
其中，TFT基板11包括下基板111以及设置于下基板111上的TFT层112，TFT层112靠近CF基板12一侧，CF基板12包括上基板121以及设置于上基板121上的CF层122，CF层122靠近TFT基板11一侧。另外，TFT基板远离CF基板的一侧还设置有下偏光层14，CF基板远离TFT基板的一侧还设置有上偏光层15。该显示面板从下至上依次包括层叠设置的下偏光层14、TFT基板11、液晶层13、CF基板12和上偏光层15。
在显示屏组件中，显示面板10的非显示面还设置有背光板20，背光板20用于为显示面板10提供光源。
在上述显示面板10应用于电子设备上时，为了实现更高的屏占比，将原本在电子设备显示面裸露设置光学元件30设置在屏下，这样就可以提高屏占比。
可选的，光学元件30可以是前置摄像头，也可以是红外光感元件，这些元件在使用时需要向电子设备外部发出光线或者接收外部的光线，因此需要连通外部空间的光路。
在本实施例中，在显示面板10的有效显示区(AA区)上设置有透光区域A，透光区域A用于为设置于显示面板10的非显示面的光学元件30提供穿透显示面板10厚度方向的光路。
由于光学元件30设置于背光板20远离显示面板10的一侧，因此，在背光板20上也可以开设对应的通孔形成光路，背光板20上的通孔对上述的透光区域A对应。
可以理解的，原本背光板20与显示面板10紧贴在一起，但是由于背光板20上通孔的开设，导致显示面板10的非显示面部分裸露出来，当显示面板10的非显示面有静电时，直接导致显示面板10损伤，影响显示面板10的显示效果。
参阅图2，图2是本申请提供的显示面板第二实施例的结构示意图，该显示面板10包括TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板11、CF(color filter，彩色滤光片)基板12以及TFT基板11和CF基板12之间的液晶层13。
其中，TFT基板11包括下基板111以及设置于下基板111上的TFT层112，TFT层112靠近CF基板12一侧，CF基板12包括上基板121以及设置于上基板121上的CF层122，CF层122靠近TFT基板11一侧。另外，TFT基板远离CF基板的一侧还设置有下偏光层14，CF基板远离TFT基板的一侧还设置有上偏光层15。该显示面板从下至上依次包括层叠设置的下偏光层14、TFT基板11、液晶层13、CF基板12和上偏光层15。
在本实施例中，显示面板10的非显示面上设置有至少覆盖透光区域A的透明导电层16。该透明导电层16用于吸收显示面板10非显示面的静电，提供导电路径，将静电有效的分散导走，从而防止静电进入显示面板10的内部影响TFT基板11中的电路走线。
可选的，在本实施例中，透明导电层16设置于显示面板10的非显示面的下基板111和下偏光层14之间。下偏光层14在对应透光区域A的位置设置有通孔，用于为光学元件30提供光路。
如图3所示，图3是本申请提供的显示面板第三实施例的结构示意图，该显示面板10包括TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板11、CF(color filter，彩色滤光片)基板12以及TFT基板11和CF基板12之间的液晶层13。
其中，TFT基板11包括下基板111以及设置于下基板111上的TFT层112，TFT层112靠近CF基板12一侧，CF基板12包括上基板121以及设置于上基板121上的CF层122，CF层122靠近TFT基板11一侧。另外，TFT基板远离CF基板的一侧还设置有下偏光层14，CF基板远离TFT基板的一侧还设置有上偏光层15。该显示面板从下至上依次包括层叠设置的下偏光层14、TFT基板11、液晶层13、CF基板12和上偏光层15。
在本实施例中，显示面板10的非显示面上设置有至少覆盖透光区域A的透明导电层16。该透明导电层16用于吸收显示面板10非显示面的静电，提供导电路径，将静电有效的分散导走，从而防止静电进入显示面板10的内部影响TFT基板11中的电路走线。
可选的，在本实施例中，下基板111的下表面靠近下偏光层14的一侧设置有凹槽，该凹槽的面积大于透光区域A的面板，透明导电层16设置于该凹槽内。下偏光层14在对应透光区域A的位置设置有通孔，用于为光学元件30提供光路。
参阅图4，图4是本申请提供的显示面板第四实施例的结构示意图，该显示面板10包括TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板11、CF(color filter，彩色滤光片)基板12以及TFT基板11和CF基板12之间的液晶层13。
其中，TFT基板11包括下基板111以及设置于下基板111上的TFT层112，TFT层112靠近CF基板12一侧，CF基板12包括上基板121以及设置于上基板121上的CF层122，CF层122靠近TFT基板11一侧。另外，TFT基板远离CF基板的一侧还设置有下偏光层14，CF基板远离TFT基板的一侧还设置有上偏光层15。该显示面板从下至上依次包括层叠设置的下偏光层14、TFT基板11、液晶层13、CF基板12和上偏光层15。
在本实施例中，显示面板10的非显示面上设置有至少覆盖透光区域A的透明导电层16。该透明导电层16用于吸收显示面板10非显示面的静电，提供导电路径，将静电有效的分散导走，从而防止静电进入显示面板10的内部影响TFT基板11中的电路走线。
可选的，在本实施例中，下基板111和下偏光层14紧贴设置，透明导电层16设置于下偏光层14远离下基板111的一侧。可以理解的，下偏光层14在对应透光区域A的位置设置有通孔，用于为光学元件30提供光路。因此，透明导电层16至少覆盖该通孔，或者填充于该通孔中。在一种具体的实施例中，该透明导电层16为采用PVD(Physical VaporDeposition，物理气相沉积)工艺或者CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)工艺形成的ITO(铟锡氧化物)层，因此，在沉积过程中，可以该透明导电层16填充于该通孔内部。
在上面的实施例中，透明导电层16采用的材料的电阻率一般小于或等于10-6Ω·m，这样有利于提高透明导电层16的导电能力。
可选的，在一实施例中，透明导电层16为ITO(铟锡氧化物)或IZO(铟锌氧化物)。可选的，在本实施例中，透明导电层16可以采用PVD工艺或者CVD工艺进行沉积。
可选的，在另一实施例中，透明导电层16可以采用低相位延迟的材料，具体可以是为COP(Cyclo Olefin Polymer，环烯烃聚合物)或PI(Polyimide，聚酰亚胺)。可选的，在本实施例中，透明导电层16可以采用PVD工艺或者CVD工艺进行沉积，也可以采用涂覆的工艺形成，还可以直接将COP或PI形成薄膜粘贴在显示面板10上。
下面通过两个具体的实施例对TFT基板和CF基板的结构进行说明。
结合图5，图5是本申请提供的显示面板中TFT基板的结构示意图，该TFT基板11包括层叠设置于下基板111上的缓冲层51、半导体层52、栅极绝缘层53、栅极层54、层间介质层55、第一电极层56、平坦层57以及第二电极层58。
其中，缓冲层51、半导体层52、栅极绝缘层53、栅极层54、层间介质层55、第一电极层56、平坦层57以及第二电极层58共同形成上述实施例中的TFT层12。
可选的，其中的下基板111一般为透明玻璃。其中的缓冲层51、栅极绝缘层53、层间介质层55、平坦层57一般采用绝缘材料制作，例如氧化硅、氮化硅、或者氧化硅和氮化硅的混合物。其中的半导体层52一般为非晶硅或者多晶硅，其中的多晶硅是非晶硅经过准分子镭射退火工艺并进行离子掺杂形成的。其中的栅极绝缘层53和第一电极层56一般为金属层，例如铝、镍、钼等，其中的第一电极层56经过图案化处理后形成源极和漏极，源极和漏极中的一个通过层间通孔连接半导体层52。其中的第二电极层58为像素电极层，一般采用透明导电材料制作，例如ITO或IZO。
可以理解的，上述仅仅是提供了一种TFT基板的结构，而现有技术中有很多不同的TFT基板，例如上述实施例是顶栅型的TFT结构，另外还有底栅型。进一步，液晶面板包括IPS、FFS等多种不同结构，其具体的像素电极和公共电极的设置有所差别，本实施例中不再一一举例。
