CN108987449A - 像素界定层及其制造方法、显示基板 - Google Patents
像素界定层及其制造方法、显示基板 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108987449A CN108987449A CN201810842961.5A CN201810842961A CN108987449A CN 108987449 A CN108987449 A CN 108987449A CN 201810842961 A CN201810842961 A CN 201810842961A CN 108987449 A CN108987449 A CN 108987449A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- lyophobic
- lyophilic
- precursor solution
- underlay substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明公开了一种像素界定层及其制造方法、显示基板，属于显示技术领域。包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成前驱溶液层，所述前驱溶液层由前驱溶液制成，所述前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成；向形成有所述前驱溶液层的衬底基板施加磁场，得到由所述无机磁性材料形成的亲液材料层以及由所述有机材料形成的疏液材料层；对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案。本发明简化了像素界定层的制备工艺，提高了像素界定层的生产效率，且提高了像素界定层的结构稳定性。本发明用于制造像素界定层。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种像素界定层及其制造方法、显示基板。
背景技术
自发光的显示面板通常包括衬底基板以及依次设置在衬底基板上的阳极、发光层和阴极等。其中，发光层通常包括空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层和电子注入层。发光层中的各膜层可以采用喷墨打印(Ink-JetPrinting，IJP)技术制备。在采用喷墨打印技术制备发光层之前，需要先在衬底基板上形成像素界定层，然后依次将对应的溶液喷墨到形成有像素界定层的衬底基板上，以形成发光层中的各个膜层。
目前，为了提高发光层中各个膜层的膜厚均匀性(也称膜层均一性)，通常设计具有两层结构的像素界定层，该像素界定层包括沿远离衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案。由于亲液材料图案具有较高的表面能，对喷墨的溶液有吸引作用；疏液材料图案具有较低的表面能，对喷墨的溶液有排斥作用，因此当在像素界定层之间的像素区域内喷墨溶液以形成发光层时，疏液材料图案可以抑制溶液在像素界定层的斜面上攀爬。
相关技术中，上述像素界定层的制备过程包括：先在衬底基板上形成亲液材料层，对亲液材料层进行图案化处理，得到亲液材料图案；再在形成有亲液材料图案的衬底基板上形成疏液材料层，对疏液材料层进行图案化处理，得到疏液材料图案。
由于相关技术中像素界定层的制备过程中，需要经过两次成膜工艺分别制备亲液材料图案和疏液材料图案，亲液性材料和疏液性材料之间存在界面，容易发生分离，因此像素界定层的结构稳定性较低，且像素界定层的制备工艺较复杂。
发明内容
本发明实施例提供了一种像素界定层及其制造方法、显示基板，可以解决相关技术中像素界定层的结构稳定性较低，且像素界定层的制备工艺较复杂的问题。所述技术方案如下：
第一方面，提供了一种像素界定层的制造方法，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成前驱溶液层，所述前驱溶液层由前驱溶液制成，所述前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成；
向形成有所述前驱溶液层的衬底基板施加磁场，使所述无机磁性材料朝靠近所述衬底基板的方向移动，以与所述有机材料分层，得到由所述无机磁性材料形成的亲液材料层以及由所述有机材料形成的疏液材料层；
对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案。
可选的，所述对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案，包括：
通过一次干刻工艺对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，以形成所述疏液材料图案和所述亲液材料图案。
可选的，所述对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案，包括：
通过湿刻工艺或构图工艺对所述疏液材料层进行图案化处理，以形成所述疏液材料图案；
通过干刻工艺对所述亲液材料层进行图案化处理，以形成所述亲液材料图案。
可选的，在所述得到由所述无机磁性材料形成的亲液材料层以及由所述有机材料形成的疏液材料层之后，所述方法还包括：
对所述亲液材料层和所述疏液材料层进行预固化处理。
可选的，所述向形成有所述前驱溶液层的衬底基板施加磁场，包括：
在对所述前驱溶液层进行预固化处理的过程中，向形成有所述前驱溶液层的衬底基板施加磁场。
可选的，所述前驱溶液中所述有机材料的质量百分比为50％至70％；
所述前驱溶液中所述无机磁性材料的质量百分比为30％至50％。
第二方面，提供了一种像素界定层，包括：
层叠设置在衬底基板上的亲液材料图案和疏液材料图案，所述亲液材料图案由亲液性的无机磁性材料制成，所述疏液材料图案由疏液性的有机材料制成。
可选的，所述无机磁性材料中包括由金属和金属氧化物中的至少一种形成的无机纳米磁性颗粒。
可选的，所述亲液材料图案的厚度范围为0.6至1.5微米；
所述疏液材料图案的厚度范围为1.0至2.0微米。
第三方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的如第二方面任一所述的像素界定层。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明实施例提供了的一种像素界定层及其制造方法、显示基板，在衬底基板上形成前驱溶液层，由于制备前驱溶液层的前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成，通过向前驱溶液层施加磁场，使无机磁性材料朝靠近衬底基板的方向移动，以使前驱溶液层中的无机磁性材料与有机材料分层，得到由无机磁性材料形成的亲液材料层以及由有机材料形成的疏液材料层。在本发明实施例中，通过一次成膜工艺形成亲液材料层和疏液材料层，一方面，简化了像素界定层的制备工艺，提高了像素界定层的生产效率；另一方面，由于亲液材料层和疏液材料层是通过施加磁场使前驱溶液层中的无机磁性材料和有机材料分层得到的，因此亲液材料层和疏液材料层在一定程度上属于一体结构，解决了相关技术中两层之间存在界面的问题，提高了像素界定层的结构稳定性。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种像素界定层的制造方法的流程图；
图2是本发明实施例提供的另一种像素界定层的制造方法流程图；
图3是本发明实施例提供的一种像素界定层的结构示意图；
图4是本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
图1是本发明实施例提供的一种像素界定层的制造方法的流程图，如图1所示，该方法包括：
步骤101、提供一衬底基板。
步骤102、在衬底基板上形成前驱溶液层，前驱溶液层由前驱溶液制成，前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成。
步骤103、向形成有前驱溶液层的衬底基板施加磁场，使无机磁性材料朝靠近衬底基板的方向移动，以与有机材料分层，得到由无机磁性材料形成的亲液材料层以及由有机材料形成的疏液材料层。
步骤104、对疏液材料层和亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案。
综上所述，本发明实施例提供的像素界定层的制造方法，在衬底基板上形成前驱溶液层，由于制备前驱溶液层的前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成，通过向前驱溶液层施加磁场，使无机磁性材料朝靠近衬底基板的方向移动，以使前驱溶液层中的无机磁性材料与有机材料分层，得到由无机磁性材料形成的亲液材料层以及由有机材料形成的疏液材料层。在本发明实施例中，通过一次成膜工艺形成亲液材料层和疏液材料层，一方面，简化了像素界定层的制备工艺，提高了像素界定层的生产效率；另一方面，由于亲液材料层和疏液材料层是通过施加磁场使前驱溶液层中的无机磁性材料和有机材料分层得到的，因此亲液材料层和疏液材料层在一定程度上属于一体结构，解决了相关技术中两层之间存在界面的问题，提高了像素界定层的结构稳定性。
可选的，在对疏液材料层和亲液材料层进行图案化处理之前，需要对衬底基板上的膜层进行预固化处理，其中，预固化处理也可称为热固化处理或固化处理，对衬底基板上的膜层进行预固化处理可以使衬底基板上的疏液材料层和亲液材料层固化成型，便于后续对其进行图案化处理。在本发明实施例中，可以在得到由无机磁性材料形成的亲液材料层以及由有机材料形成的疏液材料层之后，对亲液材料层和疏液材料层进行预固化处理，也即是，先形成亲液材料层和疏液材料层，再对亲液材料层和疏液材料层进行预固化处理；或者，可以在对前驱溶液层进行预固化处理的过程中，向形成有前驱溶液层的衬底基板施加磁场，也即是，有机材料和无机磁性材料的分层过程与预固化过程同时进行，本发明实施例对此不做限定。示例的，本发明实施例以在对前驱溶液层进行预固化处理的过程中，向形成有前驱溶液层的衬底基板施加磁场为例，对像素界定层的制造过程进行说明。图2是本发明实施例提供的另一种像素界定层的制造方法流程图，如图2所示，该方法包括：
步骤201、提供一衬底基板。
可选的，该衬底基板可以由玻璃、硅片、石英以及塑料等透明材料制成。
步骤202、在衬底基板上形成前驱溶液层，前驱溶液层由前驱溶液制成，前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成。
可选的，在衬底基板上形成前驱溶液层的方式有多种，例如可以采用前驱溶液通过喷墨打印、旋涂、狭缝涂布(slit coating)或刮涂等方式在衬底基板上形成前驱溶液层，本发明实施例对前驱溶液层的形成方式不做限定。
可选的，前驱溶液层的厚度范围为1.6至3.5微米。示例的，当采用喷墨打印的方式在衬底基板上形成前驱溶液层时，可以通过调节喷墨打印的参数形成指定厚度的前驱溶液层。
需要说明的是，疏液性的有机材料由表面能较低的有机聚合物制备得到。例如，疏液性的有机材料可以由氟化聚酰亚胺、氟化聚甲基丙烯酸甲酯和聚硅氧烷中的至少一种制备得到。亲液性的无机磁性材料由表面能较高的无机磁性颗粒制备得到。可选的，无机磁性材料中可以包括由金属和金属氧化物中的至少一种形成的无机纳米磁性颗粒。其中，用于形成无机纳米磁性颗粒的金属可以为纯金属，也可以为合金；金属氧化物可以包括三氧化二铁或四氧化三铁等。可选的，无机纳米磁性颗粒的尺寸范围为20至500纳米。
由于纳米颗粒易出现团聚现象，因此在本发明实施例中，可以在无机纳米磁性颗粒的表面进行亲液修饰，例如采用亲液性的有机材料对无机纳米磁性颗粒的表面进行涂覆处理，以防止无机纳米磁性颗粒团聚，提高纳米颗粒稳定性。
可选的，前驱溶液中有机材料的质量百分比为50％至70％；前驱溶液中无机磁性材料的质量百分比为30％至50％。可以通过器械搅拌或者超声搅拌的方式将无机磁性材料分散至有机材料中，以形成前驱溶液。
步骤203、在对前驱溶液层进行预固化处理的过程中，向形成有前驱溶液层的衬底基板施加磁场，使无机磁性材料朝靠近衬底基板的方向移动，以与有机材料分层，得到由无机磁性材料形成的亲液材料层以及由有机材料形成的疏液材料层。
可选的，通过加热的方式对前驱溶液层进行预固化处理，例如可以采用紫外线(Ultraviolet rays，UV)照射或红外照射等加热方式对前驱溶液层进行预固化处理。可选在50至100摄氏度的温度下对前驱溶液层进行预固化处理，预固化处理的时间可选为1至30分钟，其中，预固化处理的温度与时间负相关，也即是，预固化处理的温度越高，时间越短。
在对前驱溶液层进行预固化处理的过程中，向形成有前驱溶液层的衬底基板施加磁场，也即是，在加热前驱溶液层的同时，向形成有前驱溶液层的衬底基板施加磁场，在磁场的作用下，无机磁性材料朝靠近衬底基板的方向移动，也即是无机磁性材料下沉，进而使得有机材料相对于无机磁性材料朝远离衬底基板的方向移动，也即是有机材料上浮，无机磁性材料和有机材料分层后，分别形成亲液材料层和疏液材料层。
步骤204、对疏液材料层和亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案。
在本发明实施例中，可以对疏液材料层和亲液材料层进行一次图案化处理，得到亲液材料图案和疏液材料图案；或者，可以对疏液材料层和亲液材料层分别进行图案化处理(即进行两次图案化处理)，得到亲液材料图案和疏液材料图案，也即是，先对疏液材料层进行一次图案化处理，得到疏液材料图案，再对亲液材料层进行一次图案化处理，得到亲液材料图案。
在本发明的一个可选实施例中，通过一次干刻工艺对疏液材料层和亲液材料层进行图案化处理，以形成疏液材料图案和亲液材料图案。
需要说明的是，干刻工艺中所选择的刻蚀气体既能对疏液材料层进行刻蚀，也能对亲液材料层进行刻蚀。
示例的，可以采用四氟化碳气体和氧气的混合气体作为刻蚀气体。本发明实施例中，在刻蚀不同膜层(疏液材料层和亲液材料层)时，可以通过调节刻蚀气体中气体的比例，以提高刻蚀效率。例如，在刻蚀疏液材料层时，刻蚀气体中四氟化碳与氧气的比例为第一比例；疏液材料层刻蚀完毕后，将刻蚀气体中四氟化碳与氧气的比例调整为第二比例，采用调整后的刻蚀气体刻蚀亲液材料层，其中，第一比例大于第二比例。由于四氟化碳气体对有机材料的刻蚀强度较大，氧气对无机磁性材料的刻蚀强度较大，在刻蚀疏液材料层时，增大四氟化碳气体在刻蚀气体中的占比，在刻蚀亲液材料层时，增大氧气在刻蚀气体中的占比，分别提高了疏液材料层和亲液材料层的刻蚀效率。
需要说明的是，通过一次干刻工艺对疏液材料层和亲液材料层进行图案化处理，以得到疏液材料图案和亲液材料图案，即通过一次图案化处理完成像素界定层的制备，与相关技术相比，进一步简化了像素界定层的制备工艺，进而提高了像素界定层的生产效率。
在本发明的另一个可选实施例中，通过湿刻工艺或构图工艺对疏液材料层进行图案化处理，以形成疏液材料图案；通过干刻工艺对亲液材料层进行图案化处理，以形成亲液材料图案。
其中，构图工艺包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。需要说明的是，本发明实施例对疏液材料层进行图案化处理所采用的工艺不做限定，例如还可以通过干刻工艺对疏液材料层进行图案化处理。由于亲液材料层中的无机纳米磁性颗粒的表面可能由亲液性的有机材料进行亲液修饰，当采用金属刻蚀工艺对亲液材料层进行刻蚀时，无法去除刻蚀区域(即像素区域)内的有机材料，影响显示基板的发光性能，因此通常采用干刻工艺对亲液材料层进行图案化处理，以保证刻蚀效果。
步骤205、对亲液材料图案和疏液材料图案进行固化处理，得到像素界定层。
可选的，通过热处理工艺对亲液材料图案和疏液材料图案进行固化处理，例如可以采用后烘或退火等热处理工艺对亲液材料图案和疏液材料图案进行固化处理。可选在160至220摄氏度的温度下对亲液材料图案和疏液材料图案进行固化处理，固化处理的时间可选为5至60分钟，其中，固化处理的温度与时间负相关，也即是，固化处理的温度越高，时间越短。
可选的，亲液材料图案的厚度范围为0.6至1.5微米；疏液材料图案的厚度范围为1.0至2.0微米。
需要说明的是，本发明实施例提供的像素界定层的制造方法的步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的像素界定层的制造方法，在衬底基板上形成前驱溶液层，由于制备前驱溶液层的前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成，通过向前驱溶液层施加磁场，使无机磁性材料朝靠近衬底基板的方向移动，相应的，有机材料向远离衬底基板的方向移动，前驱溶液层中的无机磁性材料与有机材料分层，得到由无机磁性材料形成的亲液材料层以及由有机材料形成的疏液材料层。在本发明实施例中，通过一次成膜工艺形成亲液材料层和疏液材料层，一方面，简化了像素界定层的制备工艺，提高了像素界定层的生产效率；另一方面，由于亲液材料层和疏液材料层是通过施加磁场使前驱溶液层中的无机磁性材料和有机材料分层得到的，因此亲液材料层和疏液材料层在一定程度上属于一体结构，解决了相关技术中两层之间的界面问题，提高了像素界定层的结构稳定性。
图3是本发明实施例提供的一种像素界定层的结构示意图，如图3所示，该像素界定层30可以包括：层叠设置在衬底基板00上的亲液材料图案301和疏液材料图案302。亲液材料图案301由亲液性的无机磁性材料制成，疏液材料图案302由疏液性的有机材料制成。
可选的，该衬底基板可以由玻璃、硅片、石英以及塑料等透明材料制成。疏液性的有机材料由表面能较低的有机聚合物制备得到。例如疏液性的有机材料可以由氟化聚酰亚胺、氟化聚甲基丙烯酸甲酯和聚硅氧烷中的至少一种制备得到。亲液性的无机磁性材料由表面能较高的无机磁性颗粒制备得到。可选的，无机磁性材料中可以包括由金属和金属氧化物中的至少一种形成的无机纳米磁性颗粒。其中，用于形成无机纳米磁性颗粒的金属可以为纯金属，也可以为合金；金属氧化物可以包括三氧化二铁或四氧化三铁等。可选的，无机纳米磁性颗粒的尺寸范围为20至500纳米。
可选的，亲液材料图案的厚度范围为0.6至1.5微米；疏液材料图案的厚度范围为1.0至2.0微米。
综上所述，本发明实施例提供的像素界定层，在衬底基板上形成前驱溶液层，由于制备前驱溶液层的前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成，通过向前驱溶液层施加磁场，使无机磁性材料朝靠近衬底基板的方向移动，以使前驱溶液层中的无机磁性材料与有机材料分层，得到由无机磁性材料形成的亲液材料层以及由有机材料形成的疏液材料层。在本发明实施例中，通过一次成膜工艺形成亲液材料层和疏液材料层，一方面，简化了像素界定层的制备工艺，提高了像素界定层的生产效率；另一方面，由于亲液材料层和疏液材料层是通过施加磁场使前驱溶液层中的无机磁性材料和有机材料分层得到的，因此亲液材料层和疏液材料层在一定程度上属于一体结构，解决了相关技术中两层之间存在界面的问题，提高了像素界定层的结构稳定性。
关于上述实施例中的结构，其中各个膜层的制备方式以及材质已经在有关该方法的实施例中进行了详细描述，此处将不做详细阐述说明。
图4是本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图，如图4所示，该显示基板可以包括：衬底基板00以及设置在衬底基板00上的像素界定层30，该像素界定层可以为如图3所示的像素界定层。
需要说明的是，本发明实施例提供的像素界定层适用于所有喷墨打印器件，喷墨打印器件包括有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)器件、量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes，QLED)器件、有机光电探测器件(OrganicPhoto Detector，OPD)、有机光伏(Organic Photo Voltaic，OPV)器件、有机薄膜晶体管(Organic Thin Film Transistor，OTFT)器件等。
进一步的，显示基板还包括：发光层40、第一电极50和第二电极60，第一电极50设置在衬底基板00和像素界定层30之间，发光层40包括设置在像素界定层30之间的像素区域A内的发光材料层401和整层设置的发光辅助层402，第二电极60设置在发光层40远离衬底基板00一侧。其中，第一电极和第二电极分别为阳极和阴极中的一种，发光辅助层包括第一载流子注入层、第一载流子传输层、第二载流子传输层和第二载流子注入层，发光材料层设置在第一载流子传输层和第二载流子传输层之间。当第一电极为阳极，第二电极为阴极时，第一载流子为空穴，第二载流子为电子；当第一电极为阴极，第二电极为阳极时，第二载流子为电子，第二载流子为空穴。
综上所述，本发明实施例提供的显示基板，在衬底基板上形成前驱溶液层，由于制备前驱溶液层的前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成，通过向前驱溶液层施加磁场，使无机磁性材料朝靠近衬底基板的方向移动，以使前驱溶液层中的无机磁性材料与有机材料分层，得到由无机磁性材料形成的亲液材料层以及由有机材料形成的疏液材料层。在本发明实施例中，通过一次成膜工艺形成亲液材料层和疏液材料层，一方面，简化了像素界定层的制备工艺，提高了像素界定层的生产效率；另一方面，由于亲液材料层和疏液材料层是通过施加磁场使前驱溶液层中的无机磁性材料和有机材料分层得到的，因此亲液材料层和疏液材料层在一定程度上属于一体结构，解决了相关技术中两层之间存在界面的问题，提高了像素界定层的结构稳定性，进一步提高了显示基板的结构稳定性。
本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括如图4所示的显示基板。
可选的，本发明实施例提供的显示装置可以为电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框和导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
以上所述仅为本发明的可选实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种像素界定层的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成前驱溶液层，所述前驱溶液层由前驱溶液制成，所述前驱溶液由疏液性的有机材料和亲液性的无机磁性材料混合而成；
向形成有所述前驱溶液层的衬底基板施加磁场，使所述无机磁性材料朝靠近所述衬底基板的方向移动，以与所述有机材料分层，得到由所述无机磁性材料形成的亲液材料层以及由所述有机材料形成的疏液材料层；
对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案，包括：
通过一次干刻工艺对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，以形成所述疏液材料图案和所述亲液材料图案。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述疏液材料层和所述亲液材料层进行图案化处理，得到沿远离所述衬底基板的方向层叠设置的亲液材料图案和疏液材料图案，包括：
通过湿刻工艺或构图工艺对所述疏液材料层进行图案化处理，以形成所述疏液材料图案；
通过干刻工艺对所述亲液材料层进行图案化处理，以形成所述亲液材料图案。
4.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，在所述得到由所述无机磁性材料形成的亲液材料层以及由所述有机材料形成的疏液材料层之后，所述方法还包括：
对所述亲液材料层和所述疏液材料层进行预固化处理。
5.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述向形成有所述前驱溶液层的衬底基板施加磁场，包括：
在对所述前驱溶液层进行预固化处理的过程中，向形成有所述前驱溶液层的衬底基板施加磁场。
6.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，
所述前驱溶液中所述有机材料的质量百分比为50％至70％；
所述前驱溶液中所述无机磁性材料的质量百分比为30％至50％。
7.一种像素界定层，其特征在于，包括：
层叠设置在衬底基板上的亲液材料图案和疏液材料图案，所述亲液材料图案由亲液性的无机磁性材料制成，所述疏液材料图案由疏液性的有机材料制成。
8.根据权利要求7所述的像素界定层，其特征在于，包括：
所述无机磁性材料中包括由金属和金属氧化物中的至少一种形成的无机纳米磁性颗粒。
9.根据权利要求7或8所述的像素界定层，其特征在于，
所述亲液材料图案的厚度范围为0.6至1.5微米；
所述疏液材料图案的厚度范围为1.0至2.0微米。
10.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的如权利要求7至9任一所述的像素界定层。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810842961.5A CN108987449B (zh) | 2018-07-27 | 2018-07-27 | 像素界定层及其制造方法、显示基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810842961.5A CN108987449B (zh) | 2018-07-27 | 2018-07-27 | 像素界定层及其制造方法、显示基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108987449A true CN108987449A (zh) | 2018-12-11 |
| CN108987449B CN108987449B (zh) | 2021-01-19 |
Family
ID=64551350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810842961.5A Active CN108987449B (zh) | 2018-07-27 | 2018-07-27 | 像素界定层及其制造方法、显示基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108987449B (zh) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109728205A (zh) * | 2019-01-02 | 2019-05-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板、其制作方法及显示装置 |
| CN110034170A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-07-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置 |
| CN110047887A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-07-23 | 云谷（固安）科技有限公司 | 显示面板及显示装置 |
| CN110098352A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-08-06 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | 界定溶液、显示基板、显示装置和制备像素界定层方法 |
| CN110164947A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-08-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制备方法、显示面板 |
| CN110350011A (zh) * | 2019-07-11 | 2019-10-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制备方法、显示基板 |
| CN112271200A (zh) * | 2020-10-26 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
| CN112864213A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-05-28 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | 一种基板、oled显示屏及基板的制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130004416A1 (en) * | 2005-08-19 | 2013-01-03 | Abbott Laboratories | Dual Variable Domain Immunoglobulin and Uses Thereof |
| CN105932037A (zh) * | 2016-05-12 | 2016-09-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置 |
| CN106941112A (zh) * | 2017-05-05 | 2017-07-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制造方法、显示基板 |
| CN108091580A (zh) * | 2017-12-11 | 2018-05-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板、像素隔离墙及其制备方法 |
| CN108198845A (zh) * | 2018-01-10 | 2018-06-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置 |
-
2018
- 2018-07-27 CN CN201810842961.5A patent/CN108987449B/zh active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130004416A1 (en) * | 2005-08-19 | 2013-01-03 | Abbott Laboratories | Dual Variable Domain Immunoglobulin and Uses Thereof |
| CN105932037A (zh) * | 2016-05-12 | 2016-09-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置 |
| CN106941112A (zh) * | 2017-05-05 | 2017-07-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制造方法、显示基板 |
| CN108091580A (zh) * | 2017-12-11 | 2018-05-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板、像素隔离墙及其制备方法 |
| CN108198845A (zh) * | 2018-01-10 | 2018-06-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置 |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109728205A (zh) * | 2019-01-02 | 2019-05-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板、其制作方法及显示装置 |
| CN110047887A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-07-23 | 云谷（固安）科技有限公司 | 显示面板及显示装置 |
| CN110034170A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-07-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制作方法、阵列基板、显示面板和装置 |
| WO2020233479A1 (zh) * | 2019-05-17 | 2020-11-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 界定溶液、显示基板、显示装置和制备像素界定层方法 |
| CN110098352A (zh) * | 2019-05-17 | 2019-08-06 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | 界定溶液、显示基板、显示装置和制备像素界定层方法 |
| US11690267B2 (en) | 2019-05-17 | 2023-06-27 | Hefei Boe Joint Technology Co., Ltd. | Defining solution, display panel, display apparatus, and method of preparing pixel defining layer |
| CN110164947A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-08-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制备方法、显示面板 |
| CN110164947B (zh) * | 2019-06-12 | 2021-03-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制备方法、显示面板 |
| CN110350011A (zh) * | 2019-07-11 | 2019-10-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制备方法、显示基板 |
| CN110350011B (zh) * | 2019-07-11 | 2021-12-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制备方法、显示基板 |
| CN112271200A (zh) * | 2020-10-26 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
| CN112271200B (zh) * | 2020-10-26 | 2022-07-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
| CN112864213A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-05-28 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | 一种基板、oled显示屏及基板的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108987449B (zh) | 2021-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN108987449A (zh) | 像素界定层及其制造方法、显示基板 | |
| CN103947002B (zh) | 并入了添加剂的透明导体以及相关的制造方法 | |
| Bae et al. | Quantum dot-integrated GaN light-emitting diodes with resolution beyond the retinal limit | |
| CN106941112A (zh) | 像素界定层及其制造方法、显示基板 | |
| CN110289363B (zh) | 纳米粒子层图案化的方法、量子点发光器件及显示装置 | |
| US20140203303A1 (en) | Light-Emitting Diode Display Substrate, Method For Manufacturing Same, And Display Device | |
| Azzellino et al. | Micron‐Scale Patterning of High Quantum Yield Quantum Dot LEDs | |
| CN108198845B (zh) | 像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置 | |
| CN101926234A (zh) | 在基底上形成颗粒薄层的方法 | |
| EP2510546B1 (en) | Electronic device | |
| CN111900269A (zh) | 一种量子点层图案化的方法及量子点发光器件的制作方法 | |
| Wang et al. | A few key technologies of quantum dot light-emitting diodes for display | |
| Han et al. | Inkjet printed quantum dot film formed by controlling surface wettability for blue-to-green color conversion | |
| CN110364559B (zh) | Qled显示屏及制备方法 | |
| Yang et al. | Towards micro-PeLED displays | |
| CN107026247A (zh) | 有机发光显示装置和制造有机发光显示装置的方法 | |
| Liang et al. | Patterning technologies for metal halide perovskites: a review | |
| CN107170781A (zh) | 一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置 | |
| US8723015B2 (en) | Photoelectric conversion device, image display, method of manufacturing photoelectric conversion device, and method of manufacturing image display | |
| KR101326127B1 (ko) | 패턴 어레이 형성 방법 및 이를 사용하여 형성된 패턴어레이를 포함하는 유기 소자 | |
| US11672162B2 (en) | Method for patterning quantum dot layer, method for manufacturing light emitting device | |
| Lee et al. | Patterning of metal halide perovskite thin films and functional layers for optoelectronic applications | |
| Lee et al. | Printed microlens arrays for enhancing light extraction from organic light-emitting devices | |
| CN110098220A (zh) | 像素界定结构及发光器件的制作方法 | |
| Liang et al. | Femtosecond Laser Patterning Wettability‐Assisted PDMS for Fabrication of Flexible Silver Nanowires Electrodes |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |