CN109093289A - 一种低温真空封接焊料及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种低温真空封接焊料,包括如下组分:氧化铅70~76份;三氧化二硼18~25份;氧化铝1~1.5份;二氧化硅0.5~1.5份;氧化铜0.5~1份;二氧化铬0.3~1.5份,各组分以重量份计。本发明对现有的真空封接焊料进行改进,并提供适合改进的配方的制备方法,与现有的配方和工艺相比,本发明的焊料在真空封接温度降低了30℃左右,并能达到与现有焊料同样的封接效果,在产品的使用中降低了封接炉的工作温度,从而实现降低使用成本,节能降耗的目的。
Description
技术领域
本发明涉及一种焊料,具体是一种用于真空封接的焊料。
背景技术
焊料是用于填加到焊缝、堆焊层和钎缝中的金属合金材料的总称。包括焊丝(welding wire)、焊条(welding rod)、钎料(brazing and soldering alloy)等。熔焊用焊料的熔化温度通常不低于母材的固相线,其化学成分、力学、热学特性都和母材比较接近,如各种焊条、药芯焊丝等。焊缝强度常不低于母材本身;而钎料的熔化温度必须低于母材的固相线,其化学成分常与母材相去较远,钎缝纤细,尺寸精密,但钎缝强度多数不及母材本身,抗蚀性也较差。焊料在使用时如电弧焊,温度常超过母材和焊料本身许多,无软硬之分;而钎料中的硬钎料,如铜锌料(铜锌合金),银钎料(银铜合金)的钎焊接头强度较大,主要用于连接强度要求较高的金属构件,而软钎料如焊锡(锡铅为主的合金)焊成接头强度较小,主要用于连接不过分要求强度的小接头,如电子仪器、仪表、家电电子线路的接头。
焊料有多种型号,根据熔点不同可分为硬焊料和软焊料;根据组成成分不同可分为锡铅焊料、银焊料、铜焊料等。在真空封装领域中,目前常用的焊料大多是以铅基玻璃为主要材料。现有的焊料封接温度偏高,使用生产效率低,能耗大。
发明内容
发明目的:本发明目的在于针对现有技术的不足,提供一种使用温度低的真空封接焊料;本发明的另一目的在于提高该焊料的制备方法。
技术方案:本发明所述低温真空封接焊料,包括如下组分:
氧化铅 70~76份;
三氧化二硼 18~25份;
氧化铝 1~1.5份;
二氧化硅 0.5~1.5份;
氧化铜 0.5~1份;
二氧化铬 0.3~1.5份,
各组分以重量份计。
本发明进一步优选地技术方案为,各组分的重量份为:
氧化铅 75份;
三氧化二硼 21份;
氧化铝 1.2份;
二氧化硅 1份;
氧化铜 0.8份;
二氧化铬 1份。
优选地,所述氧化铝为α型氧化铝。
本发明所述低温真空封接焊料的制备方法,包括如下步骤:
(1)将各组分材料按重量比例配好,放入混料机中进行混料,20~25分钟后取出待用;
(2)将混和完成的混料放入坩埚中,在950~1150℃条件下,将混料熔融20~25分钟;
(3)从坩埚内倒出熔料,再经过滴注制成适合封接的形状。
有益效果:本发明对现有的真空封接焊料进行改进,并提供适合改进的配方的制备方法,与现有的配方和工艺相比,本发明的焊料在真空封接温度降低了30℃左右,并能达到与现有焊料同样的封接效果,在产品的使用中降低了封接炉的工作温度,从而实现降低使用成本,节能降耗的目的;
本发明中,氧化硼可与若干种金属氧化物化合而形成具有特征颜色的硼玻璃,可用作硅酸盐分解时的助熔剂,氧化铜作为氧化剂,二氧化铬作为催化剂,在多种添加剂的共同作用下,改变焊料的物理性能和化学性能,降低焊料的实际使用温度。
具体实施方式
下面对本发明技术方案进行详细说明,但是本发明的保护范围不局限于所述实施例。
实施例1:一种低温真空封接焊料,包括如下组分:
氧化铅 70份;
三氧化二硼 18份;
氧化铝 1份;
二氧化硅 0.5份;
氧化铜 0.5份;
二氧化铬 0.3份,
各组分以重量份计。
该低温真空封接焊料的制备方法,包括如下步骤:
(1)将各组分材料按重量比例配好,放入混料机中进行混料,20分钟后取出待用;
(2)将混和完成的混料放入坩埚中,在950℃条件下,将混料熔融20分钟;
(3)从坩埚内倒出熔料,再经过滴注制成适合封接的形状。
实施例2:一种低温真空封接焊料,包括如下组分:
氧化铅 76份;
三氧化二硼 25份;
氧化铝 1.5份;
二氧化硅 1.5份;
氧化铜 1份;
二氧化铬 1.5份,
各组分以重量份计。
该低温真空封接焊料的制备方法,包括如下步骤:
(1)将各组分材料按重量比例配好,放入混料机中进行混料,25分钟后取出待用;
(2)将混和完成的混料放入坩埚中,在1150℃条件下,将混料熔融25分钟;
(3)从坩埚内倒出熔料,再经过滴注制成适合封接的形状。
实施例3:一种低温真空封接焊料,包括如下组分:
氧化铅 75份;
三氧化二硼 21份;
氧化铝 1.2份;
二氧化硅 1份;
氧化铜 0.8份;
二氧化铬 1份,
各组分以重量份计。
该低温真空封接焊料的制备方法,包括如下步骤:
(1)将各组分材料按重量比例配好,放入混料机中进行混料,25分钟后取出待用;
(2)将混和完成的混料放入坩埚中,在1100℃条件下,将混料熔融25分钟;
(3)从坩埚内倒出熔料,再经过滴注制成适合封接的形状。
本发明实施例1~3与现有焊料的对比例的实验结果如表1所示:
实验结果显示:在同一温度、环境和时间下,本发明的焊料封接温度比现有焊料的摊平温度低。在相同环境、时间下,本发明的焊料在比现有焊料低30度左右时可达到基本相同的熔化效果。
如上所述,尽管参照特定的优选实施例已经表示和表述了本发明,但其不得解释为对本发明自身的限制。在不脱离所附权利要求定义的本发明的精神和范围前提下,可对其在形式上和细节上作出各种变化。
Claims (4)
1.一种低温真空封接焊料,其特征在于,包括如下组分:
氧化铅 70~76份;
三氧化二硼 18~25份;
氧化铝 1~1.5份;
二氧化硅 0.5~1.5份;
氧化铜 0.5~1份;
二氧化铬 0.3~1.5份,
各组分以重量份计。
2.根据权利要求1所述的低温真空封接焊料,其特征在于,各组分的重量份为:
氧化铅 75份;
三氧化二硼 21份;
氧化铝 1.2份;
二氧化硅 1份;
氧化铜 0.8份;
二氧化铬 1份。
3.根据权利要求1所述的低温真空封接焊料,其特征在于,所述氧化铝为α型氧化铝。
4.一种权利要求1~3任意一项所述低温真空封接焊料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将各组分材料按重量比例配好,放入混料机中进行混料,20~25分钟后取出待用;
(2)将混和完成的混料放入坩埚中,在950~1150℃条件下,将混料熔融20~25分钟;
(3)从坩埚内倒出熔料,再经过滴注制成适合封接的形状。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4256495A (en) * | 1977-09-21 | 1981-03-17 | Hitachi, Ltd. | Sealing glass |
JPS59195552A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 被覆用ガラス組成物及び被覆用ガラスペ−スト |
US4997796A (en) * | 1989-04-05 | 1991-03-05 | Alps Electric Co., Ltd. | Glass for magnetic head |
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2018
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