CN109055903B - 一种真空溅镀装置 - Google Patents
一种真空溅镀装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109055903B CN109055903B CN201810989322.1A CN201810989322A CN109055903B CN 109055903 B CN109055903 B CN 109055903B CN 201810989322 A CN201810989322 A CN 201810989322A CN 109055903 B CN109055903 B CN 109055903B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- reaction cavity
- rod
- mounting
- connecting rod
- motor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明属于真空溅镀技术领域，具体的说是一种真空溅镀装置，包括反应腔、靶材、一号电机、连接轴、安装板、顶板与一号固定件；靶材左右对称安装在反应腔的内壁上，靶材用于产生镀膜所需的金属粒子；一号电机安装在反应腔底部，一号电机位于反应腔外部；连接轴安装位于反应腔内，连接轴下端与一号电机输出轴相连接，连接轴上端转动安装在反应腔顶部；安装板通过连接轴安装在反应腔内，安装板位于反应腔底部；顶板通过连接轴安装在反应腔内，顶板位于底部上方；一号固定件上端安装在顶板下表面，一号固定件下端安装在安装板上表面，一号固定件数量若干，一号固定件用于固定基材。
Description
技术领域
本发明属于真空溅镀技术领域，具体的说是一种真空溅镀装置。
背景技术
溅镀，通常指的是磁控溅镀，属于高速低温溅镀法。该工艺要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，由于辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等粒子体，等粒子体将金属靶材的原子轰出，沉积在塑胶基材上。溅镀与常用的蒸发镀相比，溅镀具有电镀层与基材的结合力强，附着力比蒸发镀高过10倍以上，电镀层致密等优点。溅镀的成品的表面的镀膜厚度的均匀性直接决定溅镀后成品的质量，但是现有的设备无法是的溅镀后的基材表面的镀膜厚度一致。
专利文献一：溅镀装置，申请号：2010106052656
上述专利文献1中，通过第一料杆与第二料杆的转动带动基材转动，但是料杆只能绕轴心公转无法自传，从而使得基材外表面与金属粒子接触的机会比基材内表面与金属粒子的接触机会多，从而使得基材外表面的镀膜比基材内表面的基材镀膜厚，该发明实用性不高。
发明内容
为了弥补现有技术的不足，本发明提出的一种真空溅镀装置，通过利用气缸对带动连杆上下运动，利用连杆的内螺纹与一号推杆上的外螺纹相互配合，从而使得连杆在一号推杆上上下运动并转动，进而使得连杆上的安装件与基材随着连杆转动，使得基材的每一处与金属粒子的接触机会相同，使得基材成品的镀膜更加均匀。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明所述的一种真空溅镀装置，包括反应腔、靶材、一号电机、连接轴、安装板、顶板与一号固定件；所述靶材左右对称安装在反应腔的内壁上，靶材用于产生镀膜所需的金属粒子；所述一号电机安装在反应腔底部，一号电机位于反应腔外部；所述连接轴安装位于反应腔内，连接轴下端与一号电机输出轴相连接，连接轴上端转动安装在反应腔顶部；所述安装板通过连接轴安装在反应腔内，安装板位于反应腔底部；所述顶板通过连接轴安装在反应腔内，顶板位于底部上方；所述一号固定件上端安装在顶板下表面，一号固定件下端安装在安装板上表面，一号固定件数量若干，一号固定件用于固定基材。工作时，将基材安装在一号固定件上，对反应腔抽真空并向反应腔中注入足量的氩气，注完氩气后，开启一号电机，安装板与顶板在一号电机的作用下转动，从而使得一号固定件随着顶板与安装板同步转动，使得一号固定件上的基材与靶材产生的金属粒子充分接触，从而使得基材表面的镀膜更加均匀，加快的溅镀的速度，提高了工作效率，提高了成品的质量。
所述一号固定件包括转轴、滑轮、一号推杆、气缸、连杆、浮动接头与安装件；所述顶板的下表面还设有截面为十字形的滑道，滑道轨迹为圆弧形，截面为十字形保证了转轴与滑轮不会从滑道内脱落，滑道数量与一号固定件数量相同；所述转轴安装在滑道内，转轴可以在滑道内滑动；所述滑轮通过转轴安装在滑道内，滑轮可以在滑道内滚动，滑轮用于带动转轴在滑道内滑动；所述一号推杆上端与转轴相铰接；所述气缸安装在安装板上，气缸数量与一号固定件的数量相同；所述连杆底端与气缸的活塞杆相接触，连杆上端设有圆形凹槽，一号推杆的下端通过弹簧安装在连杆上端的圆形凹槽内；所述浮动接头分别位于连杆的底端与气缸活塞杆的顶端，浮动接头用于保证连杆的多角度转动；所述安装件数量若干，安装件对称布置在连杆上，安装件用于安装基材。工作时，气缸的活塞杆伸出对连杆进行挤压，从而使得连杆上端的一号推杆在连杆的作用下受到向上的力，此时一号推杆对转轴提供向上的力，使得转轴带动滑轮在滑道内移动，当气缸的活塞杆缩回时，气缸对连杆提供一个向下的力，使得连杆与一号推杆、滑轮、转轴回到初始的位置，从而使得连杆来回摆动，使得基材随着连杆一起摆动，由于滑道的轨迹为弧形，使得连杆与连杆上固定的基材沿弧形轨迹摆动，使得基材更好的与靶材上产生的金属粒子接触，进而使得基材上的镀膜更加的均匀，同时加块了工作效率，节约了时间；过程中，浮动接头的存在保证了连杆与气缸活塞杆不发生脱离，同时保证了连杆可以多角度运动。
所述安装件包括安装块、吸盘与二号推杆，所述安装块安装在连杆上，安装块上设有圆形凹槽；所述二号推杆一端通过弹簧安装在安装块的圆形凹槽内，二号推杆另一端位于安装块外；所述吸盘安装在二号推杆上，吸盘用于固定基材。工作时，将筒状的基材通过安装件上的吸盘安装，将柔性的基材弯曲成筒状安装在安装件上，弹簧推动二号推杆对基材的内壁进行挤压，吸盘对基材的内壁进行吸附，使得基材被牢固的固定，避免了基材在溅镀时发生松动，从而使得成品基材的镀膜均匀，提高了成品基材的品质。
所述连杆的圆形凹槽中设有内螺纹；所述一号推杆的下端设有外螺纹，外螺纹与连杆的内螺纹相匹配，外螺纹的存在使得连杆上下运动时绕着一号推杆发生转动。工作时，连杆在气缸活塞杆的作用下上下运动，连杆中的内螺纹与一号推杆下端的外螺纹的存在使得连杆在上下运动时绕着一号推杆转动，从而使得基材随着连杆一起转动，使得基材的各个部位与金属粒子接触机会相同，进而使得基材的镀膜更加均匀，提高了基材溅镀后的品质。
所述连接轴上还设有凸轮，凸轮位于反应腔外部；所述反应腔底部还固定有气囊，气囊位于反应腔外部，气囊为弹性气囊；所述反应腔的底板中还设有一号空腔，一号空腔与气囊、连接轴内部通道相连通，一号空腔用于实现气囊与连接轴内部的通道之间的气流流通；所述安装板内部还设有二号空腔，二号空腔与气缸、连接轴内部通道相连通，二号空腔用于实现连接轴内部通道与气缸之间的气流流通。工作时，一号电机带动凸轮转动，从而使得凸轮对气囊进行间歇性的挤压，由于气囊与一号空腔、连接轴内部的通道、二号空腔、气缸之间形成了气流通路，从而使得气囊受挤压后将气体输送至气缸中，气囊为弹性气囊使得气囊受挤压后可以恢复，使得凸轮与气囊脱离接触时，气缸中的气体又从气流通路中返回气囊中，从而使得气缸活塞杆不断的伸缩，使得连杆转动并沿着弧形轨迹摆动，进而使得基材的镀膜更加均匀，提高了成品的质量，提高了工作效率，同时利用气囊实现气缸活塞杆的伸缩，节约了成本。
所述反应腔内还设有二号固定件，二号固定件包括螺杆、旋钮、筒夹、顶杆、一号齿轮、二号电机与二号齿轮；所述顶板上还设有若干螺纹孔；所述螺杆通过顶板上的螺纹孔安装在顶板上；所述旋钮安装在螺杆的上端，旋钮用于控制螺杆的上下运动；所述筒夹转动安装在螺杆的下端，筒夹用于夹持基材或其他的夹具；所述顶杆转动安装在安装板上，顶杆上端为圆弧形，顶杆的数量与分布与筒夹相对应，顶杆用于支撑基材并带动基材转动；所述一号齿轮安装在顶杆上，一号齿轮用于带动顶杆转动；所述二号电机安装在安装板上，二号电机为空心轴电机，二号电机轴心与连接轴轴心相同；所述二号齿轮固定在二号电机的输出轴上，二号齿轮与一号齿轮相啮合，二号齿轮用于带动一号齿轮转动。工作时，当基材为实心的柱状基材时，将基材的上端通过筒夹夹紧，通过旋钮调节螺杆的上下，使得筒夹与基材上下运动，使得基材的下端与顶杆顶端相接触并抵死，从而使得基材稳定的安装，顶杆上端为圆弧形，使得基材不会受到损伤，提高了装置的实用性，提高了溅镀后的基材的品质；当基材为其他形状时，将相对应的夹头通过筒夹安装，再调节筒夹的位置，将基材固定好，从而实现了各种实心的基材的固定，提高了装置的实用性，使得装置可以对各种基材进行溅镀；基材安装好后，开启二号电机，二号电机带动二号齿轮转动，二号齿轮带动一号齿轮与顶杆转动，从而使得顶杆上的基材在顶杆的作用下发生转动，顶杆的转动安装与筒夹的转动安装保证了基材可以在顶杆与筒夹之间转动，从而使得基材上的各点与金属粒子接触的机会相同，使得成品的基材镀膜均匀，提高了成品基材的品质，同时提高了溅镀的效率，提高了生产率。
所述反应腔为矩形；所述基材与靶材所连接的电极极性可变换。工作时，由于反应腔为矩形，当基材为较硬的材质时，或者基材弯曲会发生损伤时，将基材安装在靶材的位置，选取筒状靶材或将靶材卷曲为筒状，在将靶材固定在一号固定件上，对基材与靶材所连接的电极的极性进行对调，再通过溅镀装置对基材进行溅镀，从而使得装置可以对硬质板材进行溅镀，拓宽了装置的适用范围，提高了装置的实用性。
本发明的有益效果如下：
1.本发明所述的一种真空溅镀装置，通过利用气缸对带动连杆上下运动，利用连杆的内螺纹与一号推杆上的外螺纹相互配合，从而使得连杆在一号推杆上上下运动并转动，进而使得连杆上的安装件与基材随着连杆转动，使得基材的每一处与金属粒子的接触机会相同，使得基材成品的镀膜更加均匀。
2.本发明所述的一种真空溅镀装置，通过利用滑轮与顶板上的弧形滑道相互配合，使得滑轮在一号推杆的挤压作用下在滑道内运动时，一号推杆随着滑轮沿弧形轨迹运动，从而使得连杆带动基材沿弧形轨迹来回运动，进而使得基材的镀膜更加均匀，同时提高了工作效率，节约了时间。
3.本发明所述的一种真空溅镀装置，通过设置筒夹、顶杆、螺杆与旋钮，使得实心的基材可以通过筒夹与顶杆固定在反应腔内，从而使得溅镀装置可以对各种基材进行溅镀，提高了溅镀装置的适用范围，提高了装置的实用性。
附图说明
图1是本发明的主视图；
图2是图1中A-A剖视图；
图3是图1中B处的局部放大图；
图中：反应腔1、靶材2、一号电机3、连接轴4、安装板5、顶板6、一号固定件7、二号固定件8、气囊11、凸轮41、滑道61、滑轮71、一号推杆72、气缸73、连杆74、浮动接头75、安装件76、安装块761、吸盘762、二号推杆763、螺杆81、旋钮82、筒夹83、顶杆84、一号齿轮85、二号电机86、二号齿轮87。
具体实施方式
使用图1-图3对本发明一实施方式的真空溅镀装置的结构进行如下说明。
如图1所示，本发明所述的一种真空溅镀装置，包括反应腔1、靶材2、一号电机3、连接轴4、安装板5、顶板6与一号固定件7；所述靶材2左右对称安装在反应腔1的内壁上，靶材2用于产生镀膜所需的金属粒子；所述一号电机3安装在反应腔1底部，一号电机3位于反应腔1外部；所述连接轴4安装位于反应腔1内，连接轴4下端与一号电机3输出轴相连接，连接轴4上端转动安装在反应腔1顶部；所述安装板5通过连接轴4安装在反应腔1内，安装板5位于反应腔1底部；所述顶板6通过连接轴4安装在反应腔1内，顶板6位于底部上方；所述一号固定件7上端安装在顶板6下表面，一号固定件7下端安装在安装板5上表面，一号固定件7数量若干，一号固定件7用于固定基材。工作时，将基材安装在一号固定件7上，对反应腔1抽真空并向反应腔1中注入足量的氩气，注完氩气后，开启一号电机3，安装板5与顶板6在一号电机3的作用下转动，从而使得一号固定件7随着顶板6与安装板5同步转动，使得一号固定件7上的基材与靶材2产生的金属粒子充分接触，从而使得基材表面的镀膜更加均匀，加快的溅镀的速度，提高了工作效率，提高了成品的质量。
如图1与图2所示，所述一号固定件7包括转轴、滑轮71、一号推杆72、气缸73、连杆74、浮动接头75与安装件76；所述顶板6的下表面还设有截面为十字形的滑道61，滑道61轨迹为圆弧形，截面为十字形保证了转轴与滑轮71不会从滑道61内脱落，滑道61数量与一号固定件7数量相同；所述转轴安装在滑道61内，转轴可以在滑道61内滑动；所述滑轮71通过转轴安装在滑道61内，滑轮71可以在滑道61内滚动，滑轮71用于带动转轴在滑道61内滑动；所述一号推杆72上端与转轴相铰接；所述气缸73安装在安装板5上，气缸73数量与一号固定件7的数量相同；所述连杆74底端与气缸73的活塞杆相接触，连杆74上端设有圆形凹槽，一号推杆72的下端通过弹簧安装在连杆74上端的圆形凹槽内；所述浮动接头75分别位于连杆74的底端与气缸73活塞杆的顶端，浮动接头75用于保证连杆74的多角度转动；所述安装件76数量若干，安装件76对称布置在连杆74上，安装件76用于安装基材。工作时，气缸73的活塞杆伸出对连杆74进行挤压，从而使得连杆74上端的一号推杆72在连杆74的作用下受到向上的力，此时一号推杆72对转轴提供向上的力，使得转轴带动滑轮71在滑道61内移动，当气缸73的活塞杆缩回时，气缸73对连杆74提供一个向下的力，使得连杆74与一号推杆72、滑轮71、转轴回到初始的位置，从而使得连杆74来回摆动，使得基材随着连杆74一起摆动，由于滑道61的轨迹为弧形，使得连杆74与连杆74上固定的基材沿弧形轨迹摆动，使得基材更好的与靶材2上产生的金属粒子接触，进而使得基材上的镀膜更加的均匀，同时加块了工作效率，节约了时间；过程中，浮动接头75的存在保证了连杆74与气缸73活塞杆不发生脱离，同时保证了连杆74可以多角度运动。
如图3所示，所述安装件76包括安装块761、吸盘762与二号推杆763，所述安装块761安装在连杆74上，安装块761上设有圆形凹槽；所述二号推杆763一端通过弹簧安装在安装块761的圆形凹槽内，二号推杆763另一端位于安装块761外；所述吸盘762安装在二号推杆763上，吸盘762用于固定基材。工作时，将筒状的基材通过安装件76上的吸盘762安装，将柔性的基材弯曲成筒状安装在安装件76上，弹簧推动二号推杆763对基材的内壁进行挤压，吸盘762对基材的内壁进行吸附，使得基材被牢固的固定，避免了基材在溅镀时发生松动，从而使得成品基材的镀膜均匀，提高了成品基材的品质。
如图1与图3所示，所述连杆74的圆形凹槽中设有内螺纹；所述一号推杆72的下端设有外螺纹，外螺纹与连杆74的内螺纹相匹配，外螺纹的存在使得连杆74上下运动时绕着一号推杆72发生转动。工作时，连杆74在气缸73活塞杆的作用下上下运动，连杆74中的内螺纹与一号推杆72下端的外螺纹的存在使得连杆74在上下运动时绕着一号推杆72转动，从而使得基材随着连杆74一起转动，使得基材的各个部位与金属粒子接触机会相同，进而使得基材的镀膜更加均匀，提高了基材溅镀后的品质。
如图1所示，所述连接轴4上还设有凸轮41，凸轮41位于反应腔1外部；所述反应腔1底部还固定有气囊11，气囊11位于反应腔1外部，气囊11为弹性气囊11；所述反应腔1的底板中还设有一号空腔，一号空腔与气囊11、连接轴4内部通道相连通，一号空腔用于实现气囊11与连接轴4内部的通道之间的气流流通；所述安装板5内部还设有二号空腔，二号空腔与气缸73、连接轴4内部通道相连通，二号空腔用于实现连接轴4内部通道与气缸73之间的气流流通。工作时，一号电机3带动凸轮41转动，从而使得凸轮41对气囊11进行间歇性的挤压，由于气囊11与一号空腔、连接轴4内部的通道、二号空腔、气缸73之间形成了气流通路，从而使得气囊11受挤压后将气体输送至气缸73中，气囊11为弹性气囊11使得气囊11受挤压后可以恢复，使得凸轮41与气囊11脱离接触时，气缸73中的气体又从气流通路中返回气囊11中，从而使得气缸73活塞杆不断的伸缩，使得连杆74转动并沿着弧形轨迹摆动，进而使得基材的镀膜更加均匀，提高了成品的质量，提高了工作效率，同时利用气囊11实现气缸73活塞杆的伸缩，节约了成本。
如图1所示，所述反应腔1内还设有二号固定件8，二号固定件8包括螺杆81、旋钮82、筒夹83、顶杆84、一号齿轮85、二号电机86与二号齿轮87；所述顶板6上还设有若干螺纹孔；所述螺杆81通过顶板6上的螺纹孔安装在顶板6上；所述旋钮82安装在螺杆81的上端，旋钮82用于控制螺杆81的上下运动；所述筒夹83转动安装在螺杆81的下端，筒夹83用于夹持基材或其他的夹具；所述顶杆84转动安装在安装板5上，顶杆84上端为圆弧形，顶杆84的数量与分布与筒夹83相对应，顶杆84用于支撑基材并带动基材转动；所述一号齿轮85安装在顶杆84上，一号齿轮85用于带动顶杆84转动；所述二号电机86安装在安装板5上，二号电机86为空心轴电机，二号电机86轴心与连接轴4轴心相同；所述二号齿轮87固定在二号电机86的输出轴上，二号齿轮87与一号齿轮85相啮合，二号齿轮87用于带动一号齿轮85转动。工作时，当基材为实心的柱状基材时，将基材的上端通过筒夹83夹紧，通过旋钮82调节螺杆81的上下，使得筒夹83与基材上下运动，使得基材的下端与顶杆84顶端相接触并抵死，从而使得基材稳定的安装，顶杆84上端为圆弧形，使得基材不会受到损伤，提高了装置的实用性，提高了溅镀后的基材的品质；当基材为其他形状时，将相对应的夹头通过筒夹83安装，再调节筒夹83的位置，将基材固定好，从而实现了各种实心的基材的固定，提高了装置的实用性，使得装置可以对各种基材进行溅镀；基材安装好后，开启二号电机86，二号电机86带动二号齿轮87转动，二号齿轮87带动一号齿轮85与顶杆84转动，从而使得顶杆84上的基材在顶杆84的作用下发生转动，顶杆84的转动安装与筒夹83的转动安装保证了基材可以在顶杆84与筒夹83之间转动，从而使得基材上的各点与金属粒子接触的机会相同，使得成品的基材镀膜均匀，提高了成品基材的品质，同时提高了溅镀的效率，提高了生产率。
如图1所示，所述反应腔1为矩形；所述基材与靶材2所连接的电极极性可变换。工作时，由于反应腔1为矩形，当基材为较硬的材质时，或者基材弯曲会发生损伤时，将基材安装在靶材2的位置，选取筒状靶材2或将靶材2卷曲为筒状，在将靶材2固定在一号固定件7上，对基材与靶材2所连接的电极的极性进行对调，再通过溅镀装置对基材进行溅镀，从而使得装置可以对硬质板材进行溅镀，拓宽了装置的适用范围，提高了装置的实用性。
具体工作流程如下：
工作时，将空心的筒状基材安装在一号固定件7的安装件76上，对柔性可恢复的基材进行弯曲，使得基材成为筒状，再将基材安装在一号固定件7的安装件76上，安装件76上的弹簧推动二号推杆763对基材的内壁进行挤压，吸盘762对基材的内壁进行吸附，使得基材被牢固的固定，避免了基材在溅镀时发生松动，从而使得成品基材的镀膜均匀，提高了成品基材的品质；将实心的柱状基材的上端安装在筒夹83中，通过旋钮82调节螺杆81的上下，使得筒夹83与基材上下运动，使得基材的下端与顶杆84顶端相接触并抵死，从而使得基材稳定的安装，顶杆84上端为圆弧形，使得基材不会受到损伤，提高了装置的实用性，提高了溅镀后的基材的品质；当基材为其他形状时，将相对应的夹头通过筒夹83安装，再调节筒夹83的位置，将基材固定好，从而实现了各种实心的基材的固定，提高了装置的实用性，使得装置可以对各种基材进行溅镀；基材安装好后，对反应腔1抽真空并向反应腔1中注入足量的氩气，注完氩气后，开启一号电机3与二号电机86，安装板5与顶板6在一号电机3的作用下转动，从而使得一号固定件7随着顶板6与安装板5同步转动，使得一号固定件7上的基材与靶材2产生的金属粒子充分接触，从而使得基材表面的镀膜更加均匀，加快的溅镀的速度，提高了工作效率，提高了成品的质量。
过程中，凸轮41在一号电机3的作用下转动并对气囊11进行间歇性的挤压，由于气囊11与一号空腔、连接轴4内部的通道、二号空腔、气缸73之间形成了气流通路，从而使得气囊11受挤压后将气体输送至气缸73中，气囊11为弹性气囊11使得气囊11受挤压后可以恢复，使得凸轮41与气囊11脱离接触时，气缸73中的气体又从气流通路中返回气囊11中，从而使得气缸73活塞杆不断的伸缩，当气缸73活塞杆伸出时，活塞杆对连杆74进行挤压，从而使得连杆74上端的一号推杆72在连杆74的作用下受到向上的力，此时一号推杆72对转轴与滑轮71提供向上的力，使得转轴与滑轮71在滑道61内移动，当气缸73的活塞杆缩回时，气缸73带动对连杆74提供一个向下的力，使得连杆74与一号推杆72、滑轮71、转轴回到初始的位置，从而使得连杆74来回摆动，使得基材随着连杆74一起摆动，由于滑道61的轨迹为弧形，使得连杆74与连杆74上固定的基材沿弧形轨迹摆动，使得基材更好的与靶材2上产生的金属粒子接触，进而使得基材上的镀膜更加的均匀，同时加快了工作效率，节约了时间；过程中，浮动接头75的存在保证了连杆74与气缸73活塞杆不发生脱离，同时保证了连杆74可以多角度运动；连杆74在气缸73活塞杆的作用下上下运动时，连杆74中的内螺纹与一号推杆72下端的外螺纹的存在使得连杆74上下运动时绕着一号推杆72转动，从而使得基材随着连杆74一起转动，使得基材的各个部位与金属粒子接触机会相同，进而使得基材的镀膜更加均匀，提高了基材溅镀后的品质。
二号电机86的转动，使得二号齿轮87转动，二号齿轮87带动一号齿轮85与顶杆84转动，从而使得顶杆84上的基材在顶杆84的作用下发生转动，顶杆84的转动安装与筒夹83的转动安装保证了基材可以在顶杆84与筒夹83之间转动，从而使得基材上的各点与金属粒子接触的机会相同，使得成品的基材镀膜均匀，提高了成品基材的品质，同时提高了溅镀的效率，提高了生产率。由于反应腔1为矩形，当基材为较硬的材质时，或者基材弯曲会发生损伤时，将基材安装在靶材2的位置，选取筒状靶材2或将靶材2卷曲为筒状，在将靶材2固定在一号固定件7上，对基材与靶材2所连接的电极的极性进行对调，再通过溅镀装置对基材进行溅镀，从而使得装置可以对硬质板材进行溅镀，拓宽了装置的适用范围，提高了装置的实用性。
以上，关于本发明的一实施方式进行了说明，但本发明不限于上述实施方式，在不脱离本发明主旨的范围内能够进行各种变更。
(A)在上述实施方式中，通过一号齿轮与二号齿轮啮合，利用二号齿轮带动一号齿轮转动，从而实现顶杆的转动，但不限于此，也可以利用带轮来代替齿轮，通过带传动实现顶杆的转动。
工业实用性
根据本发明，各种基材均能够顺利地在此真空溅镀装置中进行溅镀，并且镀膜均匀，从而此真空溅镀装置在真空溅镀技术领域中是有用的。
Claims (2)
1.一种真空溅镀装置，其特征在于：包括反应腔(1)、靶材(2)、一号电机(3)、连接轴(4)、安装板(5)、顶板(6)与一号固定件(7)；所述靶材(2)左右对称安装在反应腔(1)的内壁上，靶材(2)用于产生镀膜所需的金属粒子；所述一号电机(3)安装在反应腔(1)底部，一号电机(3)位于反应腔(1)外部；所述连接轴(4)安装位于反应腔(1)内，连接轴(4)下端与一号电机(3)输出轴相连接，连接轴(4)上端转动安装在反应腔(1)顶部；所述安装板(5)通过连接轴(4)安装在反应腔(1)内，安装板(5)位于反应腔(1)底部；所述顶板(6)通过连接轴(4)安装在反应腔(1)内，顶板(6)位于底部上方；所述一号固定件(7)上端安装在顶板(6)下表面，一号固定件(7)下端安装在安装板(5)上表面，一号固定件(7)数量若干，一号固定件(7)用于固定基材；
所述一号固定件(7)包括转轴、滑轮(71)、一号推杆(72)、气缸(73)、连杆(74)、浮动接头(75)与安装件(76)；所述顶板(6)的下表面还设有截面为十字形的滑道(61)，滑道(61)轨迹为圆弧形，滑道(61)数量与一号固定件(7)数量相同；所述转轴安装在滑道(61)内，转轴可以在滑道(61)内滑动；所述滑轮(71)通过转轴安装在滑道(61)内，滑轮(71)可以在滑道(61)内滚动，滑轮(71)用于带动转轴在滑道(61)内滑动；所述一号推杆(72)上端与转轴相铰接；所述气缸(73)安装在安装板(5)上，气缸(73)数量与一号固定件(7)的数量相同；所述连杆(74)底端与气缸(73)的活塞杆相接触，连杆(74)上端设有圆形凹槽，一号推杆(72)的下端通过弹簧安装在连杆(74)上端的圆形凹槽内；所述浮动接头(75)分别位于连杆(74)的底端与气缸(73)活塞杆的顶端，浮动接头(75)用于保证连杆(74)的多角度转动；所述安装件(76)数量若干，安装件(76)对称布置在连杆(74)上，安装件(76)用于安装基材；
所述安装件(76)包括安装块(761)、吸盘(762)与二号推杆(763)，所述安装块(761)安装在连杆(74)上，安装块(761)上设有圆形凹槽；所述二号推杆(763)一端通过弹簧安装在安装块(761)的圆形凹槽内，二号推杆(763)另一端位于安装块(761)外；所述吸盘(762)安装在二号推杆(763)上，吸盘(762)用于固定基材；
所述连杆(74)的圆形凹槽中设有内螺纹；所述一号推杆(72)的下端设有外螺纹，外螺纹与连杆(74)的内螺纹相匹配，外螺纹的存在使得连杆(74)上下运动时绕着一号推杆(72)发生转动；
所述连接轴(4)上还设有凸轮(41)，凸轮(41)位于反应腔(1)外部；所述反应腔(1)底部还固定有气囊(11)，气囊(11)位于反应腔(1)外部，气囊(11)为弹性气囊；所述反应腔(1)的底板中还设有一号空腔，一号空腔与气囊(11)、连接轴(4)内部通道相连通，一号空腔用于实现气囊(11)与连接轴(4)内部的通道之间的气流流通；所述安装板(5)内部还设有二号空腔，二号空腔与气缸(73)、连接轴(4)内部通道相连通，二号空腔用于实现连接轴(4)内部通道与气缸(73)之间的气流流通；
所述反应腔(1)内还设有二号固定件(8)，二号固定件(8)包括螺杆(81)、旋钮(82)、筒夹(83)、顶杆(84)、一号齿轮(85)、二号电机(86)与二号齿轮(87)；所述顶板(6)上还设有若干螺纹孔；所述螺杆(81)通过顶板(6)上的螺纹孔安装在顶板(6)上；所述旋钮(82)安装在螺杆(81)的上端，旋钮(82)用于控制螺杆(81)的上下运动；所述筒夹(83)转动安装在螺杆(81)的下端，筒夹(83)用于夹持基材或其他的夹具；所述顶杆(84)转动安装在安装板(5)上，顶杆(84)上端为圆弧形，顶杆(84)的数量与分布与筒夹(83)相对应，顶杆(84)用于支撑基材并带动基材转动；所述一号齿轮(85)安装在顶杆(84)上，一号齿轮(85)用于带动顶杆(84)转动；所述二号电机(86)安装在安装板(5)上，二号电机(86)为空心轴电机，二号电机(86)轴心与连接轴(4)轴心相同；所述二号齿轮(87)固定在二号电机(86)的输出轴上，二号齿轮(87)与一号齿轮(85)相啮合，二号齿轮(87)用于带动一号齿轮(85)转动。
2.根据权利要求1所述的一种真空溅镀装置，其特征在于：所述反应腔(1)为矩形框；所述基材与靶材(2)所连接的电极极性可变换。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810989322.1A CN109055903B (zh) | 2018-08-28 | 2018-08-28 | 一种真空溅镀装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810989322.1A CN109055903B (zh) | 2018-08-28 | 2018-08-28 | 一种真空溅镀装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109055903A CN109055903A (zh) | 2018-12-21 |
| CN109055903B true CN109055903B (zh) | 2020-09-22 |
Family
ID=64757512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810989322.1A Active CN109055903B (zh) | 2018-08-28 | 2018-08-28 | 一种真空溅镀装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109055903B (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110904423B (zh) * | 2019-12-31 | 2024-05-14 | 昆山吉纳尔车料有限公司 | 一种用于真空镀膜的车架挂具 |
| CN112207595A (zh) * | 2020-09-07 | 2021-01-12 | 河南中烟工业有限责任公司 | 一种自清洁式烟盒板料切割装置 |
| CN112157512A (zh) * | 2020-09-07 | 2021-01-01 | 河南中烟工业有限责任公司 | 一种烟盒板料去毛刺装置 |
| CN112290905B (zh) * | 2020-11-10 | 2024-03-22 | 四川大学 | 一种基于磁控溅射对石英谐振器升频调节的方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102534516A (zh) * | 2010-12-25 | 2012-07-04 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 溅镀装置 |
| CN102560381A (zh) * | 2010-12-29 | 2012-07-11 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 溅镀装置 |
-
2018
- 2018-08-28 CN CN201810989322.1A patent/CN109055903B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102534516A (zh) * | 2010-12-25 | 2012-07-04 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 溅镀装置 |
| CN102560381A (zh) * | 2010-12-29 | 2012-07-11 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 溅镀装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109055903A (zh) | 2018-12-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109055903B (zh) | 一种真空溅镀装置 | |
| CN100343416C (zh) | 微颗粒表面真空镀金属膜工艺及其设备 | |
| US5382339A (en) | Shield and collimator pasting deposition chamber with a side pocket for pasting the bottom of the collimator | |
| US7855156B2 (en) | Method of and apparatus for inline deposition of materials on a non-planar surface | |
| CN104862656B (zh) | 双向沉积镀膜装置及镀膜方法 | |
| CN1500908A (zh) | 磁控管溅镀装置和方法 | |
| CN110128022B (zh) | 一种大型曲面玻璃真空溅射镀膜装置 | |
| TWI704594B (zh) | 成膜方法及成膜裝置 | |
| CN109151113B (zh) | 一种手机玻璃盖板的制作工艺 | |
| CN206706198U (zh) | 磁控溅射装置和磁控溅射设备 | |
| CN110527966B (zh) | 一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备 | |
| CN100582292C (zh) | 溅镀装置 | |
| CN108950497B (zh) | 一种基于辉光放电原理将金属沉积在塑胶基材表面的镀膜系统 | |
| CN116200710A (zh) | 一种真空离子溅射镀膜机及超薄薄膜连续金属化方法 | |
| CN109830418B (zh) | 用于驱动磁控管的扫描机构、磁控源和磁控溅射设备 | |
| CN112210752A (zh) | 一种沉积dlc薄膜的磁控溅射技术和镀膜机 | |
| CN218710812U (zh) | 一种新型磁控溅射镀膜载具 | |
| CN103911592A (zh) | 一种磁控溅射装置及方法 | |
| KR100268216B1 (ko) | 대구경중공음극방전건을이용한이온플레이팅장치및그방법 | |
| KR100323991B1 (ko) | 박막 제조 방법 및 제조 장치 | |
| JP2009074181A (ja) | 薄膜の製造方法および薄膜製造装置 | |
| CN216688286U (zh) | 一种蒸发台的等离子清洗装置 | |
| CN220034639U (zh) | 新型晶体生产用磁控溅射镀膜机 | |
| CN205710902U (zh) | 增强型磁控溅射卷绕镀膜设备 | |
| WO2021223589A1 (zh) | 微波器件的制造设备和制造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| TA01 | Transfer of patent application right | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20200831 Address after: 322109, Weishan Town, Zhejiang City, Dongyang province Jinhua Industrial Zone Applicant after: DONGYANG JIAQIANG PLASTIC Co.,Ltd. Address before: 510641, 381, five mountain road, Guangzhou, Guangdong, Tianhe District, China Applicant before: Yu Zejun |
|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |