CN109298803A - 纳米银触控屏及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于触摸屏技术领域，具体涉及一种纳米银触控屏及其制备方法，包括柔性电路板和基材，所述的基材表面依次设有第一层纳米银导电层、第一层导电银浆层、第一层透明绝缘油墨、第二层纳米银导电层、第二层导电银浆层、第二层透明绝缘油墨层。本发明提供的纳米银触控屏及其制备方法，加工工序简单，进而大幅降低生产成本、提高生产效率，使用了多层阻隔材料进行防护，制作的触摸屏具有更强的环境耐性，具备更长使用寿命。
Description
技术领域
本发明属于触摸屏技术领域，具体涉及一种纳米银触控屏及其制备方法。
背景技术
触摸膜是一种非常适合人机交互的绝对定位系统，能够实现手指的简单动作即可完成显示界面的复杂操作。传统电容屏的基本结构为发射层、粘贴层、接收层、粘贴层和盖板玻璃。但是随着移动终端、可穿戴设备、智能家电、教育黑板等产品的发展，对触摸屏的需求在不断增大，同时对触摸屏的要求也越来越高。大尺寸触摸屏的要求和需求也越来越大。但是传统方式制作电容屏的结构复杂，制作工序繁复。有鉴于此，有必要对现有的触摸屏的制备方法及其触触摸屏的结构予以改进，以解决上述问题。
发明内容
针对上述问题，本发明提供一种跌水冲刷式河道底泥水力中小冲挖清淤装置及其清淤方法，通过控制底部和堰口挡板翻转开启角度、水力跌水冲刷等联合作用，实现低损耗、高效率的河道底泥排干清淤。
具体的技术方案为：
纳米银触控屏，包括柔性电路板和基材，所述的基材表面依次设有第一层纳米银导电层、第一层导电银浆层、第一层透明绝缘油墨、第二层纳米银导电层、第二层导电银浆层、第二层透明绝缘油墨层。
该纳米银触控屏的制备方法，包括以下步骤：
(1)在做好双面硬化或单面硬化的基材表面涂布透明的第一层纳米银导电层；
第一层纳米银导电层涂布厚度在0.5-20μm，涂布完毕后使用隧道炉烤干固化，烘烤温度为50-150℃，最终烘烤干燥后的导电层厚度为20-2000nm；
(2)在纳米银导电层的表面通过丝网印刷的方式印刷第一层导电银浆层；
第一层导电银浆层印刷的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃，最终烘烤干燥后的第一层导电银浆层干膜厚度为1-10μm；
(3)使用激光蚀刻设备将步骤(2)制作的产品进行镭射加工，制作出所需要的触控图元；
激光机的类型为远红外镭射机，激光的频率在10-200Hz，脉宽为10-500ps，速度为1000-100，000mm/s；
(4)在步骤(3)制作好的产品上通过印刷或者涂布的方式制作第一层透明绝缘油墨；
第一层透明绝缘油墨的湿膜厚度为5-20μm，印刷或者涂布完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃；
若使用UV固化油墨则使用UV固化机进行固化，UV固化机的灯照强度为10-8000mj，温度为20-80℃；
最终烘烤干燥后的第一层透明绝缘油墨干膜厚度为1-10μm；
(5)将步骤(4)中制作好的产品再涂布第二层纳米银导电层；
使用狭缝挤涂布、辊涂、线涂或者其他涂布工艺，产品的涂布厚度在0.5-20μm，涂布完毕后使用隧道炉烤干固化，烘烤温度为50-150℃，最终烘烤干燥后的第二层纳米银导电层厚度为20-2000nm；
(6)将步骤(5)中制作好的产品再通过丝网印刷的方式印刷第二层导电银浆层；
第二层导电银浆层印刷的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃，最终烘烤干燥后的第二层导电银浆层干膜厚度为1-10μm；
(7)将步骤(6)中的产品通过丝网印刷的方式印刷第二层透明绝缘油墨层的图案；
第二层透明绝缘油墨层的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃；
若使用UV固化油墨则使用UV固化机进行固化，UV固化机的灯照强度为10-8000mj，温度为20-80℃，最终烘烤干燥后的第二层透明绝缘油墨干膜厚度为1-10μm。
(8)将步骤(7)中的产品置于清洗线中清洗，清洗线中的清洗液中添加低强度氧化能力的液体；
(9)使用热压贴合机将柔性电路板与步骤(8)制作好的产品压合到一起，构成纳米银触控屏。
本发明提供的纳米银触控屏及其制备方法具有的技术优势为：
1.加工工序简单，进而大幅降低生产成本、提高生产效率；
2.生产过程使用的材料全是环保材料，不会对环境造成损害；
3.使用了多层阻隔材料进行防护，制作的触摸屏具有更强的环境耐性，具备更长使用寿命；
4.产品使用了多层滤光材料，能够阻隔部分蓝光，起到护眼的效果。
附图说明
图1为本发明装置基本剖面结构示意图。
具体实施方式
结合附图说明本发明的技术方案。
如图1所示，如图1所示，纳米银触控屏，包括柔性电路板和基材1，所述的基材1表面依次设有第一层纳米银导电层2、第一层导电银浆层3、第一层透明绝缘油墨4、第二层纳米银导电层5、第二层导电银浆层6、第二层透明绝缘油墨层7。
基材1的特征要求包含，透过率大于85％，表面硬度≥2H。基材1包括PET、PMMA、PC、玻璃等诸多透明基材。在单张基材上表面上制作两层图案。透明绝缘油墨包含树脂类透明材料及光阻类透明材料。
两层的透明绝缘油墨印刷的是与纳米银导电层的导电图案一致的图案，绝缘油墨层为整面印刷层。
步骤(8)清洗液中的添加成分包括：双氧水、硫代硫酸钠、硫氢化钠、氯化铁、氯化铜等低氧化能力的水溶性材料。
导电银浆可使用导电铜线、导电铜浆以及铜箔和铝箔等材料替代
纳米银导电层可使用石墨烯、碳纳米管、ITO、IZO以及高分子导电胶等其他透明导电材料替代。
该纳米银触控屏的制备方法，包括以下步骤：
(1)在做好双面硬化或单面硬化的基材1表面涂布透明的第一层纳米银导电层2；
第一层纳米银导电层2涂布厚度在0.5-20μm，涂布完毕后使用隧道炉烤干固化，烘烤温度为50-150℃，最终烘烤干燥后的导电层厚度为20-2000nm；
(2)在纳米银导电层的表面通过丝网印刷的方式印刷第一层导电银浆层3；
第一层导电银浆层3印刷的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃，最终烘烤干燥后的第一层导电银浆层3干膜厚度为1-10μm；
(3)使用激光蚀刻设备将步骤(2)制作的产品进行镭射加工，制作出所需要的触控图元；
激光机的类型为远红外镭射机，激光的频率在10-200Hz，脉宽为10-500ps，速度为1000-100，000mm/s；
(4)在步骤(3)制作好的产品上通过印刷或者涂布的方式制作第一层透明绝缘油墨4；
第一层透明绝缘油墨4的湿膜厚度为5-20μm，印刷或者涂布完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃；
若使用UV固化油墨则使用UV固化机进行固化，UV固化机的灯照强度为10-8000mj，温度为20-80℃；
最终烘烤干燥后的第一层透明绝缘油墨4干膜厚度为1-10μm；
(5)将步骤(4)中制作好的产品再涂布第二层纳米银导电层5；
使用狭缝挤涂布、辊涂、线涂或者其他涂布工艺，产品的涂布厚度在0.5-20μm，涂布完毕后使用隧道炉烤干固化，烘烤温度为50-150℃，最终烘烤干燥后的第二层纳米银导电层5厚度为20-2000nm；
(6)将步骤(5)中制作好的产品再通过丝网印刷的方式印刷第二层导电银浆层6；
第二层导电银浆层6印刷的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃，最终烘烤干燥后的第二层导电银浆层6干膜厚度为1-10μm；
(7)将步骤(6)中的产品通过丝网印刷的方式印刷第二层透明绝缘油墨层7的图案；
第二层透明绝缘油墨层7的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃；
若使用UV固化油墨则使用UV固化机进行固化，UV固化机的灯照强度为10-8000mj，温度为20-80℃，最终烘烤干燥后的第二层透明绝缘油墨干膜厚度为1-10μm。
(8)将步骤(7)中的产品置于清洗线中清洗，清洗线中的清洗液中添加低强度氧化能力的液体；
(9)使用热压贴合机将柔性电路板与步骤(8)制作好的产品压合到一起，构成纳米银触控屏。
Claims (9)
1.纳米银触控屏，包括柔性电路板和基材，其特征在于，所述的基材表面依次设有第一层纳米银导电层、第一层导电银浆层、第一层透明绝缘油墨、第二层纳米银导电层、第二层导电银浆层、第二层透明绝缘油墨层。
2.根据权利要求1所述的纳米银触控屏的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)在做好双面硬化或单面硬化的基材表面涂布透明的第一层纳米银导电层；
(2)在纳米银导电层的表面通过丝网印刷的方式印刷第一层导电银浆层；
(3)使用激光蚀刻设备将步骤(2)制作的产品进行镭射加工，制作出所需要的触控图元；
(4)在步骤(3)制作好的产品上通过印刷或者涂布的方式制作第一层透明绝缘油墨；
(5)将步骤(4)中制作好的产品再涂布第二层纳米银导电层；
(6)将步骤(5)中制作好的产品再通过丝网印刷的方式印刷第二层导电银浆层；
(7)将步骤(6)中的产品通过丝网印刷的方式印刷第二层透明绝缘油墨层的图案；
(8)将步骤(7)中的产品置于清洗线中清洗，清洗线中的清洗液中添加低强度氧化能力的液体；
(9)使用热压贴合机将柔性电路板与步骤(8)制作好的产品压合到一起，构成纳米银触控屏。
3.根据权利要求2所述的纳米银触控屏的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述的第一层纳米银导电层2涂布厚度在0.5-20μm，涂布完毕后使用隧道炉烤干固化，烘烤温度为50-150℃，最终烘烤干燥后的导电层厚度为20-2000nm。
4.根据权利要求2所述的纳米银触控屏的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述的第一层导电银浆层印刷的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃，最终烘烤干燥后的第一层导电银浆层干膜厚度为1-10μm。
5.根据权利要求2所述的纳米银触控屏的制备方法，其特征在于，步骤(3)所述的激光机的类型为远红外镭射机，激光的频率在10-200Hz，脉宽为10-500ps，速度为1000-100000mm/s。
6.根据权利要求2所述的纳米银触控屏的制备方法，其特征在于，步骤(4)所述的第一层透明绝缘油墨的湿膜厚度为5-20μm，印刷或者涂布完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃；
若使用UV固化油墨则使用UV固化机进行固化，UV固化机的灯照强度为10-8000mj，温度为20-80℃；
最终烘烤干燥后的第一层透明绝缘油墨干膜厚度为1-10μm。
7.根据权利要求2所述的纳米银触控屏的制备方法，其特征在于，步骤(5)所述的第二层纳米银导电层的涂布厚度在0.5-20μm，涂布完毕后使用隧道炉烤干固化，烘烤温度为50-150℃，最终烘烤干燥后的第二层纳米银导电层厚度为20-2000nm。
8.根据权利要求2所述的纳米银触控屏的制备方法，其特征在于，步骤(6)所述的第二层导电银浆层印刷的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃；最终烘烤干燥后的第二层导电银浆层干膜厚度为1-10μm。
9.根据权利要求2所述的纳米银触控屏的制备方法，其特征在于，步骤(7)所述的第二层透明绝缘油墨层的湿膜厚度为5-20μm，印刷完毕后使用烤箱或隧道炉烤干固化烘烤温度为50-200℃；
若使用UV固化油墨则使用UV固化机进行固化，UV固化机的灯照强度为10-8000mj，温度为20-80℃；
最终烘烤干燥后的第二层透明绝缘油墨干膜厚度为1-10μm。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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