CN109311173B - 一种搬运装置的回旋流形成体和吸引装置 - Google Patents

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Abstract

回旋流形成体(3)具备：主体(31)；第1端面(33)，其形成于主体(31)，且与被吸引物对置；孔(32)，其在第1端面(33)开口；喷出口(35)，其形成于主体(31)的面对孔(32)的内周面(311)上；以及流体通路(37)，其使流体从喷出口(35)喷出到孔(32)内而形成回旋流，由此产生负压来吸引被吸引物，内周面(311)形成为将从喷出口(35)喷出的流体向远离被吸引物的方向引导而使该流体从孔(32)排出。

Description

一种搬运装置的回旋流形成体和吸引装置
技术领域
本发明涉及通过形成回旋流而产生负压来吸引部件的回旋流形成体。
背景技术
近年，用于非接触地搬送半导体晶片或玻璃基板等板状部件的装置被利用。例如，在专利文献1中，记载了利用伯努利效应来非接触地搬送板状部件的装置。关于该装置，使在装置下表面开口的圆筒室内产生回旋流而利用回旋流中心部的负压吸引板状部件，另一方面，借助从该圆筒室流出的流体在该装置与板状部件之间保持一定的距离，由此能够非接触地搬送板状部件。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-51260号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的目的在于提供一种回旋流形成体，其使流体从喷出口喷射到孔内而形成回旋流，由此产生负压来吸引被吸引物，其中，与将从喷出口喷出的流体向被吸引物的方向引导的情况相比，能够更加稳定地吸引被吸引物。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本发明提供回旋流形成体，其特征在于，所述回旋流形成体具备：主体；第1端面，其形成于所述主体，且与被吸引物对置；孔，其在所述第1 端面开口；喷出口，其形成于所述主体的面对所述孔的内周面上；以及第1流体通路，其使流体从所述喷出口喷出到所述孔内而形成回旋流，由此产生负压来吸引所述被吸引物，所述内周面形成为：将从所述喷出口喷出的流体向远离所述被吸引物的方向引导而使该流体从所述孔排出。
在优选的方式中，所述内周面的至少一部分形成为：所述孔的截面积随着远离所述被吸引物而扩大。
在更加优选的方式中，所述孔是在所述第1端面开口且在与所述第1端面相反侧的第2端面也开口的贯通孔，所述内周面形成为：将从所述喷出口喷出的流体引导至所述第2端面的开口。
在更加优选的方式中，所述内周面形成为：从所述第1端面的开口到所述第2 端面的开口，所述孔的截面积随着远离所述被吸引物而逐渐扩大。
在更加优选的方式中，所述第2端面的开口的缘部被进行了倒角。
在更加优选的方式中，所述回旋流形成体还具备：板体；和保持部件，其将所述板体保持成与所述第2端面对置，并且在所述第2端面与所述板体之间形成用于供从所述孔流出的流体流动的流路。
在更加优选的方式中，所述保持部件将所述板体保持成能够在所述贯通孔的贯通方向上摆动。
在另一优选的方式中，所述回旋流形成体还具备：流出口，其形成于所述内周面的比所述喷出口远离所述被吸引物的位置；排出口，其形成于所述主体的外侧面；以及第2流体通路，其将流入所述流出口中的流体从所述排出口排出，所述内周面形成为：将从所述喷出口喷出的流体引导至所述流出口。
在再一个优选的方式中，所述第1流体通路形成为：使从所述喷出口喷出的流体向远离所述被吸引物的方向流动。
另外，本发明提供回旋流形成体，其特征在于，所述回旋流形成体具备：主体；第1端面，其形成于所述主体，且与被吸引物对置；孔，其在所述第1端面开口；喷出口，其形成于所述主体的面对所述孔的内周面上；以及第1流体通路，其使流体从所述喷出口喷出到所述孔内而形成回旋流，由此产生负压来吸引所述被吸引物，所述第1流体通路形成为：使从所述喷出口喷出的流体向远离所述被吸引物的方向流动并从所述孔排出。
另外，本发明提供吸引装置，所述吸引装置具备：基体；和1个以上的上述的任意一项记载的回旋流形成体，它们被设置于所述基体。