其中，TFT层11在对应透光区域A的位置设置有沿显示面板10厚度方向的盲孔B。
具体地，该盲孔B至少贯穿栅极绝缘层53、层间介质层55和平坦层57。可以理解的，由于TFT层11包括阵列分布的多个TFT开关，在盲孔B的形成过程中，可以根据盲孔B的大小和TFT开关之间的距离，将盲孔B设置于相邻两个TFT开关之间的位置，避开TFT开关，这样盲孔B就不会贯穿TFT开关，即不会贯穿半导体层52、栅极层54、第一电极层56以及第二电极层58。
另外，可以理解的，若盲孔B较大，需要占用多个像素，则开设盲孔B时可能会去除部分的TFT开关。
结合图6，图6是本申请提供的显示面板中CF基板的结构示意图，该CF基板12包括上基板121以及设置于上基板上的CF层122，CF层122靠近TFT基板11一侧，CF层122在对应透光区域A的位置设置有沿显示面板厚度方向的通孔C。其中的上基板121一般为透明玻璃。
其中，CF层可以包括阵列分布的红、绿、蓝三色滤光片。
在上述图2、图3、图4的实施例中，透明导电层16的面积要尽可能的大，一般的，透明导电层16最大可以覆盖整个下基板111，最小也至少需要覆盖透光区域A。另外，背光板20与显示面板10紧密的贴合在一起，可以使得透明导电层16上的静电传导至背光板20的框体上，进一步增加静电的传导能力。
结合图5、图6和图7，图7是本申请提供的显示面板第五实施例的结构示意图，该显示面板10包括TFT基板11、CF基板12以及TFT基板11和CF基板12之间的液晶层13。
其中，TFT基板11包括下基板111以及设置于下基板111上的TFT层112，TFT层112靠近CF基板12一侧，CF基板12包括上基板121以及设置于上基板121上的CF层122，CF层122靠近TFT基板11一侧。
另外，该显示面板10还包括间隔柱层18，该间隔柱层18设置于CF基板12靠近液晶层13的一侧，包括多个用于支撑的间隔柱，当显示面板10受到外力挤压时，保持TFT基板11和CF基板12之间的距离，防止液晶层13变形。
可选的，结合上述的实施例，在本实施例中，透光区域A对应的位置不设置间隔柱，而在靠近透光区域A的两侧的边缘处分别设置第一间隔柱18a和第二间隔柱18b，用于起到支撑作用。可选的，该间隔柱层18采用透明材料制作，因此，可以填充在CF层122中的通孔中。
本实施例提供的显示面板包括位于显示面板的有效显示区内的透光区域；其中，透光区域用于为设置于显示面板的非显示面的光学元件提供穿透显示面板厚度方向的光路；其中，显示面板的非显示面上设置有至少覆盖透光区域的透明导电层。通过上述方式，能够在显示面板非显示面的裸露区域通过设置透明导电层来防止静电进入显示面板的内部，这样既不会影响光路，还可以为静电提供导电路径，将静电有效的分散导走，对显示面板内部的电路起到保护作用。进一步，采用该显示面板制作的电子设备，能够将光学元件在显示面板的背部进行隐藏式设计，光学元件通过显示面板上的透光区域进行光线的传输，有利于提高显示屏的屏占比，实现全面屏。
由于在上述的实施例中，显示面板中增加了透明导电层，在显示面板的制作中，制程也有所改变，下面通过几种实施例对显示面板的制程进行介绍。
参阅图8，图8是本申请提供的显示面板的制作方法一实施例的流程示意图，该方法包括：
步骤81：提供一TFT基板和一CF基板；其中，TFT基板和CF基板包括位于有效显示区内的透光区域，透光区域用于为设置于显示面板的非显示面的光学元件提供穿透显示面板厚度方向的光路，TFT基板包括下基板和形成于下基板上的TFT层。
步骤82：在TFT基板远离TFT层的一侧，形成透明导电层；其中，透明导电层至少覆盖透光区域。
步骤83：将TFT基板和CF基板对盒形成显示面板。
结合上述图2，TFT基板11和CF基板12的具体制作工艺这里不再赘述，可以利用现有技术中的方式。只不过在TFT基板11和CF基板12制作完成之后，需要在上面设置透光区域A。具体可以采用蚀刻的方式在上面形成通孔或者盲孔。
