CN109023314A - 化学水浴镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本发明是关于一种化学水浴镀膜装置,包括:反应槽、馈入管和扰流单元;所述馈入管,位于靠近所述反应槽的槽底的位置,输入端位于反应槽外部,用于将所述反应槽外部的反应液馈入所述反应槽的内部;所述扰流单元,位于所述反应槽内,且位于所述馈入管上方,用于对所述反应槽内的反应液施加扰动力。该技术方案通过扰流单元扰动反应液运动,加快馈入管上方的反应液的流动和扩散,从而能够使馈入管馈入的反应液与反应槽内原有的反应液快速混合,以实现反应槽内的反应液的温度和溶质浓度尽快达到基本均匀一致。
Description
技术领域
本发明涉及化学水浴沉积装置技术领域,尤其涉及化学水浴镀膜装置。
背景技术
目前,具备高效光电转换效率的铜铟镓硒薄膜太阳能电池中硫化镉层作为缓冲层对电池效率提升有重要影响。硫化镉化学水浴是广泛使用的沉积方法,有芯片卧式镀膜方法和芯片立式镀膜两种方法,前者一般用在小面积电池领域,且生产效率较低;后者则在大面积玻璃基底铜铟镓硒电池硫化镉的沉积中具备生产效率较高的优势。
相关技术中,在立式硫化镉化学水浴镀膜系统里,反应液从反应槽顶部溢流口溢出,经过外设加热器加热后,再由底部馈入管馈入到槽底,通过这种反应液的循环以保持槽内反应温度的恒定。
发明内容
本发明实施例提供一种化学水浴镀膜装置,能够加快反应槽内靠近上部的反应液流动和扩散,以实现反应槽内的反应液温度和溶质浓度基本均匀。所述技术方案如下:
根据本发明实施例的第一方面,提供一种化学水浴镀膜装置,包括:反应槽、馈入管和扰流单元;
所述馈入管,位于靠近所述反应槽的槽底的位置,输入端位于反应槽外部,用于将所述反应槽外部的反应液馈入所述反应槽的内部;
所述扰流单元,位于所述反应槽内,且位于所述馈入管上方,用于对所述反应槽内的反应液施加扰动力。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过扰流单元扰动反应液运动,加快馈入管上方的反应液的流动和扩散,从而能够使馈入管馈入的反应液与反应槽内原有的反应液快速混合,以实现反应槽内的反应液的温度和溶质浓度尽快达到基本均匀一致,在沉积膜层过程中,玻璃基底上沉积的膜层厚度能够基本达到均匀一致,提升了膜层的质量。
在一个实施例中,所述扰流单元包括:导气管组件;
所述导气管组件,将所述反应槽外部的气体导入所述反应槽内。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过导入气体对反应液产生流体动力,使受力的反应液尽量沿其受力方向有规律运动,进一步加快反应槽内靠近反应槽上部和下部的反应液达到尽量混合均匀的速度,改善了反应槽内靠近反应槽上部和下部反应液的温度和浓度的均匀性、一致性。此外,导气管组件结构简单,不占用空间,便于安装。
在一个实施例中,所述导气管组件包括:第一管体和第二管体;
所述第一管体,一端与所述第二管体连通,另一端向远离所述馈入管的方向延伸;
所述第二管体,一端封闭,另一端与所述反应槽外部连通,将所述反应槽外部的气体导入所述第一管体。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过第一管体将气体导入反应槽内,使气体推动反应液尽量向反第一管体的延伸方向运动,加快远离馈入管的反应液的扩散,加快了反应槽内反应液达到基本混合均匀的速度。
在一个实施例中,所述导气管组件还包括:顶盖;
所述顶盖,具有多个气孔,位于所述第一管体远离所述馈入管的一端;
所述气孔,与所述第一管体连通。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案中的气体通过气孔导入至反应槽内,增大了气体对反应液的作用力。
在一个实施例中,所述第一管体包括:多个通气子管,分别与所述第二管体连通。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过多个通气子管将气体导入反应槽内,多个通气子管导入的气体同时对反应液施加扰动力,进一步加快馈入管馈入的反应液从靠近反应槽下部流动至靠近反应槽上部的速度,进一步加快了靠近反应槽上部和下部的反应液达到尽量混合均匀的速度。
在一个实施例中,相邻的所述通气子管的高度不同。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过不同高度的通气子管导入的气体产生的流体动力作用在不同高度的反应液上,进一步加快反应液的流动和扩散。
在一个实施例中,相间的所述通气子管的高度相同。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案在反应槽内同一高度的反应液受力均匀,提高了反应液混合的均匀性。
在一个实施例中,所述化学水浴镀膜装置还包括调压阀;
所述调压阀,位于所述反应槽外部,通过管路与所述第二管体的另一端连接。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过调压阀对气体进行压力调节,可以根据需要调节气体产生的流体动力对反应液的干预程度。
在一个实施例中,所述导气管组件的材料包括:高分子聚合物材料。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案中的高分子聚合物材料不参与反应液中的化学反应,同时,也避免了对玻璃基底膜层的污染。
在一个实施例中,所述化学水浴镀膜装置还包括电机,所述扰流单元包括:搅拌桨;
所述电机,固定于所述反应槽外部,输出轴与搅拌桨的旋转轴固定连接。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案通过搅拌桨扰动反应液运动,加快了反应液的流动和扩散的速度。
在一个实施例中,所述搅拌桨的旋转轴的轴向与所述反应槽的侧壁垂直。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:该技术方案能够加快反应槽内靠近反应槽上部和下部反应液的混合速度。
本发明的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:
上述技术方案通过扰流单元扰动反应液运动,加快馈入管上方的反应液的流动和扩散,从而能够使馈入管馈入的反应液与反应槽内原有的反应液快速混合,以实现反应槽内的反应液的温度和溶质浓度尽快达到基本均匀一致。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本发明的实施例,并与说明书一起用于解释本发明的原理。
图1是相关技术中反应槽侧视图。
图2是相关技术中反应槽结构示意图。
图3是根据一示例性实施例示出的一种化学水浴镀膜装置结构示意图。
图4是根据一示例性实施例示出的一种化学水浴镀膜装置结构示意图。
图5是根据一示例性实施例示出的一种化学水浴镀膜装置结构示意图。
图6是根据一示例性实施例示出的顶盖结构示意图。
图7是根据一示例性实施例示出的一种化学水浴镀膜装置结构示意图。
图8是根据一示例性实施例示出的一种化学水浴镀膜装置结构示意图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本发明相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本发明的一些方面相一致的装置和方法的例子。
相关技术中,立式硫化镉化学水浴镀膜系统里,反应液从反应槽10顶部溢流口40溢出,经过外设加热器加热后,再由底部馈入管20上的喷射口21馈入到槽底,通过这种反应液的循环以保持反应槽10内反应温度的恒定,所采用的馈入方式是一种线性馈入方式,反应液从槽底慢慢流动到反应槽10上部,如图1和图2所示。虽然这种方法比较成熟,生产效率较高,但由于玻璃基底竖立在反应槽10中,在沉积大面积玻璃基底的硫化镉层时,外部已加热的反应液馈入到槽底,从反应槽10下部往上部慢慢流动,上下不均,均匀性控制难度较大,导致反应槽10底部和上部的工艺温度和溶质浓度存在明显差异(下部的温度和浓度更高),致使玻璃基底下部沉积的硫化镉膜层厚度明显大于上部,均匀性难以达到工艺要求。此外,为了克服反应液上下部不均匀的问题,刻意的控制反应液浓度,降低成膜速率,工艺窗口被限制,镀膜时间加长,不利于膜层工艺优化和镀膜生产效率。
为解决上述问题,本实施例提供一种化学水浴镀膜装置,能够加快反应槽10内靠近上部的反应液流动和扩散,以实现反应槽10内的反应液温度和溶质浓度基本均匀一致。
图3是根据一示例性实施例示出的一种化学水浴镀膜装置结构示意图,如图3所示,一种化学水浴镀膜装置,包括:反应槽10、馈入管20和扰流单元30。
如图4所示,所述反应槽10顶部具有溢流口40,反应液从反应槽10顶部溢流口40溢出,经过外设加热器加热后,再由底部馈入管20馈入到槽底。
所述馈入管20,位于靠近所述反应槽10的底部的位置,输入端位于反应槽10外部,用于将所述反应槽10外部的反应液馈入所述反应槽10的内部。
所述扰流单元30,位于所述反应槽10内,且位于所述馈入管20上方,用于对所述反应槽10内的反应液施加扰动力。
在该实施例中,馈入管20的管体上设有多个喷射口21,喷射口21位于反应槽10内部,馈入管20的输入端位于反应槽10外部,与该输入端连接的输送反应液的馈入管20的输送管部分可位于反应槽10内部或外部。当馈入管20的输送管部分位于反应槽10外部时,该输送管上可连通有延伸至反应槽10内部且具有喷射口21的至少一个输送子管;当馈入管20的输送管部分位于反应槽10内部时,该输送管上具有多个喷射口21;馈入管20的设置方式还可以包括其他的方式,不限于本实施例中描述的方式。经过外设加热器加热后的反应液经外设液体压力泵后通过馈入管20的输入端进入馈入管20,再经由喷射口21进入靠近反应槽10下部的位置,反应液由下部向上部流动,在此过程中,反应槽10内靠近顶部的反应液从溢流口40溢出,经过外设加热器加热后,再由底部馈入管20馈入到槽底,由此对反应液循环加热。本实施例中,扰流单元30扰动反应液运动,加快馈入管20上方的反应液的流动和扩散,从而能够使馈入管20馈入反应槽10下部的反应液与反应槽10内原有的反应液快速混合,以实现反应槽10内的反应液的温度和溶质浓度尽快达到基本均匀一致。同时,扰流单元30能够加快反应槽10上部的反应液的流动和扩散,因此,靠近溢流口40的反应液能够尽快从溢流口40溢出,馈入反应槽10下部的反应液能够尽快向反应槽10上部流动,从而使反应槽10内的反应液尽快达到基本混合均匀。
本实施例中,扰流单元30加快了反应液的流动和扩散,改善了反应液的均匀性,从而在沉积膜层过程中,玻璃基底上沉积的膜层厚度能够基本达到均匀一致,提升了膜层质量。此外,改善了反应液的均匀性,还增加了反应液的重复使用次数,降低了反应液的更换频率,有利于提高产能和降低成本。
在一个实施例中,扰流单元30可位于距离反应槽10槽底1/3高度以上的空间,进一步加快馈入管20上方的反应液的流动和扩散,进一步提高了反应槽10内的反应液的温度和溶质浓度达到基本混合均匀一致的效率。
在一个实施例中,如图5所示,所述扰流单元30包括:导气管组件31。
所述导气管组件31,将所述反应槽10外部的气体导入所述反应槽10内。
在该实施例中,导气管组件31位于反应槽10内,反应槽10外部的气体经由导气管组件31导入反应槽10内。导入反应槽10内的气体对反应液产生流体动力,由于气体在导气管组件31中沿管路的方向运动,气体从导气管组件31喷出后使受流体动力的反应液尽量沿其受力方向这一个方向有规律运动,进一步加快靠近反应槽10上部和下部的反应液达到尽量混合均匀的速度,改善了靠近反应槽10上部和下部反应液的温度和浓度的均匀性、一致性。此外,导气管组件31结构简单,不占用空间,便于安装。本实施例中,可通过外设气体输送单元将外部气体导入导气管组件31,例如可以通过鼓风装置或送风装置经由管路向导气管组件31内持续导入气体,或通过气体压缩装置经由管路将压缩气体导入导气管组件31,还可以通过其他装置导入气体,在此不做限制。导入导气管组件31的气体喷入反应槽10内,对反应液施加绕动力。其中,导气管组件31通过固定装置固定于反应槽10内,例如固定于反应槽10的侧壁上,并且通过接头将导气管组件31的的固定端与外设管路连通,外设管路与外设气体输送单元连接。
在一个实施例中,所述气体可以包括空气、压缩空气、CDA(clean dry air,洁净干燥的压缩空气)气体、惰性气体中不参与反应液的化学反应的气体或压缩气体、以及其他不参与反应液化学反应的气体或压缩气体。
在一个实施例中,所述导气管组件31将所述反应槽10外部的CDA气体导入所述反应槽10内。CDA气体可以来自于厂务的基本配置,取材便利,节约成本。
在一个实施例中,导气管组件31中气体的喷出方向可以朝向反应槽10的顶部,能够加快靠近反应槽10上部和顶部的反应液的流动和扩散,从而使馈入反应槽10下部的已加热的反应液尽快向上部流动,与反应槽10上部的反应液尽快混合均匀。
在一个实施例中,所述导气管组件31包括:第一管体311和第二管体312。
所述第一管体311,一端与所述第二管体312连通,另一端向远离所述馈入管20的方向延伸。
所述第二管体312,一端封闭,另一端与所述反应槽10外部连通,将所述反应槽10外部的气体导入所述第一管体311。
在该实施例中,第二管体312的另一端通过管路可以与气体输送单元的输出端连通,第二管体312的管体部(第二管体312两端之间的部分)与第一管体311的一端连通,第一管体311向远离所述馈入管20的方向延伸,其中,第一管体311与第二管体312的管壁连接。气体通过第二管体312导入至第一管体311中,再经由第一管体311喷出,进入反应槽10内。本实施例中,第一管体311的数量可以包括一个或多个。第一管体311向远离所述馈入管20的方向延伸,气体从远离馈入管20的一端喷入反应槽10内,产生流体动力,气体推动反应液尽量向远离馈入管20的方向运动,从而使馈入管20馈入的反应液从反应槽10下部尽快流动至远离馈入管20的方向,加快反应液的扩散,使反应槽10内的反应液的温度和溶质浓度尽快达到基本均匀一致。
在一个实施例中,如图5所示,所述导气管组件31包括:第一管体311和第二管体312。
所述第一管体311,竖向延伸,靠近所述馈入管20的一端与所述第二管体312连通。
所述第二管体312,一端封闭,另一端与所述反应槽10外部连通,将所述反应槽10外部的气体导入所述第一管体311。
在该实施例中,第二管体312的另一端通过管路可以与气体输送单元的输出端连通,第二管体312的管体部(第二管体312两端之间的部分)与第一管体311靠近馈入管20的一端连通,其中,第一管体311与第二管体312的管壁连接。气体通过第二管体312导入至第一管体311中,再经由第一管体311喷出,进入反应槽10内。本实施例中,第一管体311的数量可以包括一个或多个。第一管体311竖向延伸(沿反应槽10的高度方向延伸),气体从远离馈入管20的一端向上喷入反应槽10内,产生向上的流体动力,气体推动反应液尽量向反应槽10上部运动,从而使馈入管20馈入的反应液从反应槽10下部尽快流动至靠近反应槽10上部,反应槽10内的反应液的温度和溶质浓度尽快达到基本均匀一致。同时,还能够使靠近反应槽10顶部的液体尽快从溢流口40溢出,进一步的,反应槽10下部的液体能够尽快向上部流动,加快了反应槽10内上部和下部的反应液达到基本混合均匀的速度。
在一个实施例中,第二管体312的另一端通过固定底座32与反应槽10的侧壁固定连接,同时通过接头和管路与外设气体输送单元连接。第二管体312可沿反应槽10的长度方向延伸,这样,可以在第二管体312的管体部上连接尽量多的第一管体311,从而,增大了反应液的受力面积,加快了反应液流动和扩散的速度,提高了反应液达到基本混合均匀一致的效率;同时,还便于在反应槽10内有限的空间进行安装布置,不受空间限制。
在一个实施例中,如图5和图6所示,所述导气管组件31还包括:顶盖313。
所述顶盖313,具有多个气孔314,位于所述第一管体311远离所述馈入管20的一端。
所述气孔314,与所述第一管体311连通。
在该实施例中,顶盖313的轴向侧壁与第一管体311的管壁密封连接,气孔314与第一管体311和反应槽10连通。气体经过第一管体311从气孔314中喷出至反应槽10内,由于气孔314的直径较小,经过气孔314的气体的流速增大,则增大了气体流速方向上对反应液的流体动力,进一步的使气体推动反应液尽量向反应槽10上部运动,从而使馈入管20馈入的反应液从反应槽10下部尽快流动至靠近反应槽10上部。
在一个实施例中,所述多个气孔314可均匀分布在所述顶盖313上,使反应液受力均匀,从而反应液的运动尽量具有规律性,改善了上部和下部反应液的温度和浓度的均匀性、一致性。
在一个实施例中,第一管体311的直径为10mm~20mm,气孔314的直径为1mm~2mm。
在一个实施例中,如图7所示,所述第一管体311包括:多个通气子管315,分别与所述第二管体312连通。
在该实施例中,导入第二管体312的气体分别导入每个通气子管315,然后导入反应槽10内,多个通气子管315导入的气体同时对反应液施加扰动力,增大了靠近反应槽10上部的反应液受到的流体动力,进一步加快靠近上部的反应液的流动和扩散,从而加快馈入管20馈入的反应液从反应槽10下部流动至反应槽10上部的速度,进一步加快了反应槽10内上部和下部的反应液达到基本混合均匀的速度。
在一个实施例中,每个通气子管315均具有一顶盖313。顶盖313的轴向侧壁与通气子管315的管壁密封连接,气孔314与通气子管315和反应槽10连通。气体经过通气子管315从气孔314中喷出至反应槽10内。
在一个实施例中,第二管体312的长度可以大于等于馈入管20的长度,多个通气子管315沿第二管体312的轴向依次布置,如此,靠近反应槽10上部的大部分反应液都可以被施加向上的流体动力,从而从馈入管20不同位置的喷射口21馈入的反应液向上流动时受到的阻力基本同时减小,这样,改善了靠近反应槽10下部和上部的反应液的均匀性。
在一个实施例中,如图7所示,相邻的所述通气子管315的高度不同。
在该实施例中,多个通气子管315可具有不同的高度,高低不同,也即是多个通气子管315的长度不同,或者,相间隔一定的距离的通气子管315的高度相同,这样一来,通过通气子管315远离馈入管20的一端向上喷射的气体对反应槽10内不同高度的反应液均产生流体动力,使反应液具有一定的向上流动的流动动力,在流动动力的作用下,反应槽10内不同高度的反应液均能够尽量向上流动,进一步加快反应的流动和扩散。此外,高度较高的通气子管315能够进一步使靠近溢流口40的反应液能够尽快从溢流口40溢出,馈入反应槽10下部的反应液能够尽快向反应槽10上部流动,从而使反应槽10内的反应液尽快达到基本混合均匀。
在一个实施例中,如图7所示,相间的所述通气子管315的高度相同。
在该实施例中,不仅能够使不同高度的反应液具有向上的流动的流动动力的,还能够使反应槽10内同一高度的反应液受力均匀,从而使反应槽10内的整体反应液的运动尽量具有规律性,提高了反应槽10上部反应液和下部反应液混合的均匀性。
在一个实施例中,如图5和图7所示,所述化学水浴镀膜装置还包括调压阀50。
所述调压阀50,位于所述反应槽10外部,通过管路与所述第二管体312的另一端连接。
在该实施例中,通过调压阀50进行气体的压力调节,能够控制输入第二管体312的气体的压力,从而控制从第一管体311喷射出的气体的压力,进而控制气体在反应槽10内产生流体动力,以调节流体动力对靠近上部和下部反应液的温度和浓度的干预程度。例如,根据需要,需要将下部反应液的温度和浓度升高或降低,则可以调节调压阀50,将气体的压力调低或调高。
在一个实施例中,所述导气管组件31的材料包括:高分子聚合物材料。在该实施例中,高分子聚合物材料化学性能稳定,不与反应液发生化学反应;也避免了对玻璃基底膜层的污染。质量轻且强度较高,易于安装,使用寿命长;高分子聚合物材料还具有可塑性强,易于成型等特点。本实施例中高分子聚合物材料包括但不限于PVC材料、UPVC材料、ABS材料或PE材料等。
在一个实施例中,所述导气管组件31的材料包括:PVC材料。
在该实施例中,PVC材料不与反应液里面的酸跟离子、金属离子等发生反应,同时PVC材料也不溶于反应液,也避免了对玻璃基底膜层的污染。
在一个实施例中,如图8所示,所述化学水浴镀膜装置还包括电机60,所述扰流单元30包括:搅拌桨33。
所述电机60,固定于所述反应槽10外部,输出轴与搅拌桨33的旋转轴固定连接。
在该实施例中,搅拌桨33包括旋转轴和位于旋转轴上的搅拌叶,电机60的输出轴与旋转轴固定连接,电机60的输出轴驱动旋转轴旋转,也即是驱动搅拌桨33旋转。搅拌桨33在反应槽10内旋转,对反应液施加扰动力,靠近反应槽10上部的反应液随搅拌桨33的运动而运动,带动靠近下部的反应液运动,进而使从馈入管20馈入的的反应液能够与反应槽10靠近上部的反应液混合,加快了反应液的流动和扩散的速度。
在一个实施例中,电机60可以通过外设固定装置例如固定座或固定支架等固定在反应槽10的外部。电机60的输出轴可以通过反应槽10的槽口进入反应槽10内,与搅拌桨33的旋转轴固定连接,或者,电机60的输出轴可以通过旋转式动密封的密封件与反应槽10的侧壁连接,或者通过其他密封装置与反应槽10的侧壁连接,电机60的输出轴穿过反应槽10的侧壁与搅拌机的旋转轴固定连接。
在一个实施例中,如图8所示,所述搅拌桨33的旋转轴的轴向与所述反应槽10的侧壁垂直。
在该实施例中,搅拌叶旋转所经过的平面与反应槽10的侧壁基本平行,搅拌叶旋转过程中能够使靠近搅拌叶一侧的反应液向下运动,同时靠近搅拌叶另一侧的反应液向上运动,循环往复该运动过程。在一部分反应液向上运动的过程中,能够带动靠近反应槽10下部的液体也具有一定向上流动的动力,能够加快反应槽10内靠近上部和靠近下部反应液的混合速度。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后,将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是,本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。
Claims (11)
1.一种化学水浴镀膜装置,其特征在于,包括:反应槽、馈入管和扰流单元;
所述馈入管,位于靠近所述反应槽的底部的位置,输入端位于反应槽外部,用于将所述反应槽外部的反应液馈入所述反应槽的内部;
所述扰流单元,位于所述反应槽内,且位于所述馈入管上方,用于对所述反应槽内的反应液施加扰动力。
2.根据权利要求1所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,所述扰流单元包括:导气管组件;
所述导气管组件,将所述反应槽外部的气体导入所述反应槽内。
3.根据权利要求2所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,所述导气管组件包括:第一管体和第二管体;
所述第一管体,一端与所述第二管体连通,另一端向远离所述馈入管的方向延伸;
所述第二管体,一端封闭,另一端与所述反应槽外部连通,将所述反应槽外部的气体导入所述第一管体。
4.根据权利要求3所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,所述导气管组件还包括:顶盖;
所述顶盖,具有多个气孔,位于所述第一管体远离所述馈入管的一端;
所述气孔,与所述第一管体连通。
5.根据权利要求3或4所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,所述第一管体包括:多个通气子管,分别与所述第二管体连通。
6.根据权利要求5所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,相邻的所述通气子管的高度不同。
7.根据权利要求6所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,相间的所述通气子管的高度相同。
8.根据权利要求3所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,还包括调压阀;
所述调压阀,位于所述反应槽外部,通过管路与所述第二管体的另一端连接。
9.根据权利要求2所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,所述导气管组件的材料包括:高分子聚合物材料。
10.根据权利要求1所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,还包括电机,所述扰流单元包括:搅拌桨;
所述电机,固定于所述反应槽外部,输出轴与搅拌桨的旋转轴固定连接。
11.根据权利要求10所述的化学水浴镀膜装置,其特征在于,所述搅拌桨的旋转轴的轴向与所述反应槽的侧壁垂直。
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---|---|---|---|---|
JP2014234539A (ja) * | 2013-06-03 | 2014-12-15 | 富士フイルム株式会社 | 成膜装置 |
US20150239001A1 (en) * | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Tsmc Solar Ltd. | Method and system of chemical bath deposition |
CN205914143U (zh) * | 2016-06-27 | 2017-02-01 | 江苏荣生电子有限公司 | 一种电极箔高效均匀搅拌反应槽 |
CN209194061U (zh) * | 2018-10-19 | 2019-08-02 | 华夏易能(广东)新能源科技有限公司 | 化学水浴镀膜装置 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014234539A (ja) * | 2013-06-03 | 2014-12-15 | 富士フイルム株式会社 | 成膜装置 |
US20150239001A1 (en) * | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Tsmc Solar Ltd. | Method and system of chemical bath deposition |
CN205914143U (zh) * | 2016-06-27 | 2017-02-01 | 江苏荣生电子有限公司 | 一种电极箔高效均匀搅拌反应槽 |
CN209194061U (zh) * | 2018-10-19 | 2019-08-02 | 华夏易能(广东)新能源科技有限公司 | 化学水浴镀膜装置 |
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