发明的效果
根据本发明，能够提供如下的回旋流形成体，其使流体从喷出口喷射到孔内而形成回旋流，由此产生负压来吸引被吸引物，其中，与将从喷出口喷出的流体向被吸引物的方向引导的情况相比，能够更加稳定地吸引被吸引物。
附图说明
图1是示出吸引装置1的上表面的一例的立体图。
图2是示出吸引装置1的下表面的一例的立体图。
图3是沿图1中的I-I线的剖视图。
图4是示出回旋流形成体3的下表面的一例的立体图。
图5是示出回旋流形成体3的上表面的一例的立体图。
图6是沿图5中的II-II线的剖视图。
图7是示出回旋流形成体3A的一例的纵剖视图。
图8是示出回旋流形成体3B的一例的纵剖视图。
图9是示出回旋流形成体3C的一例的纵剖视图。
图10是示出回旋流形成体3D的一例的纵剖视图。
图11是示出回旋流形成体3E的一例的纵剖视图。
图12是示出回旋流形成体3F的一例的纵剖视图。
图13是示出回旋流形成体3G的上表面的一例的立体图。
图14是沿图13中的III-III线的剖视图。
图15是示出回旋流形成体3H的上表面的一例的立体图。
图16是示出回旋流形成体3I的一例的纵剖视图。
图17是示出回旋流形成体3J的上表面的一例的立体图。
图18是示出回旋流形成体3K的一例的纵剖视图。
图19是示出吸引装置1A的一例的立体图。
图20是示出吸引装置1B的一例的立体图。
图21是示出吸引装置1B的一例的俯视图。
图22是沿图21中的IV-IV线的剖视图。
图23是示出吸引装置1C的上表面的一例的立体图。
图24是示出吸引装置1D的一例的纵剖视图。
图25是示出吸引装置1E的上表面的一例的立体图。
图26是示出吸引装置1E的下表面的一例的立体图。
图27是示出吸引装置1F的下表面的一例的立体图。
图28是示出吸引装置1G的上表面的一例的立体图。
图29是示出吸引装置1G的下表面的一例的立体图。
图30是示出吸引装置1H的一例的立体图。
图31是示出吸引装置1I的一例的立体图。
图32是示出安装有挡板8的回旋流形成体3G的一例的立体图。
标号说明
1、1A、1B、1C、1D、1E、1F、1G、1H、1I：吸引装置；2、2A、2B、2C、2D、2E、2F、2G、2H：基体板；3、3A、3B、3C、3D、3E、3F、3G、3H、3I、3J、3K：回旋流形成体；4：流体接头；6、6A：基体；7、7A：罩；8：挡板；9：引导轴；21：贯通孔；22：贯通孔；23：贯通孔；24：贯通孔；25：贯通孔；26：贯通孔；31：主体； 32：贯通孔；33：第1端面；34：第2端面；35：喷出口；36：供给口；37、37A：流体通路；38、38A：罩；39、39A：隔离件；51：流出口；52：排出口；53：流体通路；54：排出流量调整盖；55：排出流量调整阀；61：内周面；62：外周面；63：缘端面；81：缝隙；311：内周面；312：外周面；313：倾斜面；314：曲面；315：内周面；316：内周面；381：槽。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。
1.实施方式
图1是示出本发明的一个实施方式的吸引装置1的上表面的一例的立体图。图2 是示出吸引装置1的下表面的一例的立体图。图3是沿图1中的I-I线的剖视图。吸引装置1是用于对食材等板状的部件吸引保持着进行搬送的装置。该吸引装置1具有：基体板2，其是圆板状的基体；6个回旋流形成体3，它们设置于基体板2，形成流体的回旋流；以及多个流体接头4，它们将从未图示的流体供给泵延伸的管连接于回旋流形成体3。
在基体板2上，沿着其外周等间隔地形成有6个截面为大致圆形的贯通孔，在各贯通孔中嵌入有回旋流形成体3。此时，回旋流形成体3以下述方式嵌入贯通孔中：主体31在基体板2的上表面侧露出，罩38在基体板2的下表面侧露出。回旋流形成体3以所形成的回旋流为顺时针和逆时针而互不相同的方式配置于基体板2。并且，在此，具体来说，流体是指压缩空气等气体、纯水或碳酸水等液体。