进一步，在TFT基板11制作完成之后，在TFT基板11远离TFT层12层的一侧，形成透明导电层16。具体可以采用PVD工艺或者CVD工艺进行，这里不再赘述。
然后将TFT基板11和CF基板12对盒形成显示面板10，再对显示面板10切割形成需要的尺寸，最后在显示面板10的两侧面分别形成下偏光层14和上偏光层15。并对下偏光层14和上偏光层15进行蚀刻形成对应透光区域A的通孔。
参阅图9，图9是本申请提供的显示面板的制作方法另一实施例的流程示意图，该方法包括：
步骤91：提供一TFT基板和一CF基板；其中，TFT基板和CF基板包括位于有效显示区内的透光区域，透光区域用于为设置于显示面板的非显示面的光学元件提供穿透显示面板厚度方向的光路。
步骤92：将TFT基板和CF基板对盒形成显示面板。
步骤93：在TFT基板远离CF基板的一侧，形成透明导电层；其中，透明导电层至少覆盖透光区域。
结合上述图2，TFT基板11和CF基板12的具体制作工艺这里不再赘述，可以利用现有技术中的方式。只不过在TFT基板11和CF基板12制作完成之后，需要在上面设置透光区域A。具体可以采用蚀刻的方式在上面形成通孔或者盲孔。
进一步，在TFT基板11制作完成之后，将TFT基板11和CF基板12对盒形成显示面板10，再在TFT基板11远离TFT层12层的一侧，形成透明导电层16。具体可以采用PVD工艺或者CVD工艺进行，这里不再赘述。
然后再对显示面板10切割形成需要的尺寸，最后在显示面板10的两侧面分别形成下偏光层14和上偏光层15。并对下偏光层14和上偏光层15进行蚀刻形成对应透光区域A的通孔。
另外，在其他实施例中，也可以先将TFT基板11和CF基板12对盒形成显示面板10，再在显示面板10切割之后，在TFT基板11远离TFT层12层的一侧，形成透明导电层16。然后对下偏光层14和上偏光层15进行蚀刻形成对应透光区域A的通孔。
另外，在其他实施例中，也可以在形成下偏光层14和上偏光层15的工艺中，同步形成透明导电层16。在该实施例中，透明导电层16为薄膜，采用贴附工艺形成。
参阅图10，图10是本申请提供的显示屏组件一实施例的结构示意图，该显示屏组件100包括显示面板10和背光板20。
其中，显示面板10包括位于显示面板10的有效显示区内的透光区域A；其中，透光区域A用于为设置于显示面板10的非显示面的光学元件30提供穿透显示面板10厚度方向的光路。
其中，背光板20在对应所述显示面板10的透光区域A的位置设置有通孔D。
可以理解的，发光元件30发出的光线能够经过背光板20上的通孔D，穿过显示面板10上的透光区域A，从而到达显示屏组件100的显示面一侧；同样，显示屏组件100的显示面一侧的光线也能够经过显示面板10上的透光区域A，穿过背光板20上的通孔D，从而到达显示屏组件100的非显示面一侧并被发光元件30接收。
本实施例中的显示面板10可以是上述各种实施例中的显示面板或采样上述各种实施例的制作方法来制作，其结构和工作原理相同，这里不再赘述。
另外，CF基板远离TFT基板的一侧面上还层叠设置有透明树脂层40和盖板层50。其中，该盖板层50一般是透明玻璃。
参阅图11，图11是本申请提供的电子设备一实施例的结构示意图，该电子设备110包括中框组件200以及设置中框组件200相对两侧面的显示屏组件100和后壳300。
其中，显示屏组件100是如上述的实施例中介绍的显示屏组件，这里不再赘述，另外，中框组件200包括对应透光区域设置的光学元件(图未示)。
可选的，该光学元件可以是前置摄像头或者光感元件
以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (13)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括位于所述显示面板的有效显示区内的透光区域；其中，所述透光区域用于为设置于所述显示面板的非显示面的光学元件提供穿透所述显示面板厚度方向的光路；
其中，所述显示面板的非显示面上设置有至少覆盖所述透光区域的透明导电层；
所述显示面板的非显示面包括下基板和下偏光层，所述下基板的下表面靠近所述下偏光层的一侧设置有凹槽，所述凹槽的面积大于所述透光区域的面板，所述透明导电层设置于所述凹槽内。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述显示面板包括TFT基板、CF基板以及设置于所述TFT基板和所述CF基板之间的液晶层；
其中，所述TFT基板包括下基板以及设置于所述下基板上的TFT层，所述TFT层靠近所述CF基板一侧，所述TFT层在对应所述透光区域的位置设置有沿所述显示面板厚度方向的盲孔。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述TFT层具体包括层叠设置于所述下基板上的缓冲层、半导体层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层、第一电极层、平坦层以及第二电极层；
所述盲孔至少贯穿所述栅极绝缘层、所述层间介质层以及所述平坦层。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述透光区域对应所述显示面板的一个指定像素区域；
所述CF基板包括上基板以及设置于所述上基板上的CF层，所述CF层靠近所述TFT基板一侧，所述CF层在对应所述透光区域的位置设置有沿所述显示面板厚度方向的通孔。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述CF基板远离所述TFT基板的一侧面上还层叠设置有透明树脂层和盖板层。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述透明导电层的电阻率小于或等于10-6Ω·m。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述透明导电层为ITO或IZO。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述透明导电层为COP或PI。
9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一TFT基板和一CF基板；其中，所述TFT基板和所述CF基板包括位于有效显示区内的透光区域，所述透光区域用于为设置于所述显示面板的非显示面的光学元件提供穿透所述显示面板厚度方向的光路，所述TFT基板包括下基板和形成于所述下基板上的TFT层；
在所述下基板远离所述TFT层的一侧设置一凹槽，所述凹槽的面积大于所述透光区域的面板；
在所述凹槽内形成透明导电层；其中，所述透明导电层至少覆盖所述透光区域；
将所述TFT基板和所述CF基板对盒形成显示面板。
10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一TFT基板和一CF基板；其中，所述TFT基板和所述CF基板包括位于有效显示区内的透光区域，所述透光区域用于为设置于所述显示面板的非显示面的光学元件提供穿透所述显示面板厚度方向的光路；所述TFT基板包括下基板和形成于所述下基板上的TFT层；
将所述TFT基板和所述CF基板对盒形成显示面板；
在所述下基板远离所述TFT层的一侧设置一凹槽，所述凹槽的面积大于所述透光区域的面板；
在所述凹槽内形成透明导电层；其中，所述透明导电层至少覆盖所述透光区域。
11.一种显示屏组件，其特征在于，所述显示屏组件包括显示面板和背光板；
其中，所述显示面板是如权利要求1-8任一项所述的显示面板或采用如权利要求9或10的显示面板的制作方法制作得到的显示面板，所述背光板在对应所述显示面板的透光区域的位置设置有通孔。
12.一种电子设备，其特征在于，包括中框组件以及设置所述中框组件相对两侧面的后壳和显示屏组件；
其中，显示屏组件的有效显示区内设置有透光区域，所述中框组件包括对应所述透光区域设置的光学元件，所述显示屏组件是如权利要求11所述的显示屏组件。
13.根据权利要求12所述的电子设备，其特征在于，
所述光学元件为前置摄像头。
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