CN109100117B - 一种变异数值的检测方法 - Google Patents
一种变异数值的检测方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109100117B CN109100117B CN201810724408.1A CN201810724408A CN109100117B CN 109100117 B CN109100117 B CN 109100117B CN 201810724408 A CN201810724408 A CN 201810724408A CN 109100117 B CN109100117 B CN 109100117B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- value
- interval
- variation
- numerical value
- time interval
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 5
- 238000003556 assay Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 238000003070 Statistical process control Methods 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000556 factor analysis Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000001543 one-way ANOVA Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000010972 statistical evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/46—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters
- G01J3/50—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors
- G01J3/506—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors measuring the colour produced by screens, monitors, displays or CRTs
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/41875—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by quality surveillance of production
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/44—Electric circuits
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J2001/4247—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors for testing lamps or other light sources
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/32—Operator till task planning
- G05B2219/32191—Real time statistical process monitoring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- General Factory Administration (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
Abstract
本发明实施例提供一种变异数值的检测方法，包括：选定第一时间间隔内的数值作为比较基准；选定第二时间间隔内的数值作为检验区间；将所述检验区间的数值和所述比较基准的数值进行统计鉴定，以检测变异数值。本发明实施例提供一种变异数值的检测方法，以实现对变异数值的自动检测和自动判断，并提高生产效率。
Description
技术领域
本发明实施例涉及信号检测与处理技术，尤其涉及一种变异数值的检测方法。
背景技术
现代产品的加工过程中，需要多种质量检验环节来保证产品的质量，提升产品的竞争力。对于显示面板的检测，需要进行外观尺寸和显示面板的光学特性的检测，例如对显示面板的亮度和色度等光学性能的检测，以保证成品质量。
一般工作人员会人工判断是否有变异数值，以便研究其变异来源以监视、控制和改善流程。但是人工判断存在判断误差以及生产效率低下的问题，此问题亟待解决。
发明内容
本发明实施例提供一种变异数值的检测方法，以实现对变异数值的自动检测和自动判断，并提高生产效率。
本发明实施例提供一种变异数值的检测方法，包括：
选定第一时间间隔内的数值作为比较基准；
选定第二时间间隔内的数值作为检验区间；
将所述检验区间的数值和所述比较基准的数值进行统计鉴定，以检测变异数值。
可选地，将所述检验区间的数值和所述比较基准的数值进行统计鉴定时，采用无母数统计。
可选地，将所述检验区间的数值和所述比较基准的数值进行统计鉴定时，采用无母数统计中的列文检测算法。
可选地，所述比较基准的数值的平均趋势偏移与所述检验区间的数值的平均趋势偏移之差小于或等于第一阈值，所述平均趋势偏移为测量的数值的平均趋势与中心线之间的差值。
可选地，所述比较基准的数值的变异程度小于或等于第二阈值。
可选地，所述第一时间间隔与所述第二时间间隔无交叠。
可选地，所述第一时间间隔为28-31天。
可选地，所述第二时间间隔为至少10天。
可选地，获取所述检验区间的数值的频率为1-10天。
可选地，进行统计鉴定的所述检验区间的数值和所述比较基准的数值在管制界限内，所述管制界限用于判断样本与样本、批与批、时间与时间之间品质变异的显着性。
本发明实施例提供的变异数值的检测方法中，选取了比较基准和检验区间，并将检验区间中的数值与比较基准中的数值进行对比，以检测是否存在变异数值，整个方法的过程自动进行，相对于人工判断来说，实现了对变异数值的自动检测和自动判断，并提高了生产效率。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种变异数值的检测方法流程图；
图2为本发明实施例提供的一种SPC管制图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
本发明使用SPC系统对于显示面板的质量进行控制，SPC系统也称为统计过程控制，是一种借助数理统计方法的过程控制工具。它对生产过程进行分析评价，根据反馈信息及时发现系统性因素出现的征兆，并采取措施消除其影响，使过程维持在仅受随机性因素影响的受控状态，以达到控制质量的目的。图1为本发明实施例提供的一种变异数值的检测方法流程图，图2为本发明实施例提供的一种SPC管制图，参考图1和图2，SPC管制图是一种带有控制界限的反映过程质量的记录图形，SPC管制图的纵轴代表产品质量特性值(或由质量特性值获得的某种统计量)；横轴代表按时间顺序(自左至右)抽取的各个样本号。图2中的数值点代表了被监控数据，其例如可以为采集的各个液晶显示面板的亮度或色度等产品信息，USL为规格上限，LSL为规格下限，规格上限和规格下限统称为规格界限，规格界限是用以规定质量特性的最大(小)许可值，规格界限是工程师事先定义好的界限。UCL为管制上限，LCL为管制下限，管制界限是从实际生产出来的产品中抽取一定数量的产品，并进行检测，从所得观测值中计算出来的。例如，可以将管制上限UCL设定为平均值+4*标准差，平均值和标准差可以根据历史数据的部分或全部进行计算得到。CL为中心线，一般而言，管制上限UCL和管制下限LCL关于中心线CL对称。该检测方法可以应用于SPC系统中，用于对显示面板的各个制程的监视、控制和改善，该检测方法可以通过软件和/或硬件的方式实现，该检测方法包括如下步骤：
S110、选定第一时间间隔内的数值作为比较基准。
第一时间间隔指的是一个时间段。例如选取去年的被监控数据(被监控数据即数值)作为比较基准10，或者选取上个月的被监控数据作为比较基准10。因此比较基准10是一个特定的集合，比较基准10包括了第一时间间隔内所采集到的被检测数据。且一般而言，属于比较基准10的被监控数据整体是产品生产良好状态下的数值。
S120、选定第二时间间隔内的数值作为检验区间。
第二时间间隔指的也是一个时间段，但是第一时间间隔与第二时间间隔不重合，也无包含关系，即第一时间间隔不包含第二时间间隔，第二时间间隔也不包含第一时间间隔。比较优选地，第一时间间隔与第二时间间隔无交叠，例如，第一时间间隔为2017.01.01-2017.02.01，第二时间间隔为2017.03.01-2017.04.01。例如选取本月中的1号到10号的被监控数据作为检验区间20，检验区间20内的数值是被检测的对象。
S130、将检验区间的数值和比较基准的数值进行统计鉴定，以检测变异数值。
将检验区间20的数值和比较基准10的数值进行统计鉴定，即统计鉴定是利用统计学的方法将检验区间20的数值与比较基准10的数值进行对比，以检测检验区间20的数值是否存在变异数值，进一步地，还可以对变异数值的数量以及变异数值的变异程度等进行统计。
本发明实施例提供的变异数值的检测方法中，选取了比较基准和检验区间，并将检验区间中的数值与比较基准中的数值进行对比，以检测是否存在变异数值，整个方法的过程自动进行，相对于人工判断来说，实现了对变异数值的自动检测和自动判断，并提高了生产效率。
可选地，将检验区间20的数值和比较基准10的数值进行统计鉴定时，采用无母数统计。
表1无母数统计和有母数统计的特征比较表
| 比较项目 | 无母数统计 | 有母数统计 |
| 分布 | 无需符合特定分布 | 需要符合特定分布 |
| 需要样本数 | 小样本 | 大样本 |
| 符合指定条件下的精准度 | 略差 | 校准 |
表1为无母数统计和有母数统计的特征比较表，由表1可知，母数统计假定数据符合特定分布，例如正态分布或泊松分布。无母数统计为不使用特定分布来进行统计。因此采用无母数统计相对于有母数统计来说可以具有更为广泛的使用范围，例如既可以使用该检测方法来检测显示面板的光学特性数据，也可以使用该检测方法来检测显示面板的外观数据。
进一步地，将检验区间20的数值和比较基准10的数值进行统计鉴定时，采用无母数统计中的列文检测算法。列文检测算法又称为Levene检验，是方差齐性检验的一种，首先把数据按列表示，r个条件为r列，行为记录然后获得转换数据：对于每一列，都用该列的均值减去该列的每一个数并取绝对值，这样处理后转换数据的组内方差将变小。如果只是减去平均值而不取绝对值，做的其实是单因素方差分析。最后对于转换数据进行单因素方差分析。
可选地，比较基准10的数值的平均趋势偏移与检验区间20的数值的平均趋势偏移之差小于或等于第一阈值，平均趋势偏移为测量的数值的平均趋势与中心线之间的差值。测量的数值的平均趋势例如可以包括平均数、中位数和/或众数。比较基准10的数值的平均趋势偏移与检验区间20的数值的平均趋势偏移之差小于或等于第一阈值使，比较基准10的数值的平均趋势偏移与检验区间20的数值的平均趋势偏移非常接近。示例性地，比较基准10的数值的平均趋势与检验区间20的数值的平均趋势均靠近中心线CL。
变异数值的检测方法可以对平均趋势偏移进行检测，若比较基准10的数值的平均趋势偏移较大，则说明可能存在制程问题，需要对设备进行检查以防患于未然。对于比较基准10的数值的平均趋势偏移与检验区间20的数值的平均趋势偏移非常接近的情况，本发明提供的检测方法还可以通过对数值的变异程度的检测，来实现对显示面板的各个制程的监视、控制和改善。变异程度指的是数值的离散程度、分散趋势，例如可以包括变异数和/或全距。
可选地，比较基准10的数值的变异程度小于或等于第二阈值。即，最为比较基准10的数值的离散程度小，基本都在距离中心线CL比较小的一个范围内波动。图2中所示检验区间20的离散程度大于比较基准10的数值的离散程度，其在距离中心线CL比较大的一个范围内波动。可以利用列文检测算法检验是否存在变异数值。
可选地，第一时间间隔与第二时间间隔无交叠。此时，作为比较基准10的多个数值与作为检验区间20的多个数值无重复，从而增强了统计鉴定的可靠性。
可选地，第一时间间隔为28-31天。可以选择一个月内(28-31天)的数值构成一个集合，即比较基准10。
可选地，第二时间间隔为至少10天。因为需要侦测的是变异趋势，故区间不宜太短，因此可以选择至少10天内的数值构成一个集合，即检验区间20。
可选地，由于获取被监控数据的过程中，很多步骤需要工作人员的参与，无法做到完全的自动化，以液晶显示面板的光学特性而言，一般不是自动线，并不会每批抽验量测,因此可以设置为：获取检验区间20的数值的频率为1-10天。需要说明的是，本发明对于第一时间间隔、第二时间间隔以及获取检验区间20数值的频率不做限定，具体可以根据实际需求而定。
可选地，进行统计鉴定的检验区间20的数值和比较基准10的数值在管制界限内，管制界限用于判断样本与样本、批与批、时间与时间之间品质变异的显着性。超出管制界限的数值比较容易识别，可以被现有的技术手段处理，本发明提供的变异数值的检测方法主要针对管制界限内数值的变异检测。对采集到的数据进行统计分析，并从分析中发觉异常原因，采取改正行动，使工艺回复正常，保持稳定，持续不断地提升工艺能力。
在实际操作使用中，除上述检测方法中的统计差异外，也需满足绝对差异，像机台误差极限，以此减少对于使用本发明提供的检测方法找出变异数值后产生警报的次数。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (2)
1.一种变异数值的检测方法，其特征在于，包括：
选定第一时间间隔内液晶显示面板的检测数值作为比较基准；所述第一时间间隔为28-31天；
选定第二时间间隔内所述液晶显示面板的检测数值作为检验区间；所述第二时间间隔为至少10天；
将所述检验区间的数值和所述比较基准的数值进行统计鉴定，以检测所述液晶显示面板的变异数值；
其中，所述比较基准的数值的平均趋势偏移与所述检验区间的数值的平均趋势偏移之差小于或等于第一阈值，所述平均趋势偏移为测量的数值的平均趋势与中心线之间的差值；
所述比较基准的数值的变异程度小于或等于第二阈值；所述变异程度为所述数值的离散程度或分散程度；
将所述检验区间的数值和所述比较基准的数值进行统计鉴定时，采用无母数统计中的列文检测算法；
进行统计鉴定的所述检验区间的所述显示面板的检测数值和所述比较基准的所述液晶显示面板的检测数值在管制界限内，所述管制界限用于判断样本与样本、批与批、时间与时间之间品质变异的显着性；所述管制界限根据设定数量的所述显示面板的历史检测结果进行确定。
2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，获取所述检验区间的数值的频率为1-10天。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810724408.1A CN109100117B (zh) | 2018-07-04 | 2018-07-04 | 一种变异数值的检测方法 |
| PCT/CN2018/115113 WO2020006954A1 (zh) | 2018-07-04 | 2018-11-13 | 一种变异数值的检测方法 |
| US16/253,193 US11486765B2 (en) | 2018-07-04 | 2019-01-21 | Method for detecting variation value |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810724408.1A CN109100117B (zh) | 2018-07-04 | 2018-07-04 | 一种变异数值的检测方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109100117A CN109100117A (zh) | 2018-12-28 |
| CN109100117B true CN109100117B (zh) | 2021-03-26 |
Family
ID=64845667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810724408.1A Active CN109100117B (zh) | 2018-07-04 | 2018-07-04 | 一种变异数值的检测方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11486765B2 (zh) |
| CN (1) | CN109100117B (zh) |
| WO (1) | WO2020006954A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109100117B (zh) * | 2018-07-04 | 2021-03-26 | 惠科股份有限公司 | 一种变异数值的检测方法 |
| CN110987493A (zh) * | 2019-11-14 | 2020-04-10 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 设备异常检测方法、装置、存储介质及电子设备 |
| WO2024000356A1 (zh) * | 2022-06-30 | 2024-01-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 数据处理方法及装置、数据显示方法及装置、设备和介质 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI266249B (en) * | 2002-05-16 | 2006-11-11 | Mosel Vitelic Inc | Statistical process control method and system thereof |
| CN1553172A (zh) * | 2003-05-26 | 2004-12-08 | 由田新技股份有限公司 | 以亮度分布的纷乱程度做为电子式显示器的显示品质的测试方法 |
| US8620634B2 (en) * | 2009-07-24 | 2013-12-31 | Honeywell International Inc. | Energy resource allocation including renewable energy sources |
| CN103902437A (zh) * | 2014-03-11 | 2014-07-02 | 深圳市同洲电子股份有限公司 | 一种检测方法及服务器 |
| CN104503402B (zh) * | 2014-12-13 | 2017-04-19 | 中国烟草总公司郑州烟草研究院 | 一种卷烟加工烟支卷制质量稳定性的检验方法 |
