CN109023239B - 冷却板、镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种冷却板、镀膜装置,属于镀膜技术领域。本发明的冷却板,用于支撑掩膜框架,该冷却板包括:冷却板本体、特氟龙层;冷却板本体具有用于朝向掩膜框架的第一侧面,特氟龙层的至少一部分设置在第一侧面上。
Description
技术领域
本发明属于镀膜技术领域,具体涉及一种冷却板、镀膜装置。
背景技术
如图1所示,现有的溅射装置包括冷却板1、掩膜框架2,其中,掩膜框架2与冷却板1对应设置且相互接触,且在使用该溅射装置对玻璃基板进行溅射镀膜时,该玻璃基板会放置在掩膜框架2靠近冷却板1的一侧面上,以使溅射材料通过设于掩膜框架2上的掩膜版溅射至玻璃基板上,以此来在该玻璃基板上镀膜。
需要说明的是,在使用溅射装置对玻璃基板进行溅射镀膜时,该溅射装置工作时间较长,且镀膜温度较高,其很容易导致冷却板1发生变形,此时,冷却板会与掩膜框架2发生摩擦而产生颗粒,该颗粒很容易掉落在待进行镀膜的玻璃基板上,从而影响该玻璃基板的良率。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提供一种能够提高基板良率的冷却板、镀膜装置。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种冷却板,用于支撑掩膜框架,所述冷却板包括:冷却板本体、特氟龙层;所述冷却板本体具有用于朝向所述掩膜框架的第一侧面,所述特氟龙层的至少一部分设置在所述第一侧面上。
优选的是,所述特氟龙层完全覆盖所述第一侧面。
优选的是,所述特氟龙层贴附在所述第一侧面上。
优选的是,所述冷却板本体具有第一过孔;
所述特氟龙层包括嵌合部和整体部,所述整体部设置在所述第一侧面上,所述嵌合部连接在所述整体部靠近所述冷却板本体的一侧上,且与所述第一过孔卡合连接。
优选的是,所述第一过孔为多个,所述嵌合部与所述第一过孔一一对应。
优选的是,所述嵌合部与所述整体部为一体成型结构。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种镀膜装置,包括上述的冷却板,以及掩膜框架,该掩膜框架与所述冷却板相对设置,且与所述冷却板的特氟龙层相接触,所述掩膜框架用于支撑掩膜版。
优选的是,所述掩膜框架为分段结构。
优选的是,还包括:连接组件;掩膜框架具有第二过孔,所述第二过孔的位置与所述特氟龙层的嵌合部的位置相对应;
所述嵌合部内有中空结构,且所述中空结构贯穿所述特氟龙层的整体部,所述连接组件通过所述第二过孔和所述中空结构,将所述冷却板与所述掩膜框架连接。
优选的是,所述连接组件包括螺栓。
优选的是,所述镀膜装置为溅射镀膜装置。
附图说明
图1为现有的溅射装置的示意图;
图2为本发明的实施例1的冷却板的示意图;
图3为本发明的实施例1的镀膜装置的示意图;
其中附图标记为:1、冷却板;11、冷却板本体;12、第一过孔;13、特氟龙层;131、嵌合部;132、整体部;2、掩膜框架;21、第二过孔;3、连接组件。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
实施例1:
如图2所示,本实施例提供一种冷却板1,其用于支撑掩膜框架2,该冷却板1包括:冷却板本体11、特氟龙层13;其中,冷却板本体11具有用于朝向掩膜框架2的第一侧面,特氟龙层13的至少一部分设置在第一侧面上。
由于特氟龙层13是由特氟龙材料所制成,该材料的摩擦系数极小,故特氟龙层13的摩擦系数势必小于冷却板本体11的第一侧面的摩擦系数,也就是说,相对于第一侧面而言,该特氟龙层13具有较高的润滑强度。由此可以看出,将本实施例所提供的冷却板应用至镀膜工艺中时,具有润滑作用的特氟龙层13会设置在冷却板本体11的第一侧面与掩膜框架2之间,其可在冷却板本体11发生变形时,避免冷却板本体11的第一侧面与掩膜框架2发生摩擦,从而解决了因冷却板本体11的第一侧面与掩膜框架2发生摩擦所导致的产生颗粒的问题,进而使得包括该冷却板的镀膜装置对基板进行镀膜后,掉落在该基板上的颗粒极少或者没有,提高了基板的良率。此时,相对于现有技术中的,因镀膜后的基板良率极低所造成的需频繁对冷却板进行维修、清洗而言,本实施例所提供的冷却板不用多次对其进行维修,提高了包括本实施例中的冷却板的镀膜装置的稼动率。另外,由于特氟龙层13还具有耐高温、耐磨、耐老化,故其可在镀膜装置中长期使用。
其中,本实施例优选的,特氟龙层13完全覆盖冷却板本体11的第一侧面。也就是说,在将本实施例中的冷却板用于支撑掩膜框架2时,特氟龙层13能够将冷却板本体11的第一侧面与掩膜框架2完全隔开,也即冷却板本体11的第一侧面不会与掩膜框架2有任何的接触,从而进一步避免了因冷却板本体11的第一侧面与掩膜框架2发生摩擦所导致的产生颗粒的情况。
为便于清楚地理解本实施例所提供的冷却板1的具体结构,以下对特氟龙层与冷却板本体11的第一侧面的连接情况进行说明。
其中,作为本实施例的第一种优选方式,如图2所示,冷却板本体11具有第一过孔12;特氟龙层13包括嵌合部131和整体部132,整体部132设置在第一侧面上,嵌合部131连接在整体部132靠近冷却板本体11的一侧上,且与第一过孔12卡合连接。
也就是说,在本实施例中,特氟龙层13是依靠其的嵌合部131卡合在冷却板本体11的第一过孔12中的方式,以设置在冷却板本体11的第一侧面上的。这样一来,当本实施例中的冷却板1工作一段时间后,特氟龙层13的润滑作用很可能有所降低,此时,由于特氟龙层13是由高分子材料特氟龙所制成,故其还具有一定的伸缩性能,那么,此时,通过将嵌合部131从第一过孔12中取出,并在该第一过孔12中重新卡合新的特氟龙层13的嵌合部131的方式,即可更换该特氟龙层13。很明显的,该更换步骤简单,且无需如现有技术中的,每工作一段时间后,需频繁地对冷却板进行维护,从而降低成本。
为进一步避免在将本实施例中的冷却板用于镀膜工艺时,冷却板与掩膜框架2发生摩擦,优选的,冷却板本体11上设置有多个第一过孔12,且嵌合部131与第一过孔12一一对应。也就是说,多个嵌合部131通过牢牢地卡合在与其对应的第一过孔12中的方式,以使整合部也能够牢牢地贴合在第一侧面上,从而使得冷却板本体11发生变形时,贴合在该冷却板本体11的第一侧面上的整体部132也将跟随其发生形变,这样一来,整体部132始终是将第一侧面完全覆盖,也即避免了第一侧面与掩膜框架2有任何的接触所发生的摩擦的情况。
进一步优选的,嵌合部131与整体部132为一体成型结构。该种结构设置能够使得在冷却板本体11的第一侧面上安装或更换特氟龙层13的步骤更加简单,而且,还能够简化特氟龙层13的制备工艺。
其中,作为本实施例的第二种优选方式,特氟龙层13贴附在冷却板本体11的第一侧面上。
也就是说,特氟龙层13是通过粘结剂贴附在冷却板1的第一侧面上的,该粘结剂可以为透明光学胶等等。当然,本领域技术人员应当知晓的是,粘结剂并不局限于前述的透明光学胶,只要其能够将特氟龙层13贴附在第一侧面即可,在此不做限定。
需要说明的是,还可以通过在冷却板本体11的第一侧面上直接涂覆一层特氟龙材料,以此方式在第一侧面上形成特氟龙层13。
当然,本领域技术人员应当知晓的,在冷却板本体11的第一侧面上设置特氟龙层13并不局限于前述的几种,在此不做限定。
综上,由于冷却板本体11的第一侧面与掩膜框架2之间设置有一层特氟龙层13,该特氟龙层13具有较高的润滑性能,故在将本实施例所提供的冷却板1应用至镀膜工艺中时,即便冷却板1会受高温作用而发生变形,其也不会与其所支撑的掩膜框架2发生摩擦,从而避免了因冷却板1与掩膜框架2发生摩擦所导致的产生颗粒的问题,进而使得由包括该冷却板1的镀膜装置对基板进行镀膜后,该基板的良率提高。
实施例2:
本实施例提供一种镀膜装置,包括:实施例1中的冷却板1、掩膜框架2;其中,掩膜框架2与冷却板1相对设置,且与冷却板1的特氟龙层13相接触,掩膜框架2用于支撑掩膜版。
具体的,如图3所示,特氟龙层13设置在冷却板的冷却板本体11与掩膜框架2之间,其将冷却板本体11与掩膜框架2完全隔开,由于该特氟龙层13的摩擦系数小于冷却板本体11与掩膜框架2相对设置的第一侧面的摩擦系数,故相对于现有技术中,在冷却板发生形变所导致的、其的第一侧面与掩膜框架2表面相摩擦而产生较多的颗粒而言,本实施例的特氟龙层13与掩膜框架2表面的摩擦量极小,也就是说,本实施例中的冷却板与掩膜框架2发生摩擦所产生的颗粒极少或者没有,从而使得采用本实施例所提供的镀膜装置对基板进行镀膜后,掉落在该基板上的颗粒极少或者没有,从而提高该基板的良率,进而提高本实施例所提供的镀膜装置的市场竞争力。
其中,本实施例优选的,掩膜框架2为分段结构。也就是说,掩膜框架2是由多个多块板所拼接形成的,例如:图3中所示的6块板相互拼接所形成的掩膜框架2,需要说明的是,在将本实施例的镀膜装置用于向基板上镀膜时,掩膜框架2也会长期处于高温的环境下工作,必然的,掩膜框架2也会受热发生变形,此时,分段结构的掩膜框架2使得其的变形也是分开的,从而减小了整个掩膜框架2的变形量,进而减小了掩膜框架2与冷却板1的相对摩擦量。
其中,本实施例优选的,如图3所示,镀膜装置还设置有:连接组件3;其中,冷却板的冷却板本体11具有第一过孔12;冷却板的特氟龙层13包括嵌合部131和整体部132,该整体部132设置在冷却板本体11的第一侧面上,嵌合部131设置在整体部132靠近冷却板本体11的一侧上,且与第一过孔12卡合连接;掩膜框架2具有第二过孔21,第二过孔21的位置与特氟龙层13的嵌合部131的位置相对应;嵌合部131内有中空结构,且中空结构贯穿特氟龙层13的整体部132,连接组件3通过第二过孔21和中空结构,将冷却板与掩膜框架2连接。
也就是说,掩膜框架上的每个第二过孔21和与其相对应的、位于特氟龙层13的中空结构是连通的,连接组件3通过同时插设固定在第二过孔21和中空结构中,以将冷却板1与掩膜框架2连接起来。
其中,本实施例优选的,连接组件3包括螺栓。
也就是说,本实施例中,通过将螺栓固定在掩膜框架2的第二过孔21,以及特氟龙层13的中空结构的方式,来将掩膜框架2与冷却板1相连接。
当然,本实施例中的连接组件3并不局限于前述的螺栓,在此不做限定。
其中,本实施例优选的,镀膜装置为溅射镀膜装置。当然,本实施例中的镀膜装置还可以为蒸镀镀膜装置,在此不再一一列举。
综上,由于本实施例中的镀膜装置包括实施例1中的冷却板1,故使用本实施例的镀膜装置对基板进行镀膜后,掉落在该基板上的颗粒极少或者没有,从而提高了该基板的良率,进而提高了本实施例的镀膜装置的市场竞争力。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种冷却板,用于支撑掩膜框架,其特征在于,所述冷却板包括:冷却板本体、特氟龙层;所述冷却板本体具有用于朝向所述掩膜框架的第一侧面,所述特氟龙层的至少一部分设置在所述第一侧面上;
所述冷却板本体具有第一过孔;
所述特氟龙层包括嵌合部和整体部,所述整体部设置在所述第一侧面上,所述嵌合部连接在所述整体部靠近所述冷却板本体的一侧上,且与所述第一过孔卡合连接。
2.根据权利要求1所述的冷却板,其特征在于,所述特氟龙层完全覆盖所述第一侧面。
3.根据权利要求1所述的冷却板,其特征在于,所述第一过孔为多个,所述嵌合部与所述第一过孔一一对应。
4.根据权利要求1所述的冷却板,其特征在于,所述嵌合部与所述整体部为一体成型结构。
5.一种镀膜装置,其特征在于,包括:
权利要求1-4中任一所述的冷却板;
掩膜框架,其与所述冷却板相对设置,且与所述冷却板的特氟龙层相接触,所述掩膜框架用于支撑掩膜版。
6.根据权利要求5所述的镀膜装置,其特征在于,所述掩膜框架为分段结构。
7.根据权利要求5所述的镀膜装置,其特征在于,还包括:连接组件;
所述掩膜框架具有第二过孔,所述第二过孔的位置与所述特氟龙层的嵌合部的位置相对应;
所述嵌合部内有中空结构,且所述中空结构贯穿所述特氟龙层的整体部,所述连接组件通过所述第二过孔和所述中空结构,将所述冷却板与所述掩膜框架连接。
8.根据权利要求7所述的镀膜装置,其特征在于,所述连接组件包括螺栓。
9.根据权利要求5所述的镀膜装置,其特征在于,所述镀膜装置为溅射镀膜装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN204434719U (zh) * | 2014-12-25 | 2015-07-01 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 一种掩膜板 |
CN107740048A (zh) * | 2017-10-27 | 2018-02-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 冷却板及蒸镀装置 |
CN108251791A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-07-06 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 一种精细金属掩膜板制作方法及其制作平台 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100646942B1 (ko) * | 2005-01-05 | 2006-11-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기판 냉각 척 플레이트 조립체 |
CN202093315U (zh) * | 2011-05-31 | 2011-12-28 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 冷却装置 |
KR101580587B1 (ko) * | 2015-08-07 | 2015-12-28 | 주식회사 유아이디 | 스퍼터링용 셀형 패널 고정장치 |
KR102490641B1 (ko) * | 2015-11-25 | 2023-01-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 증착 방법 |
CN106893982A (zh) * | 2017-03-30 | 2017-06-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种冷却板和蒸镀装置 |
CN107275522A (zh) * | 2017-05-25 | 2017-10-20 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种掩膜板及阵列基板的制作方法 |
CN107354426B (zh) * | 2017-07-21 | 2020-04-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版及掩膜版的制作方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN204434719U (zh) * | 2014-12-25 | 2015-07-01 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 一种掩膜板 |
CN107740048A (zh) * | 2017-10-27 | 2018-02-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 冷却板及蒸镀装置 |
CN108251791A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-07-06 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 一种精细金属掩膜板制作方法及其制作平台 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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