图4是示出回旋流形成体3的下表面的一例的立体图。图5是示出回旋流形成体 3的上表面的一例的立体图。图6是沿图5中的II-II线的剖视图。回旋流形成体3 是利用伯努利效应来吸引保持板状部件的装置。该回旋流形成体3具有：主体31，其是大致环状的板体，在中央具有截面为圆形的贯通孔32；平坦状的第1端面33，其形成于主体31的下表面，与作为被吸引物的板状部件对置；平坦状的第2端面34，其形成于主体31的上表面；2个喷出口35，它们形成于主体31的面对贯通孔32的内周面311上；2个供给口36，它们形成于主体31的外周面312上；2个直线状的流体通路37，它们将喷出口35和供给口36连通；大致圆板状的罩38；以及作为保持部件的4个隔离件39，它们将罩38固定地保持为与第2端面34大致平行地对置。
与主体31的中心轴大致垂直的截面的外周具有将外周的对置的一部分分别切成直线状而成的圆的形状。主体31的内周面311形成为：将从喷出口35喷出的流体向远离被吸引物的方向引导并使其从贯通孔32排出。更具体来说，形成为：向第2端面34的开口引导并使其从贯通孔32排出。进一步具体来说，形成为：内周面311 的、与主体31中心轴大致垂直的截面的面积从第1端面33的开口至第2端面34的开口逐渐扩径。即，形成为锥状。
贯通孔32以在主体31的中心轴方向上呈直线状延伸的方式形成。贯通孔32在第1端面33开口，并且在第2端面34开口。
第1端面33和第2端面34形成为与主体31的中心轴大致垂直。
2个喷出口35在内周面311上形成于主体31的中心轴方向中央。另外，形成为关于主体31的中心轴点对称。2个供给口36在外周面312上形成于主体31的中心轴方向中央。另外，形成为关于主体31的中心轴点对称。另外，2个供给口36分别与流体接头4连接。
2个流体通路37形成为相对于主体31的内周在切线方向上延伸。另外，形成为互相大致平行地延伸。另外，形成为与主体31的中心轴大致垂直地延伸。另外，分别形成为在喷出口35的近前缩径。2个流体通路37使流体从喷出口35喷出到贯通孔32内。喷出到贯通孔32内的流体由于附壁效应而沿着主体31的内周面流动，在贯通孔32内形成回旋流。构成所形成的回旋流的流体分子中的大部分相对于供给该流体分子的流体通路37所延伸的方向，以大约45度的角度从贯通孔32沿着第2端面34流出。在贯通孔32内形成的回旋流将贯通孔32的中央部的静止流体卷入(夹带)，由此在贯通孔32的中央部产生负压。借助该负压，与第1端面33对置的板状部件被吸引。并且，流体分子从贯通孔32沿着第2端面34流出的角度由贯通孔32 的直径、深度和流体的流速决定，上述的大约45度的角度只是一例。
罩38具有与大致垂直于主体31的中心轴的截面的外周相同的形状。罩38覆盖贯通孔32，对外部流体(具体来说为气体或液体)向贯通孔32的流入进行限制。
4个隔离件39分别具有圆柱的形状。4个隔离件39沿着第2端面34的外周等间隔地安装。此时，4个隔离件39被安装成从第2端面34朝向罩38大致垂直地延伸，从而将主体31和罩38连结在一起。各隔离件39相对于主体31和罩38例如通过螺钉紧固而被固定。4个隔离件39在第2端面34与罩38之间形成用于供从贯通孔32 流出的流体流动的流路。通过了该流路后的流体流出到回旋流形成体3的外部。4个隔离件39的高度(换言之，为第2端面34与罩38之间的间隙)根据从流体供给泵对回旋流形成体3供给的流体的流量来设定。优选的是，4个隔离件39在第2端面 34上被安装于不对从贯通孔32流出的流体的流路产生阻碍的位置处。这是为了防止从贯通孔32流出的流体与隔离件39碰撞而产生紊流。虽然从贯通孔32流出的流体的流路由贯通孔32的直径、深度和流体的流速决定，但优选的是，4个隔离件39例如不安装于与流体通路37所延伸的方向成大致45度的角度的线上。
当经由流体接头4对以上说明的吸引装置1的回旋流形成体3供给流体时，所供给的流体通过供给口36和流体通路37从喷出口35喷出到贯通孔32内。喷出到贯通孔32内的流体在贯通孔32内被整流为回旋流。并且，构成回旋流的流体分子的大部分被内周面311引导而从贯通孔32沿着第2端面34流出。此时，在与第1端面33 对置地存在板状部件的情况下，在外部流体(具体来说，为气体或液体)朝向贯通孔 32的流入被限制的状态下，由于回旋流的离心力和卷入，使得回旋流的中心部的每单位体积的流体分子密度变小。即，在回旋流的中心部产生负压。其结果是，板状部件被周围的流体按压而被向第1端面33侧吸引。
这样，在吸引装置1的回旋流形成体3中，从贯通孔32流出的流体分子的大部分沿着第2端面34流出，因此，沿着第1端面33流出的流体分子的量即使存在也非常少。因此，与不使流体从第2端面34侧流出的情况相比较，下述现象得到了抑制：沿着第1端面33流出的流体和板状部件碰撞而导致板状部件振动或旋转。其结果是，实现了板状部件的更稳定的吸引、保持和搬送。另外，因振动(晃动)而引起的板状部件的皱褶的产生、以及变形或缺损的发生得到了抑制。即，吸引装置1能够仅将在回旋流形成体3内形成的回旋流的吸引力分离出来进行利用。
2.变形例
上述的实施方式可以如下述这样变形。下述的变形例也可以互相组合。
2-1.变形例1
回旋流形成体3的内周面311的形状不限于图6所示的例子。图7是示出对第2 端面34的开口的缘部进行了倒斜角的回旋流形成体3A的一例的纵剖视图。在该回旋流形成体3A中，对第2端面34的开口的缘部实施倒斜角而在内周面311的端部形成有倾斜面313。该倾斜面313将从喷出口35喷出的流体向远离被吸引物的方向(更具体来说，向第2端面34的开口)引导。
图8是示出对第2端面34的开口的缘部进行了倒圆弧角的回旋流形成体3B的一例的纵剖视图。在该回旋流形成体3B中，对第2端面34的开口的缘部实施倒圆弧角而在内周面311的端部形成有曲面314。该曲面314将从喷出口35喷出的流体向远离被吸引物的方向(更具体来说，向第2端面34的开口)引导。
图9是示出使内周面311的一部分形成为非锥形状的回旋流形成体3C的一例的纵剖视图。在该回旋流形成体3C中，从喷出口35与第2端面34的开口之间的中部到第2端面34的开口形成有非锥形状的内周面315。内周面315形成为与主体31的中心轴大致平行。
图10是示出如下的回旋流形成体3D的一例的纵剖视图：具有非锥形状的内周面316来代替锥形状的内周面311，并对第2端面34的开口的缘部进行了倒斜角。该回旋流形成体3D所具有的内周面316形成为与主体31的中心轴大致平行。对第2端面 34的开口的缘部实施倒斜角而在内周面316的端部形成有倾斜面313。该倾斜面313 的作用如上所述。
图11是示出如下的回旋流形成体3E的一例的纵剖视图：具有非锥形状的内周面316来代替锥形状的内周面311，并对第2端面34的开口的缘部进行了倒圆弧角。该回旋流形成体3E所具有的内周面316形成为与主体31的中心轴大致平行。对第2 端面34的开口的缘部实施倒圆弧角而在内周面316的端部形成有曲面314。该曲面 314的作用如上所述。
2-2.变形例2
流体通路37也可以形成为相对于与主体31的中心轴大致垂直的方向倾斜。图 12是示出如下的回旋流形成体3F的一例的纵剖视图：具有非锥形状的内周面316来代替锥形状的内周面311，且具有流体通路37A，该流体通路37A形成为相对于与主体31的中心轴大致垂直的方向倾斜。该回旋流形成体3F所具有的内周面316形成为与主体31的中心轴大致平行。流体通路37A以从供给口36到喷出口35向第2端面 34侧倾斜地延伸的方式形成。其结果是，流体通路37A使从喷出口35喷出的流体向远离被吸引物的方向(更具体来说，向第2端面34的开口)流动，并从贯通孔32 排出。并且，在该回旋流形成体3F中，也可以利用锥形状的内周面311来代替内周面316。另外，也可以是：对第2端面34的开口的缘部倒斜角而形成倾斜面313，或者对第2端面34的开口的缘部倒圆弧角而形成曲面314。
2-3.变形例3
也可以省略隔离件39，取而代之地在罩38的下表面形成用于将流体排出的槽。图13是示出如下的回旋流形成体3G的上表面的一例的立体图：省略了隔离件39，且具有罩38A，该罩38A在下表面形成有槽381。图14是沿图13中的III-III线的剖视图。回旋流形成体3G所具有的罩38A在下述方面与上述的罩38不同：在下表面中央形成有直线状且凹型的槽381。槽381形成为：在罩38A被安装于主体31时，该槽381与流体通路37大致平行地延伸。罩38A例如通过螺钉紧固而固定于主体31。在将罩38A固定于主体31时，槽381在其与第2端面34之间形成有：与贯通孔32 连通的2个流出口51；面对回旋流形成体3G的外部的2个排出口52；以及将流入流出口51中的流体从排出口52排出的2个直线状的流体通路53。2个流出口51形成在比喷出口35远离被吸引物的位置处。2个排出口52形成在比供给口36远离被吸引物的位置处。2个流体通路53形成为沿主体31的内周的径向延伸。另外，2个流体通路53形成在一条直线上。另外，2个流体通路53形成为与主体31的中心轴大致垂直地延伸。在该回旋流形成体3G中，主体31的内周面311将从喷出口35喷出的流体引导至流出口51。
也可以在该回旋流形成体3G中安装用于调整从排出口52排出的流体的量的部件。图15是示出在排出口52安装有排出流量调整盖54的回旋流形成体3H的上表面的一例的立体图。排出流量调整盖54是矩形的板体，以能够将排出口52开闭的方式安装于罩38A的周缘部。通过使排出流量调整盖54沿横向滑动来对排出流量调整盖 54覆盖排出口52的面积进行调整，由此能够调整从排出口52排出的流体的量。
图16是示出在流体通路53安装有排出流量调整阀55的回旋流形成体3I的一例的纵剖视图。排出流量调整阀55是矩形的板体，以能够将流体通路53开闭的方式安装于该通路上。通过调整排出流量调整阀55的开度，由此能够调整从排出口52排出的流体的量。
并且，流出口51和排出口52的形状不限于矩形。也可以是圆形或椭圆形。流出口51和排出口52的数量不限于2个。可以是1个也可以是3个以上。流体通路53 的截面形状不限于矩形。也可以是圆形或椭圆形。流体通路53的数量不限于2个。可以是1个也可以是3个以上。流体通路53也可以形成为曲线状。流体通路53也可以形成为相对于与主体31的中心轴大致垂直的方向倾斜。具体来说，以从排出口52 到流出口51向第2端面34侧倾斜地延伸的方式形成。
并且，在如本变形例所说明的那样省略隔离件39的情况下，也可以使主体31 和罩38一体地成型。这种情况下，2个流出口51形成于与罩38一体地成型的主体 31A的内周面上，2个排出口52形成于主体31A的外周面上。此时，流出口51和排出口52也可以分别形成于靠近主体31的中心轴方向中央的位置处。贯通孔32的一端成为被罩38封闭的凹部。即使在不是一体成型的情况下，也可以将主体31和罩 38合并起来看成1个主体。即，本发明的“主体”也包括将主体31和罩38组合在一起的情况。
2-4.变形例4
4个隔离件39也可以将罩38保持成能够摆动，而不是固定地进行保持。图17 是示出回旋流形成体3J的上表面的一例的立体图，该回旋流形成体3J具有将罩38 保持成能够摆动的保持部件、即4个引导轴9。该回旋流形成体3J所具有的4个引导轴9具有：头部，其直径比形成于罩38的孔大；和主体部，其直径比上述孔小到能够使罩38摆动的程度。4个引导轴9将罩38保持成能够在贯通孔32的贯通方向上摆动。由于罩38能够摆动，因此，防止了被吸入贯通孔32内的部件堵塞在罩38 与第2端面34之间。
2-5.变形例5
也可以将2个回旋流形成体3组合在一起使用。图18是示出回旋流形成体3K 的一例的纵剖视图，该回旋流形成体3K是以使各自的第2端面34彼此对置的方式将另一个回旋流形成体3重叠在一个回旋流形成体3上而构成的。在该回旋流形成体 3K中，罩38被2个回旋流形成体3共有。另外，2个回旋流形成体3的主体31的中心轴大致一致。根据该回旋流形成体3K，能够同时吸引保持2个板状部件。
图19是示出一体地成型有多个回旋流形成体3的吸引装置1A的一例的立体图。在该吸引装置1A中，5个回旋流形成体3的主体31被一体地成型而构成长方体形状的基体6，5个回旋流形成体3的罩38被一体地成型而构成作为矩形板体的罩7。在基体6中，各贯通孔32配置在一条直线上且配置成等间隔。若设被吸引物为棒状，则各贯通孔32沿着被吸引物的长度方向配置。各流体通路37被配置成与基体6的长度方向大致垂直地延伸。根据该吸引装置1A，能够利用在多个贯通孔32内产生的负压来吸引保持1个棒状的部件。例如能够吸引保持自动铅笔的芯或注射针。并且，在图19中，省略了将基体6和罩7连结起来的隔离件39的图示。基体6及罩7的形状、以及贯通孔32的数量及配置不限于图19所示的例子。
图20是示出一体地成型有多个回旋流形成体3的吸引装置1B的一例的立体图。
图21是吸引装置1B的俯视图。图22是沿图21中的IV-IV线的剖视图。在该吸引装置1B中，3个回旋流形成体3的主体31被一体地成型而构成厚壁的大致半球壳体状的基体6A，3个回旋流形成体3的罩38被一体地成型而构成薄壁的大致半球壳体状的罩7A。基体6A具有：大致半球面状的内周面61及外周面62；和环状的缘端面63。内周面61以沿着被吸引物的曲面的方式形成。各贯通孔32在内周面61开口，且在外周面62开口。各贯通孔32沿着内周面61的周缘等间隔地配置。各贯通孔32形成为沿着基体6A的径向呈直线状延伸。各供给口36在缘端面63上开口。罩7A以覆盖外周面62的方式安装于基体6A。并且，在图20至22中，省略了将罩7A和基体6A 连结起来的隔离件39的图示。根据该吸引装置1B，能够利用在多个贯通孔32内产生的负压来吸引保持1个球体部件。并且，基体6A及罩7A的形状、以及贯通孔32 的数量及配置不限于图20至22所示的例子。
2-6.变形例6
也可以在吸引装置1的基体板2上形成贯通孔。图23是示出具有基体板2A的吸引装置1C的上表面的一例的立体图，该基体板2A形成有多个贯通孔21。在该吸引装置1C所具有的基体板2A上，6个贯通孔21以等间隔形成在与回旋流形成体3相同的圆周上。6个贯通孔21与回旋流形成体3互相错开地配置。另外，在基体板2A 上，在直径比配置有回旋流形成体3的圆周小的圆周、且是同心的圆周上，等间隔地形成有6个贯通孔21。并且，贯通孔21的形状、数量以及配置不限于图23所示的例子。
2-7.变形例7
也可以使回旋流形成体3的罩38与基体板2一体化。图24是示出利用基体板2 来代替回旋流形成体3的罩38的吸引装置1D的一例的纵剖视图。在该吸引装置1D 中，回旋流形成体3的4个隔离件39从第2端面34朝向基体板2大致垂直地延伸，将主体31和基体板2连结起来。4个隔离件39在第2端面34与基体板2之间形成用于供从贯通孔32流出的流体流动的流路。并且，在该吸引装置1D的基体板2上，也可以与上述的基体板2A相同地形成有多个贯通孔21。
2-8.变形例8
也可以使回旋流形成体3的第1端面33和第2端面34分别与基体板2一体化。图25是示出吸引装置1E的上表面的一例的立体图，在该吸引装置1E中，利用基体板2B代替各回旋流形成体3的第1端面33，利用基体板2C代替第2端面34。图26 是示出吸引装置1E的下表面的一例的立体图。该吸引装置1E所具有的基体板2B和 2C以各自的中心轴大致一致的方式重合。在基体板2B上，沿着其外周以等间隔形成有20个贯通孔32。另外，在直径比形成有这些贯通孔32的圆周小的圆周、且是同心的圆周上，等间隔地形成有6个贯通孔32。在基体板2C上，以覆盖各贯通孔32 的方式隔着隔离件39安装有罩38。并且，也可以将吸引装置1E的周缘部密封。并且，基体板2B和2C的形状、以及贯通孔32的数量及配置不限于图25和26所示的例子。
2-9.变形例9
也可以使回旋流形成体3的第1端面33和罩38分别与基体板2一体化。图27 是示出吸引装置1F的下表面的一例的立体图，在该吸引装置1F中，利用基体板2B 代替各回旋流形成体3的第1端面33，利用基体板2D代替罩38。吸引装置1F的上表面的一例如上述的图25所示。该吸引装置1F所具有的基体板2B和2D以各自的中心轴大致一致的方式重叠。在基体板2B上，沿着其外周以等间隔形成有20个贯通孔32。另外，在直径比形成有这些贯通孔32的圆周小的圆周、且是同心的圆周上，等间隔地形成有6个贯通孔32。在基体板2D上，为了将流体排出到吸引装置1F外，具有：形成于中央的圆形的贯通孔22；以包围贯通孔22的方式等间隔地形成的6个圆形的贯通孔23；以及以包围6个贯通孔23的方式等间隔地形成的4个圆弧状的贯通孔24。并且，也可以将吸引装置1F的周缘部密封。并且，基体板2B和2D的形状、以及贯通孔22至24的数量及配置不限于图25和27所示的例子。
图28是示出吸引装置1G的上表面的一例的立体图，在该吸引装置1G中，利用基体板2E代替各回旋流形成体3的第1端面33，利用基体板2F代替罩38。图29 是示出吸引装置1G的下表面的一例的立体图。该吸引装置1G所具有的基体板2E和 2F以各自的中心轴大致一致的方式重合。吸引装置1G的周缘部被密封。在基体板2E 上，沿着其外周以等间隔形成有20个贯通孔32。另外，在直径比形成有这些贯通孔 32的圆周小的圆周、且是同心的圆周上，为了将流体排出到吸引装置1G外而形成有 18个贯通孔25。另外，在直径比形成有这些贯通孔25的圆周小的圆周、且是同心的圆周上，等间隔地形成有6个贯通孔32。另外，在直径比形成有这些贯通孔32的圆周小的圆周、且是同心的圆周上，为了将流体排出到吸引装置1G外而形成有18个贯通孔25。在基体板2F上，为了安装流体供给用的部件(未图示)，在中央形成有贯通孔26。在将该部件安装于吸引装置1G时，贯通孔26被密封。在该吸引装置1G中，周缘部被密封，贯通孔26也被密封，因此，从贯通孔32流出的流体从形成于基体板 2E的贯通孔25被排出。并且，贯通孔32的数量及配置不限于图28所示的例子。另外，基体板2E、2F的形状、和贯通孔25、26的形状、数量以及配置不限于图28和 29所示的例子。
2-10.变形例10
基体板2的形状不限于圆形。也可以是椭圆形、矩形或二分支的叉形状(参照日本特开2005-51260号公报)。图30是示出具有矩形的基体板2G的吸引装置1H的一例的立体图。该吸引装置1H具有：长方形的基体板2G；和固定于基体板2G的上表面的3个回旋流形成体3。各回旋流形成体3的罩38的上表面例如通过螺钉紧固而被固定于基体板2G的上表面。另外，各回旋流形成体3在基体板2G上配置在一条直线上且配置成等间隔。若设被吸引物为棒状，则各回旋流形成体3沿着被吸引物的长度方向配置。各流体通路37被配置成与基体板2G的长度方向大致垂直地延伸。根据该吸引装置1H，能够利用在多个贯通孔32内产生的负压来吸引保持1个棒状的部件。例如能够吸引保持自动铅笔的芯或注射针。并且，在图30中，省略了将回旋流形成体3的主体31和罩38连结起来的隔离件39的图示。基体板2G的形状、以及回旋流形成体3的数量和配置不限于图30所示的例子。
图31是示出具有截头六棱锥状的基体板2H的吸引装置1I的一例的立体图，该基体板2H在底面具有截面为六边形的凹部。该吸引装置1I具有：截头六棱锥状的基体板2H，其在底面具有截面为六边形的凹部；和3个回旋流形成体3，它们被固定于基体板2H的内侧面27。各回旋流形成体3的罩38的上表面例如通过螺钉紧固而被固定于基体板2H的内侧面27。另外，各回旋流形成体3在内侧面27上以第1端面 33的开口沿着被吸引物的曲面的方式被固定。另外，各回旋流形成体3在内侧面27 上以等间隔设置。根据该吸引装置1I，能够利用在多个贯通孔32内产生的负压来吸引保持1个球体部件。并且，在图31中，省略了将回旋流形成体3的主体31和罩 38连结起来的隔离件39的图示。基体板2H的形状、以及回旋流形成体3的数量和配置不限于图31所示的例子。
在上述的实施方式中，设置于基体板2的回旋流形成体3的数量不限于6个。可以是不足6个，也可以是7个以上。基体板2上的回旋流形成体3的配置方法不限于图1至3所示的例子。例如，在基体板2上，各回旋流形成体3不需要配置成使所形成的回旋流为顺时针和逆时针而互不相同。
2-11.变形例11
吸引装置1的吸引对象不限于食材。吸引对象例如可以是食品。或者也可以是半导体晶片或玻璃基板等部件。吸引对象的形状不限于板状。只要是能够维持在贯通孔 32内产生的负压的形状即可，例如也可以是球形。在形状为板状以外的形状的情况下，被吸引物的振动和旋转被抑制。关于吸引对象的材料，只要能够维持在贯通孔 32内产生的负压，则也可以具有透气性。
2-12.变形例12
回旋流形成体3的主体31的外周形状不限于圆形。可以是椭圆形或矩形。内周面311上所带的锥不限于线形锥。也可以是抛物线锥或指数函数锥。作为另一例，内周面311也可以以其截面积随着远离被吸引物而扩径的方式呈阶梯状形成。作为再一个例子，也可以在内周面311上形成螺旋状的槽，以将从喷出口喷出的流体引导至第 2端面34的开口。
贯通孔32的截面形状不限于圆形。可以是椭圆形或矩形。
第1端面33和第2端面34也可以不是平坦状。也可以存在凹凸。
喷出口35的数量不限于2个。可以是1个也可以是3个以上。喷出口35在内周面311上的位置不限于主体31的中心轴方向中央。可以靠近第1端面33，也可以靠近第2端面34。
流体通路37的数量不限于2个。可以是1个也可以是3个以上。流体通路37 也可以形成为曲线状。流体通路37的直径也可以不固定。
罩38的形状不限于圆形。可以是椭圆形或矩形。罩38的尺寸可以是能够覆盖贯通孔32的程度。
隔离件39的形状不限于圆柱。也可以是椭圆柱或棱柱。隔离件39的数量不限于 4个。可以是不足4个，也可以是5个以上。隔离件39的配置方法不限于图5和6 所示的例子。例如也可以从主体31的外周面312延伸。也可以在第2端面34上将隔离件39安装于不对从贯通孔32流出的流体的流路产生阻碍的位置处。
2-13.变形例13
也可以在回旋流形成体3的第1端面33上安装用于阻挡被吸引物进入贯通孔32 的挡板(例如参照日本特许5908136号公报)。图32是示出在第1端面33上安装有挡板8的上述的回旋流形成体3G的一例的立体图，其中，该挡板8在中央具有缝隙 81。挡板8具有与上述的罩38A相同的形状。缝隙81形成为：以与形成于罩38A的槽381(省略图示)大致垂直的方式延伸。如果被吸引物为棒状的部件，则缝隙81 的长度方向上的长度被设定得比被吸引物的长度方向上的长度短。或者，如果被吸引物为棒状的部件，则缝隙81的宽度被设定得比被吸引物的宽度小。通过将该挡板8 安装于回旋流形成体3G，由此，能够一根一根地吸引保持细长的棒状部件。例如能够吸引保持自动铅笔的芯或注射针。并且，缝隙81的形状不限于图32所示的例子，可以根据被吸引物的形状来决定。
2-14.变形例14
在回旋流形成体3的第1端面33上安装挡板的情况下，也可以隔着隔离件(例如参照日本特许5908136号公报)来安装。
2-15.变形例15
也可以在回旋流形成体3的第1端面33安装摩擦部件(例如参照日本特开 2005-142462号公报)，所述摩擦部件与被吸引物接触而借助摩擦力抑制被吸引物的振动和旋转。
2-16.变形例16
也可以采用电动风扇(例如参照日本特开2011-138948号公报)作为回旋流形成构件来代替回旋流形成体3的2个流体通路37。
2-17.变形例17
从贯通孔32沿着第2端面34流出的流体的流出方向不限于与主体31的中心轴大致垂直的方向。例如，第2端面34和罩38也可以形成为：使从贯通孔32流出的流体朝向与主体31的中心轴平行的方向(更具体来说，朝向主体31的上方方向)排出。

Claims (7)

1.一种搬送装置的回旋流形成体，
其特征在于，
所述回旋流形成体具备：
主体；
第1端面，其形成于所述主体，且与被搬送物对置；
贯通孔，其在所述第1端面开口，并且也在与所述第1端面相反一侧的第2端面开口；
板体，其被保持成与所述第2端面对置，对外部流体向所述贯通孔的流入进行限制；
流路，其形成在所述第2端面与所述板体之间，用于供从所述贯通孔流出的流体流动；
喷出口，其形成于所述主体的面对所述贯通孔的内周面上；以及
流体通路，其使流体从所述喷出口喷出到所述贯通孔内而形成回旋流，由此产生负压来吸引所述被搬送物，
所述内周面在至少一部分处包含锥状部分，所述锥状部分以所述贯通孔的截面积随着远离所述被搬送物而扩大的方式形成，
所述喷出口被配置于所述锥状部分内。
2.根据权利要求1所述的搬送装置的回旋流形成体，其特征在于，
所述内周面形成为：从所述第1端面的开口到所述第2端面的开口，所述贯通孔的截面积随着远离所述被搬送物而逐渐扩大。
3.根据权利要求1所述的搬送装置的回旋流形成体，其特征在于，
所述第2端面的开口的缘部被进行了倒角。
4.根据权利要求1所述的搬送装置的回旋流形成体，其特征在于，
所述回旋流形成体具备保持部件，所述保持部件将所述板体保持成与所述第2端面对置，并且在所述第2端面与所述板体之间形成所述流路。
5.根据权利要求4所述的搬送装置的回旋流形成体，其特征在于，
所述保持部件将所述板体保持成能够在所述贯通孔的贯通方向上摆动。
6.根据权利要求1所述的搬送装置的回旋流形成体，其特征在于，
所述流体通路形成为：使从所述喷出口喷出的流体向远离所述被搬送物的方向流动。
7.一种吸引装置，其中，
所述装置具备：
基体；和
1个以上的权利要求1至6中的任意一项所述的回旋流形成体，它们被设置于所述基体。
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