CN109021858A - 一种耐候离型膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种耐候离型膜，包括基材层、硅油层、阻隔层，所述基材层经过表面处理。在一些实施方式中，所述耐候离型膜从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层。在一些实施方式中，所述耐候离型膜从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层。

Description

一种耐候离型膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及离型膜技术，具体是涉及一种耐候离型膜及其制备方法。
背景技术
离型膜也可称为防粘膜，是胶类制品生产中的一类重要材料。例如防水卷材、防油纸、烘烤纸、防潮纸、防潮膜、压敏胶黏标签、粘贴胶纸、双面压敏胶黏带、胶粘壁纸及其它胶粘片材等胶类制品，都采用了离型膜技术。离型纸和离型膜在这些压敏胶制品中的主要作用是保护涂布在基材上的压敏胶层，以防止被污染或粘住其它物品或胶层相互粘住后失去使用价值。目前，现有的离型膜阻隔性能不佳，在潮湿的环境中存放会影响到制品的质量。而采用一些具有阻隔性能的材料，其与基材或硅油之间的结合较差，影响到产品的使用。
发明内容
为了解决现有技术问题，本发明的第一方面提供一种耐候离型膜，包括基材层、硅油层、阻隔层，所述基材层经过表面处理。
在一些实施方式中，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层。
在一些实施方式中，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层。
在一些实施方式中，所述硅油层为油性硅油。
在一些实施方式中，所述硅油层为水性硅油。
在一些实施方式中，所述硅油层为涂胶面。
在一些实施方式中，所述基材的材质为聚烯烃。
在一些实施方式中，所述阻隔层由PVDC、PVA、EVOH中的至少一种和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。
在一些实施方式中，所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备原料包括丙烯酸酯类化合物、引发剂、第一改性剂、第二改性剂。
本发明的第二方面提供一种如上所述的耐候离型膜的制备方法，包括如下步骤，可以通过层压共挤或者涂布得到。
附图说明
图1为本发明所提供的耐候离型膜的示意图；
图2为本发明所提供的耐候离型膜的示意图；
图中各标记如下，1为基材层、2为阻隔层、3为硅油层。
具体实施方式
为了下面的详细描述的目的，应当理解，本发明可采用各种替代的变化和步骤顺序，除非明确规定相反。此外，除了在任何操作实例中，或者以其他方式指出的情况下，表示例如说明书和权利要求中使用的成分的量的所有数字应被理解为在所有情况下被术语“约”修饰。因此，除非相反指出，否则在以下说明书和所附权利要求中阐述的数值参数是根据本发明所要获得的期望性能而变化的近似值。至少并不是试图将等同原则的适用限制在权利要求的范围内，每个数值参数至少应该根据报告的有效数字的个数并通过应用普通舍入技术来解释。
尽管阐述本发明的广泛范围的数值范围和参数是近似值，但是具体实例中列出的数值尽可能精确地报告。然而，任何数值固有地包含由其各自测试测量中发现的标准偏差必然产生的某些误差。
此外，应当理解，本文所述的任何数值范围旨在包括归入其中的所有子范围。例如，“1至10”的范围旨在包括介于(并包括)所述最小值1和所述最大值10之间的所有子范围，即具有等于或大于1的最小值和等于或小于10的最大值。
应理解，尽管术语第一、第二、第三等可在本文中用于描述各种元件、组分、区域、层和/或部分，但这些元件、组分、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组分、区域、层或部分区别于另外的元件、组分、区域、层或部分。因此，在不背离实例实施方式的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组分、区域、层或部分可称为第二元件、组分、区域、层或部分。
本发明的第一方面提供一种耐候离型膜，包括基材层、硅油层、阻隔层，所述基材层经过表面处理。
在一些实施方式中，所述基材的材质为聚烯烃。
在本发明中，所述聚烯烃是烯烃的聚合物，也可以是改性聚烯烃。
在一些实施方式中，所述聚烯烃选自乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-辛烯作为单体的均聚物或共聚物。
在本发明中，均聚物是指由一种单体聚合而成的聚合物。共聚物是指由两种或两种以上单体聚合而成的聚合物。
在一些实施方式中，所述聚烯烃为以乙烯作为单体的聚合物。其具体实例包括但不限于高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯、高压聚乙烯、超高压聚乙烯。
在一些实施方式中，所述聚烯烃为改性聚乙烯。改性聚乙烯可以是乙烯和其它烯烃共聚得到，也可以是共混改性得到。
在一些实施方式中，所述聚烯烃为以丙烯作为单体的聚合物。其具体实例包括但不限于I型聚丙烯、II型聚丙烯、III型聚丙烯、IV型聚丙烯。所述聚烯烃可以是改性聚丙烯。包括接枝改性聚丙烯、嵌段改性聚丙烯。
在一些实施方式中，所述硅油层为涂胶面。
本发明中所述的硅油是指室温下保持液体状态线型聚硅氧烷。
在一些实施方式中，所述硅油为线型硅油或改性硅油。
线型硅油可以是非官能性硅油，也可以是硅官能性硅油。所述非官能性硅油的具体实例，包括但不限于甲基硅油、乙基硅油、甲基苯基硅油。
所述硅官能性硅油的具体实例，包括但不限于甲基含氢硅油、乙基含氢硅油、含羟基硅油、含烷氧基硅油、含酰氧基硅油。
改性硅油可以是共聚硅油，可以是碳官能性硅油，也可以是主链改性硅油。作为共聚硅油的具体实例，包括但不限于聚有机硅氧烷-二元醇共聚硅油、高级醇改性硅油、脂肪酸改性硅油、甲基烷基硅油。
作为碳官能性硅油的具体实例，包括但不限于含氯甲基硅油、含氯苯基硅油、含氰基烷基硅油、含羧烷基硅油、含氨烷基硅油、含氟烷基硅油。
作为主链改性硅油的具体实例，包括但不限于硅氮烷硅油、硅亚甲基硅油、硅亚苯基硅油。
在一些实施方式中，所述硅油层为水性硅油或油性硅油。
所述水性硅油是指水溶性硅油，所述油性硅油是指油溶性硅油。特别的，所述油性硅油为热固性油性硅油。
热固性油性硅油和水性硅油可以购买自深圳市泰普乐科技有限公司。
阻隔层能够减少水汽和氧气的透过，为内层的材料提供较少的湿度及较少的氧接触，延长内层材料的使用寿命。本发明中的阻隔层为聚合物薄膜，外界物质对于阻隔层的渗透性与透过物的种类，聚合物的结构、性能以及透过物与聚合物的相互作用存在联系。
对于作为阻隔层的聚合物而言，其结晶结构链段排列整齐、堆砌密度大，小分子渗透物难以渗入通过，其对阻隔层的渗透主要是通过非晶区、结晶缺陷部分而实现的。另外阻隔层的微裂纹、针孔、缺陷均会导致渗透性的增加。
在一些实施方式中，所述阻隔层含有层状纳米粒子。聚合物分子在层状纳米粒子间隙内的分子链段运动受限，分子链的移动较慢，纳米填料的增加使得乙烯基酯树脂的塑性形变减小。
在一些实施方式中，阻隔层内含有的纳米粒子能够对其周围聚合物链段产生约束，延缓聚合物链段的松弛。松弛过程的延缓降低了气体分子在阻隔层中的扩散。
高分子材料的分子链结构和聚集态结构对气体分子的溶解过程和扩散运动的影响，可以一定程度归为小分子在渗透过程中聚合物自由体积的变化。在本发明中，聚合物的自由体积是指高分子材料中未被占据和无规分布的空穴，即静态自由体积，和由于分子蠕动时形成的空隙即动态自由体积。
在一些实施方式中，阻隔层的气体渗透性与阻隔层中的自由体积相关。发明人发现，阻隔层中的聚合物分子链结构、聚集态结构或者具有层状纳米粒子，都会造成自由体积不同，进而影响气体分子在阻隔层中的渗透。聚合物的自由体积越小，分子链间隙越小，链的蠕动越难，渗透分子的扩散速率就越慢，相应的阻隔性能就会提高。
在一些实施方式中，所述阻隔层由PVDC、PVA、EVOH中的至少一种和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。
PVDC为聚偏二氯乙烯，玻璃化温度-17℃，熔融温度198-205℃，结晶密度1.96g/cm3。具有耐燃、耐腐蚀、气密性好等特性。由于极性强，常温下不溶于一般溶剂。缺点是光、热稳定性差，加工困难。
PVA是聚乙烯醇，白色片状、絮状或粉末状固体，无味。溶于水，微溶于二甲基亚砜，不溶于汽油、煤油、植物油、苯、甲苯、二氯乙烷、四氯化碳、丙酮、醋酸乙酯、甲醇、乙二醇等。
EVOH是乙烯-乙烯醇共聚物，EVOH显著特点是对气体具有极好的阻隔性和极好加工性，另外透明性、光泽性、机械强度、伸缩性、耐磨性、耐寒性和表面强度都非常优异。
在一些实施方式中，阻隔层的材料除了选自PVDC、PVA、EVOH中的至少一种，还可以为其它的材料。其具体实例包括但不限于聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚酰胺，以及上述材料的复合材料。
阻隔性能的评价方法可以是压差法，也可以是拟杯法。
压差法是在规定的塑料材料厚度和温、湿度条件下，以薄膜在一定压力差下，单位面积、单位时间内透过气体的量来表征薄膜材料的阻隔性。其测试原理是利用薄膜试样将渗透腔隔成两个独立的空间，先将试样两侧都抽成真空，然后向其中一侧充入0.1MPa(绝对大气压)的测试气体(另一侧仍保持真空状态)，这样在薄膜两侧就形成了0.1MPa的测试气体压力差，测试气体通过渗透进入薄膜低压侧并引起低压侧压力的变化，通过高精度测压计测量低压侧的压力变化量就可以利用公式计算得到气体的渗透量。
拟杯法是将装有无水氯化钙的称量瓶用待测薄膜密封，并将其置于相对湿度为83％的干燥器中(内装溴化钾饱和溶液)，每隔一段时间称量瓶子的质量，通过瓶子质量的增加量来计算薄膜的水蒸气透过率(WVTR)。WVTR的定义为在规定的温度、相对湿度，以及一定的水蒸气压差和薄膜厚度的条件下，1m2的薄膜试样在24h内透过的水蒸气量，其单位为g/(m2·24h)。
在一些实施方式中，所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备原料包括丙烯酸酯类化合物、引发剂、第一改性剂、第二改性剂。
丙烯酸酯类化合物为含有丙烯酸酯基团的化合物。可以是含有取代基的丙烯酸酯，可以是丙烯酸烷基酯。
在一些实施方式中，所述丙烯酸酯类化合物选自3-乙氧基丙烯酸乙酯、2-羟甲基丙烯酸乙酯、6-羟基己基丙烯酸酯、2,3-二羟基丙基丙烯酸酯、2-丁基辛基甲基丙烯酸酯、2-甲基丙烯酸环己酯、丙烯酸异辛酯、3-苯基丙烯酸苄酯、2-丙烯酸2,2-二氟乙基酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、4-甲氧基苯基甲基丙烯酸酯、2-甲基-2-丙烯酸2-萘基酯、甲基丙烯酸二乙氨基乙酯、糠基丙烯酸酯、(四氢吡喃-2-基)甲基甲基丙烯酸酯、异丙基氰基丙烯酸酯、2-甲基-2-丙烯酸2-苯氧基乙基酯、丙烯酸异丁酯、2-氰基乙基丙烯酸酯、2-乙氧基乙基丙烯酸酯、2,3-环氧丙基丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、十八烷基甲基丙烯酸酯、3-氨基丙烯酸甲酯、2-金刚烷基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、6-羟基己基甲基丙烯酸酯、2,2-二甲基己基丙烯酸酯、2-羟基丁基甲基丙烯酸酯、2-丙烯酸乙基己基酯、3-丁氧基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇二甲基丙烯酸酯、2-丙烯酸异癸基酯、十六烷基丙烯酸酯、2-甲基-2-丙烯酸3-羟基-2,2-二甲基丙基酯、2-甲基-2-丙烯酸2-丁氧基乙基酯、2-(2-羟基乙氧基)乙基丙烯酸酯、油基甲基丙烯酸酯、3-(3-噻吩基)丙烯酸甲酯、1,5-戊烷二基二甲基丙烯酸酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸月桂酯、(3-甲氧基苯基)甲基2-丙烯酸酯、2-(乙烯基氧基)乙基甲基丙烯酸酯、2-(苯甲酰氧基)乙基甲基丙烯酸酯、对甲苯基甲基丙烯酸酯、3-苯甲酰基丙烯酸乙酯、2-(羟甲基)丙烯酸甲酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、6-(4-羟基苯氧基)己基丙烯酸酯、甲基丙烯酸正十一烷基酯、丙烯酸叔丁酯中的至少一种。
在一些实施方式中，所述引发剂为过氧化物和/或偶氮化合物。
在本发明中，过氧化物是指含有过氧键的化合物，包括烷基过氧化物、芳基过氧化物、氢过氧化物。其具体实例可以列举出，例如8-氢过氧二十碳四烯酸、过氧化二碳酸二异丙酯、过氧化双月桂酰、二叔戊基过氧化物、2-乙基己酰基2-乙基过氧己酸酯、过氧甲酸、过氧乙酸叔丁酯、过氧化异丁酸叔丁酯、二叔丁基过氧化物、过氧二乙酰、1-(3-吡啶基)乙基氢过氧化物、苯-1,2-二过氧甲酸、4-吡啶过氧甲酸、3-吡啶过氧甲酸、过氧化丁二酸、过氧化脲、过氧化环己酮、苯过氧甲酸叔己基酯、二氧基二(1-甲基丙亚基)氢过氧化物、2-苯基丙烷-2-基4,4-二甲基戊烷过氧羧酸酯、1,1,4,4-四甲基四亚甲基过氧壬酸酯、3,5,5-三甲基己酸过氧化叔丁酯、过氧丁酸、5-氢过氧基-1-甲基-2-吡咯烷酮、过氧化甲乙酮、过氧辛酸叔丁酯、2,2-二(叔戊基过氧)丁烷、2-乙基-过氧己酸叔己基酯、1-乙基过氧-1-氢过氧基乙烷、过氧癸酸、4-氢过氧基-2-戊酮、2-氢过氧基戊烷、过氧化丙酸叔丁酯。
在本发明中，偶氮化合物是指含有偶氮基的化合物。其具体实例可以列举出例如N-苯基-4-(2-苯基偶氮)-苯胺、偶氮二甲酰二哌啶、3-偶氮去甲金刚烷、3-甲基-N-[4-(2-苯基偶氮)苯基]-苯胺、4,4'-(偶氮二羰基)二吗啉、4-(2,4-二甲基苯基)偶氮-2-甲基苯胺、4-(2-吡啶基偶氮)间苯二酚、1-(2-噻唑基偶氮)-2-萘酚、苯基-(4-苯基偶氮苯基)二氮烯、5-甲基-2-苯基-4-苯基偶氮-4H-吡唑-3-酮、[4-(4-戊酰苯基)偶氮苯基]庚酸酯、[4-(4-戊酰苯基)偶氮苯基]癸酸酯、偶氮二甲酰胺、N-甲基-1-[2-[4-(2-苯基偶氮)苯基]偶氮]-2-萘胺、2-乙氧基-4-苯基偶氮苯胺、4-苯基偶氮-2-丙氧基苯胺、2-丁氧基-4-苯基偶氮苯胺、4-苯基偶氮萘-1-胺、4-(2-吡啶基偶氮)-N,N-二甲基苯胺、2,4,6-三(苯基偶氮)苯酚、2,2'-偶氮二(2-脒基丙烷)、2-[3-[3-(羧甲基)苯基]偶氮苯基]乙酸、1-(2-苯基偶氮)-乙酮、偶氮二异戊腈、4-(2,4-二甲基苯基)偶氮-2,5-二甲基苯胺、3-(5-氨基-2-甲基苯基)偶氮-4-甲基苯胺、3-(3-氨基-2-甲基苯基)偶氮-2-甲基苯胺、二(二偶氮乙酰基)丁烷、1-(3-吡啶基偶氮)-2-萘酚、N,N-二甲基-4-吡啶-3-基偶氮苯胺、4-(2-苯基偶氮)-苯甲酸、四异丙基偶氮二甲酰胺、N-(4-((4-(二甲基氨基)苯基)偶氮)苯基)乙酰胺、2-(对羟基苯偶氮)苯甲酸。
在一些实施方式中，所述第一改性剂为壳聚糖。
在一些实施方式中，所述壳聚糖的DD为60-70％。
本发明中，DD是指脱乙酰度，为壳聚糖分子中脱除乙酰基的糖残基数占分子链的百分数。DD可以用红外光谱法、紫外光谱法、核磁氢谱法来表征。
在一些实施方式中，所述壳聚糖的相对分子质量为8000-12000。
壳聚糖的相对分子质量，可以通过激光散射仪或HPLC来测定，也可以通过粘度法测定。
本发明中的壳聚糖可以直接购买得到，例如可以购买自上海杰醇生物科技有限公司、上海陆安生物科技有限公司。
在一些实施方式中，所述第二改性剂含有至少一个酚基和至少一个羧基。
作为本发明一种优选的实施方式，所述第二改性剂含有邻羟基苯甲酸基团。
在本发明中，作为第二改性剂的具体实例，包括但不限于4-羟基-3,5-二丙基-苯甲酸、4-乙基-3-羟基苯甲酸、2-甲酰基-3-羟基甲基-6-甲氧基-5-甲基苯甲酸、4-氯-3,5-二羟基苯甲酸、2-(氨基甲酰氨基)-5-羟基苯甲酸、5-乙酰基-2-氨基-4-羟基苯甲酸、3-氰基-5-羟基苯甲酸、2-氯-5-羟基-4-甲基苯甲酸、3-氟-5-羟基-4-甲氧基苯甲酸、4-羟基-3-甲氧基苯甲酸、5,5'-亚甲基二水杨酸、2-溴-5-羟基-4-甲氧基苯甲酸、3-(环丙基甲氧基)-4-羟基苯甲酸、3-羟基-4-(异丙氧基)苯甲酸、3,5-二异丙基-4-羟基苯甲酸、2-乙酰氨基-3-羟基苯甲酸、4-氨基-3-(羟基甲基)苯甲酸、3-溴-5-羟基苯甲酸、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸、4-溴-3-羟基苯甲酸、3,4,5-三羟基苯甲酸、3-乙氧基-5-甲酰基-2-羟基苯甲酸、5-溴-4-氯-2-羟基苯甲酸、5-氟-2-羟基-3-硝基苯甲酸、5-[[(2,5-二羟基苯基)甲基]氨基]-2-羟基-苯甲酸、5-[[(2,5-二羟基苯基)甲基][(2-羟基苯基)甲基]氨基]-2-羟基-苯甲酸、2-(2-(4-庚基苯基)乙基)-6-羟基苯甲酸、2,4-二羟基-6-(2-氧代丙基)苯甲酸、5-(氯乙酰基)-2-羟基苯甲酸、5-异丙基-2,4-二羟基苯甲酸、4-乙氧基-2-羟基苯甲酸、2-(8,11-十七碳二烯-1-基)-6-羟基苯甲酸、6-羟基-3-(5-羟基-2-甲氧羰基-3-戊基苯氧基)-4-甲氧基-2-戊基苯甲酸、2,3,4-三羟基-5-甲氧基苯甲酸、2,4,5-三羟基-3-甲氧基苯甲酸、5-(1-金刚烷基)-2-羟基苯甲酸、2-羟基-5-(三氟甲氧基)苯甲酸、5-乙酰基-2-羟基-苯甲酸、5-[氨基(羧基)甲基]-2-羟基苯甲酸。第二改性剂可以购买得到，例如5,5'-亚甲基二水杨酸可以购买自杭州杰恒化工有限公司。
在一些实施方式中，所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为将丙烯酸酯类化合物、第一改性剂、第二改性剂混合，加热至170℃，然后加入引发剂，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。
本申请的发明人在完成本发明的研究过程中发现，第一改性剂的较高的DD值以及相对分子质量能够有利于提高阻隔层的致密性，进而提高阻隔性能，但是过高的DD值及相对分子质量可能影响到硅油层的固化，尤其是影响油性硅油层的固化，反而降低了与硅油层和基材层的附着力，进而降低了阻隔性能。经过表面处理，第一改性剂和第二改性剂使阻隔层与基材的附着能力更好，不仅改善硅油的固化，且可以增加气体分子的行进路程，不仅提高阻隔性能，也能够提高离型膜的耐候性。
在一些实施方式中，所述基材层经过表面处理。
本发明中所述的表面处理，可以是磺化、氯磺化、氟化、等离子体中的任一种方法处理得到。经过表面处理方法得到的阻隔层，能够提高材料表面的内聚能密度和极性，从而提高材料的阻隔性能。
在一些实施方式中，所述基材层经过等离子体处理，优选的，经过低温等离子体处理。
等离子体是分子、原子、及其被电离后产生的正负电子组成的气体状物质。其粒子间存在长程库伦相互作用，等离子体的运动与电磁场的运动紧密耦合。当电子温度、离子温度、中性粒子温度相等时，等离子体处于热力学平衡状态，此时为高温等离子体。当电子温度大于离子温度，处于非平衡态的时候，为低温等离子体。
在一些实施方式中，所述等离子体处理为低温等离子体处理。本发明中采用低温等离子体对基材层进行处理。低温等离子体包括热等离子体和冷等离子体。
作为本发明一种优选的实施方案，采用冷等离子体对基材层进行处理。冷等离子体具有热力学的非平衡性。其中，电子温度远高于其离子和原子等重粒子的温度。在此条件下，电子具有足够的能量使基材层的分子激发、解离和电离，又可以使基材层保持低温或者接近室温。
若采用低温等离子体对基材层进行处理，所述低温等离子体可以通过直流电弧放电、辉光放电、微波放电、阻挡介质放电、电晕放电、射频放电等方式产生，
发明人发现，采用低温等离子体处理基材层，能够使基材层表面获得改性。特别是低温等离子体中的高能粒子和紫外线轰击基材层的表面，将引起分子链的断裂而发生表面刻蚀、交联。地问等离子体中的中性粒子，如原子、激发态分子或原子等，将其平动能和振动能传给基材层，使基材层表面加热。而其离解能则通过在基材层表面进行的消除、加成、氧化等化学反应而消耗掉，也可以通过在固体表面进行自由基复合而形成加热。低温等离子体中的荷电粒子，主要是电子和带正电荷的离子。具有较高动能的电子轰击到基材层的表面，使其产生大分子自由基。离子的动能较低，但其携带的电能足够高时，可以使基材层表面发生电子转移，进而产生大分子离子。
本发明对离型膜的基材层采用低温等离子体处理，其中的电磁辐射波长范围较宽，高能量的紫外线通过光电离作用使基材层电离，可见光及红外光可以被基材层吸收转化为热能或者为其它化学反应起到促进的作用，
低温等离子体处理的气源可以是反应性的，也可以是非反应性的。
作为反应性等离子体的具体实例，可以列举出例如氧等离子体、氮等离子体。氧和氮具有化学活性，可以直接结合到大分子链上，从而改变基材层表面的化学成分。进一步增加基材层的表面能，降低表面润湿角。
作为非反应性等离子体的具体实例，可以列举出例如惰性气体等离子体、氢等离子体。其对基材层进行轰击后，表面将产生大分子自由基，由于自由基的加成作用，使大分子间产生交联。经过非反应性等离子体处理的基材层表面形成较薄的交联层。不仅改变了基材层的表面自由能，也减少了基材层内部低分子量物质的渗出。
采用非反应性等离子体处理基材层，若基材层本身含有氧，则由于大分子断裂、分解而形成小分子碎片进入等离子体内，从而向等离子体体系中提供了氧，将会产生氧等离子体的一些效果。若基材层本身不含氧，则产生的自由基和空气中的氧作用，产生氧结合作用。同时产生交联、剥蚀和引入极性基团。
在一些实施方式中，所述低温等离子体处理的气源为氢气和氮气的混合气体，优选的，混合气体中氢气和氮气的体积比为1：3。
在一些实施方式中，所述低温等离子体处理时间为30-50min。
在一些实施方式中，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层。
在一些实施方式中，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层。
若本发明提供的耐候离型膜从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，则硅油层优选为油性硅油。若本发明提供的耐候离型膜从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，则硅油层优选为水性硅油。
本发明的第二方面提供一种如上所述的耐候离型膜的制备方法，包括如下步骤，可以通过层压共挤或者涂布得到。
下面结合具体实施例进一步阐述本发明。
实施例1
如图1，一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层1、阻隔层2、硅油层3，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例2
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为30％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例3
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为85％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例4
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为5000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例5
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为18000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例6
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例7
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例8
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例9
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源氮气。低温等离子体处理时间为40min。
实施例10
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气。低温等离子体处理时间为40min。
实施例11
一种耐候离型膜，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层。所述硅油层为热固性油性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚丙烯。所述阻隔层由PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。PVDC和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，在基材层上涂布阻隔层，最后在阻隔层上涂布硅油层。
采用气体阻隔性测试仪基于压差法测试实施例1-11的水汽透过率和氧气透过率。水汽透过率的单位为g·mm/24h·m3·mPa，氧气透过率的单位为cm3·mm/24h·m3·mPa。测试结果列于下表。
水汽透过率 氧气透过率
例1 0.14 0.42
例2 0.38 0.74
例3 0.29 0.68
例4 0.68 1.14
例5 0.47 0.89
例6 1.42 2.62
例7 0.85 1.45
例8 1.68 3.11
例9 2.54 4.24
例10 3.64 5.69
例11 4.25 7.43
实施例12
如图2，一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层2、基材层1、硅油层3，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例13
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为30％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例14
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为85％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例15
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为5000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例16
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为18000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例17
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例18
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例19
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气和氮气的混合气体，其中氢气和氮气的体积比为1：3。低温等离子体处理时间为40min。
实施例20
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氮气。低温等离子体处理时间为40min。
实施例21
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层，所述基材层经过表面处理。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，对基材进行低温等离子体处理，然后在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。所述表面处理为低温等离子体处理，采用的气源为氢气。低温等离子体处理时间为40min。
实施例22
一种耐候离型膜，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层。所述硅油层为水性硅油。所述硅油层为涂胶面。所述基材的材质为聚乙烯。所述阻隔层由EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。EVOH和改性丙烯酸酯类聚合物的重量比为22：1。所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备方法为，以重量份计，将丙烯酸异丁酯100份、壳聚糖6份、5,5'-亚甲基二水杨酸1.5份，加热至170℃，然后加入过氧化丁二酸0.4份，持续搅拌15h，冷却，定型，即得。壳聚糖的DD为64％，相对分子质量为11000。
离型膜制备方法，在基材层上涂布阻隔层，在基材层的另一面涂布硅油层。
采用气体阻隔性测试仪基于压差法测试实施例12-22的水汽透过率和氧气透过率。水汽透过率的单位为g·mm/24h·m3·mPa，氧气透过率的单位为cm3·mm/24h·m3·mPa。测试结果列于下表。
在本申请中任何和所有的实施例，或示例性语言(例如，“例如”)的使用，都仅旨在更好地阐明本发明，而不是在本发明的范围上加以限制，除非另有主张。不应将在说明书中的语言理解为表明任何未主张的要素是实施本发明所必需的。
本申请中描述了本发明的优选实施方式，包括发明人所知道的实施本发明的最佳方式。对于阅读了前述说明书的本领域普通技术人员来说，那些优选实施方式的变通方式可以是显而易见的。本发明人期望本领域技术人员适当地使用这种变化，并且发明人旨在以与本文具体描述的不同的方式实施本发明。因此，本发明包括随后附具的权利要求中所述主题的所有适用法律准许的改变和等同实施。而且，本发明包括以上所述要素的所有可能的变通方式的任意组合，除非在本申请中另有说明或者与上下文明显矛盾。
对于本公开，还有以下几点需要说明：
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。
(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种耐候离型膜，其特征在于，包括基材层、硅油层、阻隔层，所述基材层经过表面处理。
2.如权利要求1所述的耐候离型膜，其特征在于，从下至上依次为基材层、阻隔层、硅油层。
3.如权利要求1所述的耐候离型膜，其特征在于，从下至上依次为阻隔层、基材层、硅油层。
4.如权利要求2所述的耐候离型膜，其特征在于，所述硅油层为油性硅油。
5.如权利要求3所述的耐候离型膜，其特征在于，所述硅油层为水性硅油。
6.如权利要求2或3所述的耐候离型膜，其特征在于，所述硅油层为涂胶面。
7.如权利要求2或3所述的耐候离型膜，其特征在于，所述基材的材质为聚烯烃。
8.如权利要求2或3所述的耐候离型膜，其特征在于，所述阻隔层由PVDC、PVA、EVOH中的至少一种和改性丙烯酸酯类聚合物共混得到。
9.如权利要求8所述的耐候离型膜，其特征在于，所述改性丙烯酸酯类聚合物的制备原料包括丙烯酸酯类化合物、引发剂、第一改性剂、第二改性剂。
10.一种如权利要求1-9中任一项权利要求所述的耐候离型膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤，可以通过层压共挤或者涂布得到。
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