CN109048508A - 一种镀膜玻璃的处理方法及玻璃抛光设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种镀膜玻璃的处理方法，包括：预先将玻璃基板设置在抛光设备的卡具上；通过所述抛光设备对所述玻璃基板的表面进行抛光处理，其中，所述玻璃基板被抛光的表面为具有镀膜要求不合格的膜层的表面；将所述玻璃基板被抛光的表面进行清洗处理；将所述玻璃基板被清洗处理的表面重新镀膜。本发明中所提供的技术方案相当于对镀膜不合格的玻璃基板进行了重新的回收利用，减小了玻璃基板的废弃率，降低了显示屏的生产成本，有利于显示屏更广泛的使用。本发明中还提供了一种玻璃抛光设备，在抛光皮上设置弹性缓冲层，提高了对玻璃基板不平整表面抛光的均匀性。

Description

一种镀膜玻璃的处理方法及玻璃抛光设备

技术领域

本发明涉及玻璃镀膜技术领域，特别是涉及一种镀膜玻璃的处理方法及玻璃抛光设备，。

背景技术

随着各种电子设备技术的发展，各种具有显示屏的电子设备受到人们的欢迎，被广泛应用于各种设备中。使得显示屏的组件也被越来越频繁的使用。

其中显示屏中最重要的部件之一就是玻璃层，在显示屏的内部显示组件以及最外层的盖板都或多或少应用到玻璃，且还需要在玻璃的表面设置各种膜层。而在设置膜层过程中，难免存在镀膜不合格的情况，导致玻璃层无法使用，进而被报废，增加了显示屏的使用成本。

发明内容

本发明的目的是提供一种镀膜玻璃的处理方法及玻璃抛光设备，解决了由于玻璃表面镀膜不合格，导致的玻璃部件报废率高的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种镀膜玻璃的处理方法，其特征在于，包括：

预先将玻璃基板设置在抛光设备的卡具上；

通过所述抛光设备对所述玻璃基板的表面进行抛光处理，其中，所述玻璃基板被抛光的表面为具有镀膜要求不合格的膜层的表面；

将所述玻璃基板被抛光的表面进行清洗处理；

将所述玻璃基板被清洗处理的表面重新镀膜。

其中，所述通过抛光设备对玻璃基板表面的膜层进行抛光处理包括：

将所述玻璃基板镀有膜层的表面各个预定区域依次进行抛光处理，其中，所述预定区域为所述玻璃基板表面存在镀膜要求不合格膜层的区域。

其中，所述通过抛光设备对玻璃基板表面的膜层进行抛光处理包括：

所述抛光设备按照预设抛光时长对所述玻璃基板表面进行抛光，控制所述玻璃基板表面的抛光厚度不大于第一预设厚度，其中，所述第一预设厚度不大于所述膜层的厚度。

其中，所述控制所述玻璃基板表面的抛光厚度不大于第一预设厚度之后，还包括：

当所述玻璃基板表面被抛光的厚度小于第二预设厚度时，对所述玻璃基板表面进行二次抛光处理，再执行将所述玻璃基板被抛光的表面进行清洗处理的操作。

其中，所述玻璃基板表面被抛光的膜层为AG膜层，AR膜层，AF膜层中任意一种膜层。

其中，所述将抛光后的所述玻璃基板进行清洗处理包括：

对所述玻璃基板被抛光的表面进行超声波清洗处理。

本发明还提供了一种玻璃抛光设备，用于如上任一项所述的镀膜玻璃的处理方法，包括：

上抛光盘，贴合设置在所述上抛光盘下表面的抛光皮，下抛光盘，设置在所述下抛光盘上、用于承载玻璃基板的卡具；

其中，所述抛光皮贴合所述上抛光盘的表面还设置有弹性缓冲层；所述卡具两端和所述下抛光盘固定设置，且使得所述玻璃基板的下表面和所述下抛光盘相互隔离。

其中，所述弹性缓冲层为海绵层。

本发明所提供的镀膜玻璃的处理方法，主要基于表面镀有膜层的玻璃基板的处理。当玻璃基板上所镀的膜层不合格时，可以通过抛光设备对玻璃基板表面的膜层进行抛光清除，再进行一定的清洗处理后，重新对玻璃基板的表面进行镀膜，重新镀膜完成的玻璃基板即可重新作为显示屏的部件进行使用。本发明中所提供的技术方案相当于对镀膜不合格的玻璃基板进行了重新的回收利用，减小了玻璃基板的废弃率，降低了显示屏的生产成本，有利于显示屏更广泛的使用。

本发明中还提供了一种玻璃抛光设备，通过在抛光皮上设置弹性缓冲层，使得抛光皮能够完全贴合于弯曲的玻璃基板的表面，提高了对玻璃基板不平整表面抛光的均匀性。

附图说明

为了更清楚的说明本发明实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例所提供的镀膜玻璃的处理方法流程示意图；

图2为本发明实施例提供的玻璃抛光设备的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例提供的玻璃抛光设备的工作状态的剖面结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

目前对于显示设备而言，不可避免的需要用到玻璃层或玻璃盖板等部件。但是满足显示屏一些光学性能的需求，就需要在玻璃的表面镀膜。在对玻璃表面镀膜过程中，基于镀膜环境或其他工艺条件的影响，在玻璃表面镀膜的膜层不可避免的存在各种各样的问题，例如、膜层存在污点，污迹，色差，晶点等等不良情况。

一旦玻璃表面存在瑕疵，会严重影响显示屏的显示效果，导致显示屏不可用。因此，目前在对玻璃表面镀膜后，如果膜层存在瑕疵，该玻璃就要被废弃，造成材料的浪费，提高了玻璃基材的使用成本。

为此，本发明中提供了能够对具有瑕疵膜层的镀膜玻璃进行重新利用的处理方法，降低了玻璃基材的使用成本，进而降低显示屏的生产成本。

本发明所提供的技术方案具体如下：

如图1所示，图1为本发明实施例所提供的镀膜玻璃的处理方法流程示意图，该处理方法具体可以包括：

步骤S1：预先将玻璃基板设置在抛光设备的卡具上。

步骤S2：通过抛光设备对玻璃基板镀有膜层的表面进行抛光处理。

本实施例中对镀膜玻璃的处理主要是针对表面镀膜要求不合格的玻璃进行回收处理。

因此，在对玻璃基板进行抛光处理时，主要是对玻璃基板独有膜层的表面进行抛光，且该膜层为不符合镀膜要求的膜层。

常规的，对于显示屏中的玻璃盖板等部件而言，玻璃基板一般只有一个表面镀膜，因此，本实施例中在对玻璃盖板进行抛光时，往往只对玻璃盖板进行单面抛光。但是本发明中并不排除对双面镀膜的玻璃基板进行回收处理的实施方案。对于双面镀膜的玻璃基板，如果其双面镀膜均不符合要求，可以同时对玻璃基板两个表面均进行抛光处理。

步骤S3：将玻璃基板被抛光的表面进行清洗处理。

步骤S4：将玻璃基板被清洗处理的表面重新镀膜。

本实施例中将镀膜不合格的玻璃基板表面进行抛光处理，也即是通过抛光将玻璃基板表面不合格的膜层去除，并在玻璃基板抛光的表面进行清洗后，重新对玻璃基板表面进行镀膜。那么，该玻璃基板即可重新回收利用，而无需报废，这在很大程度上降低了玻璃基板的报废率，减小了玻璃基板的使用成本，进而减小了显示屏的生产成本，有利于显示设备的广泛应用。

基于上述实施例，对于玻璃基板表面进行抛光的具体方式可以有多种，下面分别以具体实施例详细说明。

在本发明的一种具体实施例中，上述步骤S2具体可以包括：

将玻璃基板镀有膜层的表面各个预定区域依次进行抛光处理，其中，该预定区域为玻璃基板表面存在镀膜要求不合格膜层的区域。

需要说明的是，对于玻璃基板表面的膜层可能并非整个表面的膜层均存在瑕疵。因此，在实际操作过程中，可以根据膜层上瑕疵的分布位置，将玻璃基板上需要抛光的位置进行区域划分，并只对具有瑕疵膜层的区域进行抛光处理，减小后续重新镀膜的面积。

可选地，在本发明的另一具体实施例中，对于上述步骤S2具体可以包括：

抛光设备按照预设抛光时长对玻璃基板表面进行抛光，控制玻璃基板表面的抛光厚度不大于第一预设厚度，其中，第一预设厚度不大于膜层的厚度。

需要说明的是，当抛光设备的转速、运行压力设定不变后，抛光设备对玻璃基板抛光膜层的厚度就和抛光时长成正比。

考虑到对于显示屏的玻璃盖板等部件而言，为提高显示屏的抗摔性，玻璃基板往往采用钢化玻璃盖板。因此，当抛光设备对玻璃基板进行抛光时，应避免破坏钢化玻璃表面的钢化层，导致钢化玻璃出现碎裂的情况，这就需要严格控制抛光设备的抛光时长。

具体地，可以根据玻璃基板表面膜层的厚度设定抛光厚度，并根据该抛光厚度设定抛光时长，在抛除具有瑕疵膜层，又能够保证玻璃基板破碎。

可选地，在本发明的另一具体实施例中，在按照预定抛光时长对玻璃基板进行抛光之后，还可以进一步包括：

当玻璃基板表面被抛光的厚度小于第二预设厚度时，对玻璃基板表面进行二次抛光处理，再执行上述步骤S3的操作。

需要说明的是，对于玻璃基板表面的膜层厚度一般都相对较小大概在0.3μm左右。在对玻璃基板进行抛光时，一般是将多个玻璃基板同时进行抛光处理，以便提高抛光的工作效率。

但是对于同一标准的玻璃基板，各个玻璃基板的厚度是存在误差的，也即是说玻璃基板的厚度不完全相同，而所抛光的膜层的厚度又相对较小，那么在抛光过程中，就可能存在部分玻璃基板的抛光厚度已经达到要求，而另一部分的玻璃基板未达到厚度。因此就需要将抛光厚度不符合要求的玻璃基板进行二次抛光处理，以达到抛光要求。

可选地，本发明中玻璃基板表面的膜层可以是AG膜层，AR膜层，AF膜层中任意一种膜层。

其中，AG膜层为抗眩保护膜层，AR膜层为减反射膜层，AF膜层为抗指纹膜层。

可选地，在本发明的另一具体实施例中，上述步骤S3具体还可以包括：

对玻璃基板被抛光的表面进行超声波清洗处理。

超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。

本发明中采用超声波对玻璃基板表面进行清洗，提高玻璃基板表面的清洁度，为后续重新镀膜提供良好的镀膜基础。

本发明中还提供了一种玻璃抛光设备，用于上述任意实施例中的镀膜玻璃的处理方法中，如图2和图3所示，图2为本发明实施例提供的玻璃抛光设备的剖面结构示意图，图3为本发明实施例提供的玻璃抛光设备的工作状态的剖面结构示意图。该玻璃抛光设备可以包括：

上抛光盘1，贴合设置在上抛光盘下表面1的抛光皮2，下抛光盘3、设置在下抛光盘3上用于承载玻璃基板6的卡具4；

其中，抛光皮2贴合上抛光盘1的表面还设置有弹性缓冲层5；卡具两端和下抛光盘3固定设置，且使得玻璃基板6的下表面和下抛光盘3相互隔离。

如图2和图3所示，因为玻璃基板6只有镀有膜层的表面需要抛光，因此，通过卡具可以将玻璃基板6固定在下抛光盘3上，并且将玻璃基板6不需要被抛光的下表面进行保护。

另外，考虑到对于玻璃基板6而言，其表面可能存在不平整，例如图3所示，玻璃基板6的上表面为曲面，为了使得玻璃基板6的上表面各个区域都能够被均匀抛光，可以在抛光皮2和上抛光盘1之间设置弹性缓冲层5，当上抛光盘1带动抛光皮2向玻璃基板6挤压时，由于弹性缓冲层5的作用，使得抛光皮2能够完全的贴合于玻璃基板6弯曲的上表面，当上抛光盘1带动抛光皮2相对于玻璃基板6旋转时，即可将玻璃基板6上表面各个区域都进行抛光。

可选地，弹性缓冲层5为海绵层。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

Claims (8)

1.一种镀膜玻璃的处理方法，其特征在于，包括：

预先将玻璃基板设置在抛光设备的卡具上；

通过所述抛光设备对所述玻璃基板的表面进行抛光处理，其中，所述玻璃基板被抛光的表面为具有镀膜要求不合格的膜层的表面；

将所述玻璃基板被抛光的表面进行清洗处理；

将所述玻璃基板被清洗处理的表面重新镀膜。

2.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于，所述通过抛光设备对玻璃基板表面的膜层进行抛光处理包括：

将所述玻璃基板镀有膜层的表面各个预定区域依次进行抛光处理，其中，所述预定区域为所述玻璃基板表面存在镀膜要求不合格膜层的区域。

3.如权利要求2所述的处理方法，其特征在于，所述通过抛光设备对玻璃基板表面的膜层进行抛光处理包括：

所述抛光设备按照预设抛光时长对所述玻璃基板表面进行抛光，控制所述玻璃基板表面的抛光厚度不大于第一预设厚度，其中，所述第一预设厚度不大于所述膜层的厚度。

4.如权利要求3所述的处理方法，其特征在于，所述控制所述玻璃基板表面的抛光厚度不大于第一预设厚度之后，还包括：

当所述玻璃基板表面被抛光的厚度小于第二预设厚度时，对所述玻璃基板表面进行二次抛光处理，再执行将所述玻璃基板被抛光的表面进行清洗处理的操作。

5.如权利要求1至4任一项所述的处理方法，其特征在于，所述玻璃基板表面被抛光的膜层为AG膜层，AR膜层，AF膜层中任意一种膜层。

6.如权利要求5所述的处理方法，其特征在于，所述将所述玻璃基板被抛光的表面进行清洗处理包括：

对所述玻璃基板被抛光的表面进行超声波清洗处理。

7.一种玻璃抛光设备，其特征在于，用于如权利要求1至6任一项所述的镀膜玻璃的处理方法，包括：

上抛光盘，贴合设置在所述上抛光盘下表面的抛光皮，下抛光盘，设置在所述下抛光盘上、用于承载玻璃基板的卡具；

其中，所述抛光皮贴合所述上抛光盘的表面还设置有弹性缓冲层；所述卡具两端和所述下抛光盘固定设置，且使得所述玻璃基板的下表面和所述下抛光盘相互隔离。

8.如权利要求7所述的玻璃抛光设备，其特征在于，所述弹性缓冲层为海绵层。