| US10796242B2 (en) * | 2016-08-25 | 2020-10-06 | Oracle International Corporation | Robust training technique to facilitate prognostic pattern recognition for enterprise computer systems |
| KR101823420B1 (ko) * | 2016-08-30 | 2018-01-30 | 에스케이 주식회사 | 공정/장비 계측 데이터의 미세 변동 감지 방법 및 시스템 |
| CN106840322A (zh) * | 2016-12-21 | 2017-06-13 | 潍坊市计量测试所 | 一种计量器具在线软校准的方法和实现该方法的装置 |
| CN107202604B (zh) * | 2017-03-02 | 2019-09-03 | 湖南工业大学 | 一种告警处理方法及系统 |
| CN106970577A (zh) * | 2017-03-29 | 2017-07-21 | 长江空间信息技术工程有限公司(武汉) | 枢纽工程安全监测自动化系统集成方法 |
| CN107515118B (zh) * | 2017-09-08 | 2019-10-18 | 江西科技学院 | 旋转机械轴承故障诊断方法 |
| CN107977301B (zh) * | 2017-11-21 | 2021-04-16 | 东软集团股份有限公司 | 设备异常的检测方法、装置、存储介质及电子设备 |
| CN109100117B (zh) * | 2018-07-04 | 2021-03-26 | 惠科股份有限公司 | 一种变异数值的检测方法 |
| US11062928B2 (en) * | 2019-10-07 | 2021-07-13 | Kla Corporation | Process optimization using design of experiments and response surface models |
-
2018
- 2018-07-04 CN CN201810724408.1A patent/CN109100117B/zh active Active
- 2018-11-13 WO PCT/CN2018/115113 patent/WO2020006954A1/zh active Application Filing
-
2019
- 2019-01-21 US US16/253,193 patent/US11486765B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2020006954A1 (zh) | 2020-01-09 |
| CN109100117A (zh) | 2018-12-28 |
| US11486765B2 (en) | 2022-11-01 |
| US20200011736A1 (en) | 2020-01-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109100117B (zh) | 一种变异数值的检测方法 | |
| JP5091604B2 (ja) | 分布の評価方法、製品の製造方法、分布の評価プログラム及び分布の評価システム | |
| US20180150066A1 (en) | Scheduling system and method | |
| US10732619B2 (en) | Method for monitoring driving unit of car body assembly line, and device therefor | |
| KR100839071B1 (ko) | 공정장비의 상태를 모니터링하기 위한 시스템 및 방법 | |
| US8229584B2 (en) | Abnormality detection system and method of detecting abnormality | |
| CN103187329A (zh) | 一种晶圆良率分析方法 | |
| US20100060470A1 (en) | Failure cause identifying device and method for identifying failure cause | |
| KR20140113153A (ko) | 통계적 동일성 검정방법 및 시스템 | |
| CN112180230A (zh) | 芯片测试参数异常的侦测方法、存储介质、终端 | |
| US8340800B2 (en) | Monitoring a process sector in a production facility | |
| CN107093568B (zh) | 一种晶元在线监测方法及装置 | |
| CN112585727B (zh) | 装置诊断装置、等离子体处理装置以及装置诊断方法 | |
| KR20090061856A (ko) | 품질관리규칙이 변경가능한 통계적 공정관리 장치 및 방법 | |
| CN111062595B (zh) | 代加工产品的验收方法、装置、计算机可读存储介质 | |
| CN108242411B (zh) | 用于管控线上缺陷的方法和系统 | |
| CN110907135A (zh) | 一种制程设备的控制方法及装置 | |
| US10146215B2 (en) | Monitor system and method for semiconductor processes | |
| CN110363374B (zh) | 一种不合格产品影响因素的定量分析方法 | |
| CN113869373A (zh) | 设备异常检测方法、装置、计算机设备和存储介质 | |
| KR20180073273A (ko) | 통계 분석에 기반한 거짓 경보 감소 방법 및 장치 | |
| EP2581719B1 (en) | Method of calibration time interval optimization | |
| JP2009015654A (ja) | ワークの品質管理システムおよびワークの品質管理方法 | |
| CN104103544A (zh) | 晶圆缺陷监控方法 | |
| WO2024116560A1 (ja) | 異常判定装置及び異常判定方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |