CN109065758B - 柔性显示装置及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了一种柔性显示装置及其制造方法,该柔性显示装置包括:衬底;设置于所述衬底上的像素界定层,界定多个发光区;第一电极层,设置于像素界定层远离衬底的一侧以及发光区;薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述第一电极层,并且在多个位置具有朝向所述像素界定层突出的突出部。根据本公开的柔性显示装置中薄膜封装层具有多个突出到光耦合层中的突出部,从而增大了接触面积,进而增大了界面粘附力,避免了柔性显示装置在弯曲过程中出现层间的剥离现象,提高了弯曲部分的稳定性,因此能够提高柔性显示装置的制造良率和使用寿命。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种柔性显示装置及其制造方法。
背景技术
有机电致发光器件(OLED)由于具有自发光、高亮度、高对比度、低工作电压、可制作柔性显示等特点,被称为最有应用前景的显示器件。
近年来,随着曲面屏以及可折叠显示装置的发展,已经开发出各种具有可弯折性的柔性显示装置。
发明内容
根据本公开的一方面,提供了一种柔性显示基板,包括:
衬底;
设置于所述衬底上的像素界定层,界定多个发光区;
第一电极层,设置于像素界定层远离衬底的一侧以及所述发光区;
薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述第一电极层,并且在多个位置具有朝向所述像素界定层突出的突出部。
在一个实施例中,柔性显示基板还包括:光耦合层,设置于所述第一电极层与所述薄膜封装层之间。
在一个实施例中,所述突出部穿过所述光耦合层和所述第一电极层接触。
在一个实施例中,所述突出部穿过所述第一电极层与所述像素界定层接触。
在一个实施例中,所述突出部突出到所述像素界定层中。
在一个实施例中,所述突出部在所述衬底上的正投影在所述像素界定层在所述衬底上的正投影范围内。
在一个实施例中,所述突出部具有圆柱形、棱柱性、圆台形、棱台形、圆锥形、棱锥形中的至少一种形状。
在一个实施例中,所述突出部均匀地分布在所述柔性显示装置中,或者,所述突出部在所述柔性显示基板的周边区域相对中心区域被形成为具有更大的分布密度。
在一个实施例中,所述发光区还包括设置在所述第一电极层靠近所述衬底一侧的第二电极层以及设置在所述第一电极层与所述第二电极层之间的发光层。
根据另一方面,本公开提供了一种柔性显示装置,包括:
根据本公开其它方面的柔性显示基板。
根据另一方面,本公开提供了一种柔性显示基板的制造方法,包括:
在衬底上形成像素界定层,以界定多个发光区;
形成第一电极层,以覆盖所述像素界定层远离衬底的一侧以及所述发光区;
形成薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述第一电极层,并且在多个位置具有朝向所述像素界定层突出的突出部。
在一个实施例中,形成薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述第一电极层,并且在多个位置具有朝向所述像素界定层突出的突出部包括:
在所述第一电极层中形成凹槽;
形成覆盖所述第一电极层的薄膜封装层,使得所述薄膜封装层的至少一部分被填充至所述凹槽中以形成所述突出部。
在一个实施例中,所述方法还包括:
在形成所述薄膜封装层之前,形成光耦合层,使得所述光耦合层设置于所述第一电极层与所述薄膜封装层之间。
在一个实施例中,形成薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述第一电极层,并且在多个位置具有朝向所述像素界定层突出的突出部包括:
在所述光耦合层中形成凹槽;
形成所述薄膜封装层,使得所述薄膜封装层的至少一部分被填充至所述凹槽中以形成所述突出部。
在一个实施例中,形成薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述第一电极层,并且在多个位置具有朝向所述像素界定层突出的突出部包括:
在所述像素界定层中形成凹槽;
形成所述薄膜封装层,使得所述薄膜封装层的至少一部分被填充至所述凹槽中以形成所述突出部。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本公开的一个实施例提供的柔性显示装置的剖视图;
图2是本公开的一个实施例提供的柔性显示装置的俯视图;
图3A至图3C是示出了本公开的一个实施例提供的柔性显示装置的制造方法的剖视图。
具体实施方式
为了可以更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点,下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明,但是,本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施,因此,本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
如图1和图2所示,本发明的实施例提供了一种柔性显示装置,所述柔性显示装置包括柔性显示衬底,包括:像素界定层(pixel defining layer)PDL;由像素界定层PDL界定的多个发光区,例如像素(pixel)PX,被配置为发出用于显示的光;光耦合层(cappinglayer)110,形成为覆盖所述像素PX;薄膜封装层120,所述薄膜封装层120覆盖所述光耦合层110,并且在多个位置具有朝向像素界定层PDL突出的突出部125。
根据本公开的实施例,如图1所示,突出部125在所述像素界定层PDL所在平面中的正投影与所述像素界定层PDL重叠或基本重叠,例如,突出部125在柔性显示基板的衬底上的正投影在像素界定层PDL在该衬底上的正投影的范围内。换言之,突出部125可以位于像素界定层PDL的正上方。另外,在一个实施例中,突出部125可以穿过所述光耦合层110与所述像素界定层PDL接触。
根据本公开的上述实施例,薄膜封装层120中具有突出到光耦合层110中的多个突出部125,使得突出部125起到楔入到光耦合层110中的“钉子”一样的作用。因此,能够增大接触面积,进而增大了界面粘附力,避免了柔性显示装置在弯曲过程中出现层间的剥离现象,提高了弯曲部分的稳定性,因此能够提高柔性显示装置的制造良率和使用寿命。在图1中示出的实施例中,突出部125向像素界定层PDL延伸直至与像素界定层PDL接触,因此能够提供尽可能大的接触面积。然而本领域技术人员应当理解,突出部125突出到光耦合层110中的深度不限于此,在某些实施例中,突出部125可以突出到光耦合层110中的预定深度,而不是完全穿过光耦合层110。在其它实施例中,突出部125也可以进一步突出到像素界定层PDL的上表面中,以进一步增大接触面积,从而提供更好的界面粘附力。
像素界定层PDL可以形成在基底100上,示意性地,如图1所示,基底可以包括衬底基板101,以及形成在衬底基板101上的例如扫描线SCAN、数据线DATA等信号线以及薄膜晶体管(thin film transistor,TFT)等驱动电路。如图1的实施例中所示,驱动电路包括薄膜晶体管TFT,其具有源极S、漏极D、栅极G以及有源区A。其中源极S接收来自数据线的数据信号,栅极G接收来自扫描线的扫描信号,响应于该扫描信号,薄膜晶体管TFT将数据信号通过漏极D传输至像素PX。应当理解的是,图1中仅示意性地示出了信号线和驱动电路的示例,但本公开并不限于图中示出的实施例。在实际应用中,根据显示装置的具体配置,信号线的布局和驱动电路可能会更加复杂,例如还包括补偿电路等结构。本领域技术人员已经掌握了如何在基底100中布置信号线和驱动电路的各种技术,因此在这里将不再赘述。
如图1所示,像素PX可以包括第一电极121、发光层122和第二电极123。光耦合层110可以覆盖第一电极121。在一个实施例中,光耦合层110可以与第一电极121形成为一体。在本公开的其它实施例中,第一电极121也可以被形成为覆盖发光层122和像素界定层PDL。发光层122可以覆盖第二电极123。第二电极123设置在第一电极121靠近所述衬底一侧。另外,在根据本公开的另一个实施例中,可以省略光耦合层110,并将薄膜封装层120形成为直接覆盖第一电极121,在这种情况下,薄膜封装层中的突出部125可以突出到第一电极121中。
在一个实施例中,第二电极123可以电连接到驱动电路以接收来自驱动电路的数据信号。例如,第二电极123可以电连接到薄膜晶体管TFT的漏极D,从而接收相应的数据信号。
发光层122可以包括有机发光材料,以响应于第二电极123接收到的数据信号来发出具有预定亮度的光。虽然未示出,发光层122还可以包括起辅助作用的各种功能层,例如空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层等。
第一电极121覆盖发光层122。第一电极121可以由透明导电材料形成,以使来自发光层122的光可以被透射至外部。第一电极121还可以被形成为覆盖所有像素PX以及像素PX之间的结构(例如像素界定层PDL)的公共电极。在这种情况下,突出部125可以穿过光耦合层110与第一电极121接触。或者进一步地,突出部125可以进一步突出至第一电极121内部,穿过第一电极121与像素界定层PDL接触,或者突出至像素界定层PDL的上表面内部。
光耦合层110可以被形成为覆盖第一电极121。在本实施例中,光耦合层110可以形成在第一电极121的上表面上,光耦合层110可以包括折射率大且吸光系数小(透射率高)的材料形成,从而提高光提取效率。应当理解的是,在本公开中,光耦合层110和第一电极121可以被一体地形成。
薄膜封装层120覆盖在光耦合层110上,以保护柔性显示装置的内部结构免受外部环境(例如氧气、水)的影响。薄膜封装层120可以包括单层或多层结构。例如如图1中所示,薄膜封装层120可以至少包括第一封装层128和第二封装层129。第一封装层128可以包含无机材料,第二封装层129可以包含有机材料。无机材料通常具有更好的水氧阻隔效果,有机材料通常具有更好的柔性,通过利用有机材料和无机材料各自的优点,可以使薄膜封装层120具有更好的封装效果。图1的实施例中示出了具有一个第一封装层128和一个第二封装层129,然而本公开不限于此,薄膜封装层120可以包含更多个层,例如多个无机层和多个有机层交替堆叠的结构。
突出部125可以通过在预先形成在光耦合层110中的凹槽(通孔、盲孔或其它类似结构),然后在该凹槽中形成薄膜封装层120的材料来形成。在本实施例中,突出部125可以具有圆柱形、棱柱性、圆台形、棱台形、圆锥形、棱锥形中的至少一种形状。然而本公开不限于此,根据实际需要,突出部125也可以具有不规则形状,例如使其侧壁具有弯曲形状或不规则的折线,以进一步增大接触面积。
图2示出了本公开的一个实施例提供的柔性显示装置的俯视图。如图2所示,像素界定层PDL在柔性显示装置上限定了多个像素PX。多个PX可以以矩阵方式布置在显示装置中,并且可以分别被配置为发射不同颜色的光,例如红色(R)、绿色(G)和蓝色(B),以实现彩色显示。然而本公开不限于此,根据显示装置的具体配置,像素PX也可以采用发射其它颜色的光的配置,例如RGBW等。
突出部125形成在对应于像素像素界定层PDL的位置处。在根据本公开的显示装置上可以形成多个突出部125,并且这些突出部125均匀地分布在显示装置中。例如,如图2所示,在每隔2个像素之间的像素界定层PDL的位置处形成有一个突出部125。然而本公开不限于此,本领域技术人员应当理解,突出部125之间也可以具有其它距离,例如每隔5个像素、10个像素甚至每个像素之间均形成突出部125。此外,图2中示出了在行方向彼此相邻的像素之间设置突出部125,然而本公开不限于此,也可以在列方向相邻的像素之间或者像素界定层PDL的其它位置处形成突出部125。还应当理解的是,突出部125不限于以轴对称或中心对称的图形形成,也可以局部地以不规则的图形分布,只要在显示装置的整体范围内均匀地布置即可。
此外,在本公开的一个实施例中,突出部125可以在所述柔性显示基板的周边区域相对中心区域被形成为具有更大的分布密度。例如,柔性显示基板受到拉伸或弯折变形时,周边区域可能产生比中心区域更大的应力,因此可以在周边区域形成更密集的突出部,从而避免应力较大的区域发生剥离现象。
图3A至图3C是示出了本公开的一个实施例提供的柔性显示装置的制造方法的剖视图。参照图3A至图3C,该方法可以包括如下所述的多个步骤。
参照图3A,在基板100上形成像素界定层PDL以界定多个发光区域,例如像素PX,所述像素PX被配置为发出用于显示的光。如图3A所示,在基板100上形成像素界定层PDL以界定像素区域;在所述像素区域中形成第二电极123,所述第二电极耦接至所述基板100中的驱动电路(例如薄膜晶体管TFT);形成覆盖所述第二电极的发光层122;形成覆盖所述发光层以及所述像素界定层的第一电极121。
参照图3B,光耦合层110被形成,以覆盖所述像素PX。如图3B所示,在光耦合层110中形成有凹槽115。凹槽115可以被形成为对应于将要形成根据本公开的突出部125的位置处。
在本公开的一个实施例中,可以利用具有相应图案的掩模对光耦合层110进行图案化,以形成凹槽115。
参照图3C,在图3B的基础上形成覆盖光耦合层110的薄膜封装层120。如图3C所示,薄膜封装层的至少一部分填充至凹槽115中,从而形成多个突出部125。
本方法实施例中的具体细节可以参考前面参照图1和图2描述的装置实施例,在这里将不再赘述。
根据本公开的柔性显示装置中薄膜封装层具有多个突出到光耦合层中的突出部,从而增大了接触面积,进而增大了界面粘附力,避免了柔性显示装置在弯曲过程中出现层间的剥离现象,提高了弯曲部分的稳定性,因此能够提高柔性显示装置的制造良率和使用寿命。
在本发明中,术语“第一”、“第二”仅用于描述的目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性;术语“多个”表示两个或两个以上。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种柔性显示基板,包括:
衬底;
设置于所述衬底上的像素界定层,界定多个发光区;
第一电极层,设置于像素界定层远离衬底的一侧以及所述发光区,所述第一电极层上设置有多个通槽;
光耦合层,设置于所述第一电极层远离所述像素界定层的一侧,所述光耦合层上设置有多个通槽;
薄膜封装层,所述薄膜封装层覆盖所述第一电极层和光耦合层,并且在多个位置具有朝向所述像素界定层突出的突出部,所述突出部穿过所述第一电极层和光耦合层的通槽与所述像素界定层接触;所述突出部均匀地分布在所述柔性显示基板中,或者,所述突出部在所述柔性显示基板的周边区域相对中心区域被形成为具有更大的分布密度。
2.如权利要求1所述的柔性显示基板,其中,所述突出部突出到所述像素界定层中。
3.如权利要求1所述的柔性显示基板,其中,所述突出部在所述衬底上的正投影在所述像素界定层在所述衬底上的正投影范围内。
4.如权利要求1所述的柔性显示基板,其中,所述突出部具有圆柱形、棱柱性、圆台形、棱台形、圆锥形、棱锥形中的至少一种形状。
5.如权利要求1所述的柔性显示基板,其中,所述发光区还包括设置在所述第一电极层靠近所述衬底一侧的第二电极层以及设置在所述第一电极层与所述第二电极层之间的发光层。
6.一种柔性显示装置,包括:
如权利要求1-5任一项所述的柔性显示基板。
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