CN109396969B - 一种全封闭扩展式磁流变抛光设备 - Google Patents

一种全封闭扩展式磁流变抛光设备 Download PDF

Info

Publication number
CN109396969B
CN109396969B CN201811562419.0A CN201811562419A CN109396969B CN 109396969 B CN109396969 B CN 109396969B CN 201811562419 A CN201811562419 A CN 201811562419A CN 109396969 B CN109396969 B CN 109396969B
Authority
CN
China
Prior art keywords
wheel
support frame
outer roller
polishing
permanent magnet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201811562419.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109396969A (zh
Inventor
石峰
张万里
戴一帆
宋辞
田野
铁贵鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National University of Defense Technology
Original Assignee
National University of Defense Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by National University of Defense Technology filed Critical National University of Defense Technology
Priority to CN201811562419.0A priority Critical patent/CN109396969B/zh
Publication of CN109396969A publication Critical patent/CN109396969A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109396969B publication Critical patent/CN109396969B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • B24B1/005Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes using a magnetic polishing agent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B13/00Machines or devices designed for grinding or polishing optical surfaces on lenses or surfaces of similar shape on other work; Accessories therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明公开一种全封闭扩展式磁流变抛光设备,包括:支撑架、驱动装置、传动装置、抛光轮和励磁装置;抛光轮包括主轴和随主轴转动的封闭轮;励磁装置水平方向上排列有至少两能够在磁流变液流经封闭轮轮缘时与封闭轮之间形成梯度磁场的磁极组;励磁装置位于所述封闭轮内,且励磁装置的水平方向沿封闭轮的轴向设置,励磁装置通过贯穿封闭轮中心的支架安装在所述支撑架上。该方案解决了大口径工件加工效率低的问题,提高了抛光效率。

Description

一种全封闭扩展式磁流变抛光设备
技术领域
本发明涉及光学元件抛光技术领域,尤其是一种全封闭扩展式此流变抛光设备。
背景技术
随着科技的不断发展,现代光学系统对光学元件无论是从加工精度、质量,还是从元件的材料等要求都不断提升,加工过程越来越偏向于极端制造。同时现代光学系统中应用的光学元件口径越来越大,传统加工由于加工周期长、效率低等缺陷,已经不再适用于大口径元件的加工,因此急需一种高效率、低损伤的加工方法。
由于需求的不断提升,催生了诸如:离子束抛光、射流抛光、浮法抛光和弹性发射抛光等在内的多种现代抛光技术。这些现代抛光技术在实现光学元件的高精度、低损伤加工的同时,自身又不可避免的存在不同程度的缺陷,如:离子束抛光耗能较大;射流抛光、浮法抛光、弹性发射加工等加工方法效率较低。因此,在实际抛光时,可根据实际加工情况,选择合适的抛光方法,以满足光学元件的加工需求。
磁流变抛光(MRF)凭借其高加工效率、高精度、低损伤等一系列优点,被广泛应用于光学元件特别是大口径光学元件的镜面抛光中。当磁流变液从喷嘴输送至抛光轮随其转动至抛光区域时,受梯度磁场作用,成为具有粘塑性的Bingham(宾汉)流体,形成“柔性抛光缎带”。“柔性抛光缎带”与工件表面接触,使得元件表面材料在“柔性抛光缎带”产生的剪切力作用下得到去除。抛光完成后,磁流变液流出抛光区域,此时磁场大幅度减弱,磁流变液重新变回液体状,磁流变液随抛光轮一同转动,流至回收器时被回收器回收。
目前磁流变抛光装置根据励磁装置的不同,可分为永磁体型和电磁铁型,永磁体具有结构简单,无需散热等优点;电磁铁型具有磁场强度和磁场形状可控等优点。与此同时,永磁体型和电磁铁型也存在不同程度的缺点:永磁体一旦加工成型,磁场强度和磁场形状将不可更改,随着使用时间的延长,磁场的强度也会略有减弱,如果装置密封性不好,永磁体上也容易吸引杂质,这也可能导致磁场减弱;电磁铁型装置较为复杂,体积较大,且使用过程需要安装额外的散热装置,目前常用的为水冷装置,否则将会影响整个装置的使用性能。
现代磁流变抛光较其他加工方法,加工效率较高,但随着元件口径的不断增大,传统磁流变抛光的加工效率已经慢慢不再适应现代光学元件镜面加工的需求。因此需要研发一种新式的磁流变抛光装置。目前,国内外对磁流变抛光装置的研究比较多,出现了包括带式磁流变,集群式磁流变在内的多种磁流变抛光装置。本发明基于大口径或超大口径光学元件的加工,提出了一种封闭扩展式磁流变抛光装置,对解决大口径光学元件的高效率、低损伤加工具有着重要的作用。(大口径元件需加工面积大,传统磁流变装置为开放式电磁铁型单一缎带装置,加工时间长效率低。同样的时间内,改进的磁流变装置可在加工效率上提高5~6倍。磁流变抛光缎带为柔性,可降低抛光过程的损伤。)
发明内容
本发明提供一种全封闭扩展式磁流变抛光设备,用于克服现有技术中加工效率较低、损伤较大等缺陷,实现大口径光学元件的高效率和低损伤加工。
为实现上述目的,本发明提出一种全封闭扩展式磁流变抛光设备,包括:
支撑架,用于为各组成部件提供支撑;
驱动装置,安装在所述支撑架上,用于提供驱动力矩;
传动装置,安装在所述支撑架上;输入端连接所述驱动装置,输出端连接抛光轮,用于在所述驱动装置的作用下带动所述抛光轮转动;
所述抛光轮,包括主轴和套设在所述主轴上并相对所述主轴转动的封闭轮;所述主轴与所述传动装置连接,且安装在所述支撑架上并与所述支撑架转动连接;
励磁装置,水平方向上排列有至少两磁极组,相邻两磁极组之间通过导磁片连接;所述磁极组包括两片在水平方向上叠加的永磁体磁极和位于两所述永磁体磁极之间的连接柱,所述永磁体磁极的一端与所述连接柱通过连接件固定在一起;所述连接柱竖直方向下端位于两片所述永磁体磁极内,并与两片所述永磁体磁极共同围设成一个底部开口的空腔;
所述永磁体磁极竖直方向下端在宽度方向上呈圆弧形并与所述封闭轮的内缘侧面相适配,所述永磁体磁极竖直方向下端近空腔一侧与竖直方向呈14.5~15.5度倾斜,并形成倾斜边沿;所述倾斜边沿的长度在34~36mm之间,所述的磁极组竖直方向下端圆弧部分水平距离为8.5~9.5mm;所述永磁体磁极的宽度为145~150mm;所述导磁片底端与相邻两所述磁极组的永磁体磁极的倾斜边沿共同围设呈过渡弧面;
所述励磁装置位于所述封闭轮内,且所述励磁装置的水平方向沿所述封闭轮的轴向设置,所述励磁装置通过贯穿所述封闭轮中心的支架安装在所述支撑架上。
本发明提供的全封闭扩展式磁流变抛光设备,使用时,磁流变液通过喷嘴喷向转动的抛光轮,在扩展式励磁装置磁场的作用下附着在抛光轮外侧面(轮缘外侧面)上,随抛光轮转动进入抛光区域(抛光轮轮缘上正对励磁装置的区域),磁流变液由磁敏颗粒和抛光液组成,经仿真实验证明上述结构的励磁装置形成的梯度磁场,能够形成具有抛光能力的“柔性抛光缎带”,在剪切力作用下,对光学元件表面材料进行去除,抛光完成后,磁场减弱,磁流变液重新回到流体状态,被回收器回收;本发明的装置结构稳定性强,传动平稳;封闭式的抛光轮设计,避免外界对抛光轮内部的污染,特别是对抛光轮内部励磁装置的污染;采用扩展式励磁装置,尽可能的在抛光轮轴向上实现了“柔性抛光缎带”的扩展,进一步提升抛光效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明实施例一提供的全封闭扩展式磁流变抛光装置的立体图;
图2为图1的另一视角示意图;
图3为图1的又一视角示意图;
图4为图1中回收装置的立体图;
图5为图4的主视图;
图6为图1中第一圆盘、第二圆盘的立体图;
图7为图6的主视图;
图8为全封闭扩展式磁流变抛光装置夹具示意图;
图9为本发明实施例一提供的全封闭扩展式磁流变抛光装置揭除外辊筒后的立体图;
图10为图9的主视图;
图11为图1中励磁装置的立体图;
图12为图11的另一视角示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明,本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
另外,在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接,还可以是物理连接或无线通信连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
另外,本发明各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。
本发明提出一种全封闭扩展式磁流变抛光装置。
实施例一
请参照图1至图3,本发明提供一种全封闭扩展式磁流变抛光装置,包括扩展式的励磁装置(位于抛光轮内部,参见图9、图10),抛光轮,支撑架,驱动装置、传动装置;
支撑架,用于为以下各组成部件提供支撑;本为减轻重量,本实施例中采用支架结构;
驱动装置,安装在所述支撑架上,用于提供驱动力矩;本实施例中采用电机20(参见图3);
传动装置,安装在所述支撑架上;输入端连接(传动连接,随驱动装置一起转动)所述驱动装置,输出端连接(传动连接)抛光轮,用于在所述驱动装置的作用下带动所述抛光轮转动;
所述抛光轮,参见图6、图7,包括主轴和随所述主轴转动的封闭轮;所述主轴与所述传动装置传动连接,且所述主轴安装在所述支撑架上并与所述支撑架转动连接(主轴能相对所述支撑件转动);
励磁装置,参见图11、图12,水平方向上排列有至少两个磁极组A,相邻两磁极组之间通过导磁片28连接;所述磁极组包括两片在水平方向上叠加的永磁体磁极26和位于两所述永磁体磁极26之间的连接柱27,所述永磁体磁极的一端与所述连接柱通过连接件固定在一起;所述连接柱竖直方向下端位于两片所述永磁体磁极内,并与两片所述永磁体磁极共同围设成一个底部开口的空腔;
参见图12,所述永磁体磁极26远连接件的一端在宽度方向上呈圆弧形并与所述封闭轮的内缘侧面相适配,所述永磁体磁极竖直方向下端近空腔侧自上而下呈14.5~15.5度倾斜,并形成倾斜边沿;所述倾斜边沿的长度在34~36mm之间,所述倾斜边沿形成所述空腔的开口间隙为8.5~9.5mm;所述永磁体磁极的宽度在145~150mm之间;圆弧形部位与封闭轮的轮缘处之间形成梯度磁场;
所述导磁片底端与相邻两所述磁极组的永磁体磁极的倾斜边沿共同围设呈过渡弧面;该处与封闭轮的轮缘之间也会形成梯度磁场;每条梯度磁场处在使用过程中有磁流变液流经时都会形成柔性抛光带,本装置可以沿着封闭轮的轴向形成多条柔性抛光带,从而提高加工效率,降低损伤;
所述励磁装置位于所述封闭轮内,且所述励磁装置的水平方向沿所述封闭轮的轴向设置,所述励磁装置通过贯穿所述封闭轮中心的支架安装在所述支撑架上。
所述导磁片的厚度在9.5~10.5mm之间,所述永磁体磁极的高度与抛光轮环形空间的径向尺寸相匹配;所述连接柱的厚度在26~28mm之间;所述连接柱的高度为永磁体磁极高度的1/3;所述连接柱的宽度、导磁片的宽度均与永磁体磁极一致;所述连接件为不导磁材料。
整个装置较为简单,可移动张紧轮的应用,使得整个装置的传动较为平稳,且精度较高;封闭式的设计,使得抛光轮内部不易被灰尘和其他杂质污染,尽可能保证了励磁装置磁性不会降低;磁场的形状和强度,有利于封闭轮表面形成多条“柔性抛光缎带”,大大增加了抛光效率;整个磁流变装置,绝大部分材料为不锈钢,便于清洁和维护,同时由于不锈钢材料不导磁的特性,也大大增加了整个装置运行的平稳;整个装置工作时产热较少,不需要额外的额降温装置;抛光轮和其他部分,采用螺钉连接,便于拆卸和更换。
优选地,为了简化抛光轮的机构以及励磁装置的安装过程,所述封闭轮包括:
外辊筒9,呈圆柱形;
第一圆盘8,位于所述外辊筒一端的开口上,并与所述外辊筒固定连接;背离所述外辊筒的一面沿中心轴的轴向悬伸有第一轴套100,所述第一轴套100的中心孔贯穿所述第一圆盘8;
第二圆盘10,位于所述外辊筒9另一端的开口上,与所述外辊筒9固定连接;背离所述外辊筒的一面沿中心轴的轴向悬伸有第二轴套200,所述第二轴套200的中心孔贯穿所述第二圆盘10;封闭轮内部形成圆柱形空间,励磁装置被封装于该圆柱形空间内;避免外界污染和吸附杂质;
所述第一轴套100和第二轴套200形成所述抛光轮的主轴;在传动装置的作用下带动主轴、进而带动抛光轮转动;
所述支架包括:
支撑轴5,贯穿于所述第一轴套100、第二轴套200及外辊筒9内部,其中位于外辊筒9内部的部分上安装所述励磁装置;
第一支架4,一端与所述支撑架13连接,另一端与所述支撑轴5一端连接;
第二支架12,一端与所述支撑架13连接,另一端与所述支撑轴5另一端连接。
励磁装置通过支撑轴5安装于封闭轮内,支撑轴5通过第一支架4和第二支架12安装在支撑架13上,两端支撑,受力平衡,有利于平稳运行。
优选地,为进一步提高受力平衡,所述支撑架13还包括:
第三支架23,一端与所述支撑架13连接,另一端设置有第一轴承座7;所述第一圆盘8的第一轴套100通过轴承安装在所述第一轴承座7上;
第四支架24,一端与所述支撑架连接,另一端设置有第二轴承座11;所述第二圆盘10的第二轴套200通过轴承安装在所述第二轴承座11上。
抛光轮的两端分别通过第三支架23和第四支架24支撑在支撑架13上,一方面提供受力支撑,另一方面起到轴向定位作用,防止抛光轮在转动过程中发生轴向蹿动。
优选地,为了增加传动的平稳性,所述传动装置包括带传动机构,包括:
主动轴2,安装在所述支撑架13上,并与所述支撑架13转动连接;一端通过联轴器21与电机20传动连接;也可以采用一体式设计,与电机20输出轴一体;
主动轮1,穿设于所述主动轴2另一端,并与所述主动轴2传动连接;
被动轮6,穿设于所述第一轴套100远离所述第一圆盘8的一端,并与所述第一轴套100传动连接;
皮带3,包绕于所述主动轮1与所述被动轮6的外侧面。
电机20带动主动轴2转动,主动轴2带动主动轮1转动,经皮带3带动被动轮6转动,进而带动第一轴套100转动,从而使得与所述第一轴套100连接为一个整体的抛光轮转动,此时励磁装置部位,当有磁流变液流经外辊筒9的外表面时,与励磁装置之间形成抛光区域,将待加工的工件安装在该区域即可完成抛光。
优选地,所述传动装置还包括张紧机构,所述张紧机构包括:
固定模块17,固定在所述支撑架13上,位于所述主动轮1与被动轮6之间,朝向所述皮带3的一面上设置有调节单元;
张紧轴,一端通过调节单元固定在所述固定模块上;
张紧轮22,安装在所述张紧轴的另一端,并能相对所述张紧轴转动,并在所述调节单元的作用下偏离所述主动轮1中心与所述被动轮6中心的连线以张紧所述皮带3。通过调节单元调整张紧轮22的位置,实现对皮带3的张紧。
优选地,所述调节单元包括:
凹槽,设置在所述固定模块17上,长度方向垂直于所述主动轮1中心与所述被动轮6中心的连线;所述张紧轴能沿着所述凹槽的长度方向移动;本实施例中凹槽方向为竖直方向;
定位装置,用于在所述张紧轴沿着所述凹槽移动到预设位置时固定所述张紧轴与所述凹槽的相对位置。
调整张紧轴在凹槽中的位置,待到预设位置时,通过定位装置固定张紧轴在凹槽中的位置,防止张紧轮在运行过程中在凹槽中移动,导致皮带松动,定位装置可以是安装在固定模块17上连接所述张紧轴的连接件、机械结构或螺栓组件等。
优选地,还包括:
喷嘴15,通过喷嘴固定模块14安装在所述支撑架13上,用于向所述抛光轮喷射磁流变液,出口朝向所述外辊筒9;
回收装置16,在所述抛光轮的转动方向上位于所述喷嘴15后方,用于回收磁流变液。
优选地,所述回收装置16包括:
回收箱300,一端通过连接管道固定在所述支撑架13上,另一端开口朝向所述外辊筒9,所述开口端呈封闭状,在所述外辊筒9的转动方向上所述开口端的前侧与所述外辊筒贴合,所述开口端的后侧与所述外辊筒之间具有回流间隙400。磁流变液能够顺利的经过回流间隙(受到前侧的阻止)进入回收箱300内部,经连接管道回收;
优选地,为均匀的提高磁流变液的喷射量,所述喷嘴15包括一组喷管,所述喷管沿所述外辊筒的轴向排列,所述喷管的出口方向沿所述外辊筒的径向。
喷嘴15安装在喷嘴固定模块14上,并通过螺钉或者旋钮等装置固定在合适位置,喷嘴固定模块14固定于上部支撑架13上,可根据抛光缎带条数,增减喷嘴15数量,喷嘴15之间为并联状态。回收装置16安装在回收器固定模块18上,并通过螺钉或者旋钮等装置,固定在合适位置,回收器固定模块18固定与上部支撑架13上,抛光时,可根据“柔性抛光缎带”的数量,增减回收器16的数量,回收器16之间为并联状态。为了简化装置结构,也可采用大口径、高真空度的回收器16对多条抛光缎带上的磁流变液进行回收。
在实际抛光,将待抛光光学元件通过夹具25固定于抛光轮主体底端、工作台之上,伺服电机20启动,通过第一传动皮带轮1、第二传动皮带轮6、张紧轮22、传动皮带3,将伺服电机20产生的动力传导至抛光部分,带动抛光轮主体旋转。通过多个喷嘴15将磁流变液输送至抛光轮主体表面,在扩展式励磁装置的作用下形成多个“柔性抛光带”,在抛光轮最底端,“柔性抛光缎带”与工件表面接触,工件表面材料在剪切力的作用下得到去除。而后,被去除的抛光材料与磁流变液一同随着抛光轮旋转至回收器16处进行回收。抛光轮可进行五轴联动,根据工件表面实际情况进行加工。抛光完成后,对剩余磁流变液进行回收,清洁抛光轮主体表面,关闭机床,整个加工过程完毕。
本实施例提供的封闭扩展式磁流变抛光装置,在实现光学元件表面高精度加工的同时,能够尽可能的减少元件表面和亚表面损伤的引入,扩展式励磁装置的应用,增加了“柔性抛光缎带”的数量,提高了抛光效率。采用永磁体型励磁装置,简化了装置的结构,同时抛光部分的设计,使其便于安装和更换。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,包括:
支撑架,用于为各组成部件提供支撑;
驱动装置,安装在所述支撑架上,用于提供驱动力矩;
传动装置,安装在所述支撑架上;输入端连接所述驱动装置,输出端连接抛光轮,用于在所述驱动装置的作用下带动所述抛光轮转动;
所述抛光轮,包括主轴和随所述主轴转动的封闭轮;所述主轴与所述传动装置连接,且安装在所述支撑架上并与所述支撑架转动连接;
励磁装置,水平方向上排列有至少两个磁极组,相邻两磁极组之间通过导磁片连接;所述磁极组包括两片在水平方向上叠加的永磁体磁极和位于两所述永磁体磁极之间的连接柱,所述永磁体磁极的一端与所述连接柱通过连接件固定在一起;所述连接柱竖直方向下端位于两片所述永磁体磁极内,并与两片所述永磁体磁极共同围设成一个底部开口的空腔;
所述永磁体磁极竖直方向下端在宽度方向上呈圆弧形并与所述封闭轮的内缘侧面相适配,所述永磁体磁极竖直方向下端近空腔侧自上而下呈14.5~15.5度倾斜,并形成倾斜边沿;所述倾斜边沿的长度在34~36mm之间,所述倾斜边沿形成所述空腔的开口间隙为8.5~9.5mm;所述永磁体磁极的宽度在145~150mm之间;
所述导磁片底端与相邻两所述磁极组的永磁体磁极的倾斜边沿共同围设呈过渡弧面;
所述励磁装置位于所述封闭轮内,且所述励磁装置的水平方向沿所述封闭轮的轴向设置,所述励磁装置通过贯穿所述封闭轮中心的支撑轴安装在所述支撑架上。
2.如权利要求1所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,所述封闭轮包括:
外辊筒,呈圆柱形;
第一圆盘,位于所述外辊筒一端的开口上,并与所述外辊筒固定连接;背离所述外辊筒的一面沿中心轴的轴向悬伸有第一轴套,所述第一轴套的中心孔贯穿所述第一圆盘;
第二圆盘,位于所述外辊筒另一端的开口上,与所述外辊筒固定连接;背离所述外辊筒的一面沿中心轴的轴向悬伸有第二轴套,所述第二轴套的中心孔贯穿所述第二圆盘;
所述第一轴套和第二轴套形成所述抛光轮的主轴;
所述支撑架包括:
支撑轴,贯穿于所述第一轴套、第二轴套及外辊筒内部,其中位于外辊筒内部的部分上安装所述励磁装置;
第一支架,一端与所述支撑架连接,另一端与所述支撑轴一端连接;
第二支架,一端与所述支撑架连接,另一端与所述支撑轴另一端连接。
3.如权利要求2所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,所述支撑架还包括:
第三支架,一端与所述支撑架连接,另一端设置有第一轴承座;所述第一圆盘的轴套通过轴承安装在所述第一轴承座上;
第四支架,一端与所述支撑架连接,另一端设置有第二轴承座;所述第二圆盘的轴套通过轴承安装在所述第二轴承座上。
4.如权利要求2所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,所述传动装置包括带传动机构,包括:
主动轴,安装在所述支撑架上,并与所述支撑架转动连接;一端与所述驱动装置传动连接;
主动轮,穿设于所述主动轴另一端,并与所述主动轴传动连接;
被动轮,穿设于所述第一轴套远离所述第一圆盘的一端,并与所述第一轴套传动连接;
皮带,包绕于所述主动轮与所述被动轮的外侧面。
5.如权利要求4所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,所述传动装置还包括张紧机构,所述张紧机构包括:
固定模块,固定在所述支撑架上,位于所述主动轮与被动轮之间,靠近所述皮带的一面上设置有调节单元;
张紧轴,一端通过调节单元固定在所述固定模块上;
张紧轮,安装在所述张紧轴的另一端,并能相对所述张紧轴转动,并在所述调节单元的作用下偏离所述主动轮中心与所述被动轮中心的连线以张紧所述皮带。
6.如权利要求5所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,所述调节单元包括:
凹槽,设置在所述固定模块上,长度方向垂直于所述主动轮中心与所述被动轮中心的连线;所述张紧轴能沿着所述凹槽的长度方向移动;
定位装置,用于在所述张紧轴沿着所述凹槽移动到预设位置时固定所述张紧轴与所述凹槽的相对位置。
7.如权利要求2所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,还包括:
喷嘴,通过喷嘴固定模块安装在所述支撑架上,用于向所述抛光轮喷射磁流变液,出口朝向所述外辊筒;
回收装置,在所述抛光轮的转动方向上位于所述喷嘴后方,用于回收磁流变液。
8.如权利要求7所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,所述回收装置包括:
回收箱,一端通过连接管道固定在所述支撑架上,另一端开口朝向所述外辊筒,所述开口端呈封闭状,在所述外辊筒的转动方向上所述开口端的前侧与所述外辊筒贴合,所述开口端的后侧与所述外辊筒之间具有回流间隙。
9.如权利要求7所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,所述喷嘴包括一组喷管,所述喷管沿所述外辊筒的轴向排列,所述喷管的出口方向沿所述外辊筒的径向。
10.如权利要求1~9任一项所述的全封闭扩展式磁流变抛光设备,其特征在于,所述导磁片的水平方向厚度在9.5~10.5mm之间,所述永磁体磁极的高度与抛光轮环形空间的径向尺寸相匹配;所述连接柱的厚度在26~28mm之间;所述连接柱的高度为永磁体磁极高度的1/3;所述连接柱的宽度、导磁片的宽度均与永磁体磁极一致;所述连接件为不导磁材料。
CN201811562419.0A 2018-12-20 2018-12-20 一种全封闭扩展式磁流变抛光设备 Active CN109396969B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811562419.0A CN109396969B (zh) 2018-12-20 2018-12-20 一种全封闭扩展式磁流变抛光设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811562419.0A CN109396969B (zh) 2018-12-20 2018-12-20 一种全封闭扩展式磁流变抛光设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109396969A CN109396969A (zh) 2019-03-01
CN109396969B true CN109396969B (zh) 2019-11-15

Family

ID=65460272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811562419.0A Active CN109396969B (zh) 2018-12-20 2018-12-20 一种全封闭扩展式磁流变抛光设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109396969B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114571293B (zh) * 2022-05-09 2022-07-29 江苏克莱德激光技术有限责任公司 一种用于金属表面处理的磁流变抛光装置及其使用方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5839944A (en) * 1995-10-16 1998-11-24 Byelocorp, Inc. Apparatus deterministic magnetorheological finishing of workpieces
CN101249626A (zh) * 2008-03-25 2008-08-27 中国人民解放军国防科学技术大学 用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置
CN201320720Y (zh) * 2008-12-22 2009-10-07 西安工业大学 一种环带旋转式磁流变抛光头
CN103465171A (zh) * 2013-09-18 2013-12-25 中国科学院上海光学精密机械研究所 磁流变液回收管
CN107225441A (zh) * 2017-07-23 2017-10-03 张广 一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置
CN108527014A (zh) * 2018-06-05 2018-09-14 辽宁科技大学 一种非接触式磁力传动磁粒研磨装置及使用方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59182053A (ja) * 1983-03-30 1984-10-16 Comput Basic Mach Technol Res Assoc 磁気ヘツド研削加工装置
US5951369A (en) * 1999-01-06 1999-09-14 Qed Technologies, Inc. System for magnetorheological finishing of substrates

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5839944A (en) * 1995-10-16 1998-11-24 Byelocorp, Inc. Apparatus deterministic magnetorheological finishing of workpieces
CN101249626A (zh) * 2008-03-25 2008-08-27 中国人民解放军国防科学技术大学 用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置
CN201320720Y (zh) * 2008-12-22 2009-10-07 西安工业大学 一种环带旋转式磁流变抛光头
CN103465171A (zh) * 2013-09-18 2013-12-25 中国科学院上海光学精密机械研究所 磁流变液回收管
CN107225441A (zh) * 2017-07-23 2017-10-03 张广 一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置
CN108527014A (zh) * 2018-06-05 2018-09-14 辽宁科技大学 一种非接触式磁力传动磁粒研磨装置及使用方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN109396969A (zh) 2019-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105904333B (zh) 一种集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置及方法
CN105945691B (zh) 面向型面精度一致性的砂带磨削装置
CN207616256U (zh) 磁流变抛光装置
CN109396968A (zh) 一种半封闭扩展式磁流变抛光装置
CN108406459B (zh) 钢管内外一体自动研磨系统
CN100586656C (zh) 用于高陡度光学零件的磁流变抛光装置
CN102975124B (zh) 异形喷头旋转式磁射流抛光装置
CN109396969B (zh) 一种全封闭扩展式磁流变抛光设备
CN107855900A (zh) 一种两工位聚晶金刚石复合片类抛光机
CN105215831A (zh) 不锈钢管外径抛光装置
CN111469043A (zh) 一种涡扇发动机4支点轴承密封内端面研磨机及其操作方法
CN219170606U (zh) 一种表面喷砂装置
CN103817595A (zh) 一种用于双面精密磨削、研磨组合机床的上盘装置
CN107414608A (zh) 一种回转式光纤预制棒磁流变抛光机及其抛光方法
CN102990481A (zh) 一种双面磁流变抛光装置及方法
CN108942700A (zh) 一种液压缸磨粒流加工用夹具
CN108789161A (zh) 一种高精度万能外圆磨床及冷却系统
CN207669054U (zh) 一种两工位聚晶金刚石复合片类抛光机
CN204235311U (zh) 一种便捷浮动夹头
CN109227295A (zh) 电动汽车后桥用法兰打磨装置、打磨方法及后处理方法
CN107900790A (zh) 光纤预制芯棒磁流变抛光机
CN205817564U (zh) 一种集群动态磁场控制抛光垫刚度的双面抛光装置
CN205166560U (zh) 曲轴研磨机
CN208276656U (zh) 一种柱面镜圆弧面的抛光装置
CN206344006U (zh) 一种新型活塞杆镀前抛光装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant