CN112864213A - 一种基板、oled显示屏及基板的制备方法 - Google Patents

Abstract

本公开实施例提供了一种基板、OLED显示屏及基板的制备方法，基板至少包括：衬底，设置在衬底上的像素界定层；其中，像素界定层包括：第一像素界定子层和第二像素界定子层，第一像素界定子层远离衬底；第一像素界定子层和第二像素界定子层为预定溶液通过预定烘烤曝光显影工艺形成，预定溶液至少包括：主体材料、第一掺杂材料、第二掺杂材料、溶剂、引发剂；第二掺杂材料的氟含量小于第一掺杂材料的氟含量。本公开实施例通过简单的工艺制造了具有双层像素界定层效果的基板，增加了基板的像素界定层的疏液性，降低墨滴的攀爬，提高膜厚均匀性，提升像素有效开口，优化显示面板寿命。

Description

一种基板、OLED显示屏及基板的制备方法

技术领域

本公开涉及显示器领域，特别涉及一种基板、OLED显示屏及基板的制备方法。

背景技术

OLED(OrganicLight-Emitting Diode，有机电致发光器件)作为一种新型的发光器件，在显示和照明领域体现出了巨大的应用潜力，因而受到了学术界和产业界的强烈关注。在显示领域，OLED相对于LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点。

IJP(ink-jet printing，喷墨打印)工艺需要预先在基板的电极上制作PDL(pixeldefinition layer，像素界定层)，以限定墨滴精确的流入指定的R/G/B亚像素区，墨滴需要在ITO(氧化铟锡/导电玻璃)像素内充分铺展，且又不溢出。现有技术中，影响墨滴膜厚均匀性的因素一般分为两个：

如图1所示，对于双层PDL，目前PDL采用顶部表面能较小而底部表面能较大的双功能材料，PDL顶部表面能小使得表层具备疏液性从而保证墨滴不会溢流，PDL底部表面能大使得底层具备一定的亲液性，从而保证墨滴在ITO像素内铺展完全以避免墨滴在ITO像素铺展不完全而产生的针孔漏电现象。

但是，目前双层PDL工艺复杂，一般为有机树脂及无机物，需要2种工艺，且2套Mask，制造成本高，工艺风险大。

如图2所示，对于单层PDL，单层PDL材料一般只能做到顶部表面很薄一层具备疏液性，而PDL材料下部大部分厚度均具备亲液性，两侧的PDL对墨水溶液有很强的亲和力，这样由于墨滴在干燥过程中会沿着PDL亲液层攀爬至疏液层高度形成边缘厚，中间厚的不均匀薄膜，这种不均匀的薄膜容易导致器件像素内发光不均匀，进而影响器件的寿命表现。

发明内容

有鉴于此，本公开实施例提出了一种基板、OLED显示屏及基板的制备方法，用以解决现有技术中单层PDL的疏液性能不达标、双层PDL工艺太复杂的问题。

一方面，本公开实施例提出了一种基板，至少包括：衬底，设置在所述衬底上的像素界定层；其中，所述像素界定层包括：第一像素界定子层和第二像素界定子层，所述第一像素界定子层远离所述衬底；所述第一像素界定子层和所述第二像素界定子层为预定溶液通过预定烘烤曝光显影工艺形成，所述预定溶液至少包括：主体材料、第一掺杂材料、第二掺杂材料、溶剂、引发剂；所述第二掺杂材料的氟含量小于所述第一掺杂材料的氟含量。

在一些实施例中，所述第一掺杂材料的氟含量为10％-60％。

在一些实施例中，所述第二掺杂材料的氟含量为所述第一掺杂材料的氟含量的30％-70％。

在一些实施例中，还包括：设置在所述像素界定层中的像素。

在一些实施例中，所述像素包括：R色像素、B色像素、G色像素。

在一些实施例中，所述预定烘烤曝光显影工艺依次包括：真空冷凝干燥、软烘、曝光、显影、硬烘。

在一些实施例中，所述衬底为玻璃衬底。

另一方面，本公开实施例提出了一种OLED显示屏，至少包括：本公开任意实施例提供的所述的基板。

另一方面，本公开实施例提出了一种基板的制备方法，用于制备本公开任意实施例提供的所述的基板，包括：在衬底上涂布预定溶液；对所述预定溶液进行真空冷凝干燥处理，并对真空冷凝干燥处理后的所述预定溶液进行软烘处理；对软烘处理后的所述预定溶液进行曝光及显影处理，以得到具有像素孔的像素界定层；对所述像素界定层进行硬烘处理。

在一些实施例中，对所述像素界定层进行硬烘处理之后，还包括：采用喷墨打印工艺在所述像素界定层中设置像素。

本公开实施例通过简单的工艺制造了具有双层像素界定层效果的基板，增加了基板的像素界定层的疏液性，降低墨滴的攀爬，提高膜厚均匀性，提升像素有效开口，优化显示面板寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中的双层PDL示意图；

图2为现有技术中的的单层PDL示意图；

图3为本公开实施例提供的基板的结构示意图一；

图4为本公开实施例提供的聚合反应的原理示意图；

图5为本公开实施例提供的基板的结构示意图二；

图6为本公开实施例提供的基板的制备方法的流程图。

附图标记：

1-衬底，2-像素界定层，21-第一像素界定子层，22-第二像素界定子层，3-像素。

具体实施方式

为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。

现有技术中单层PDL的疏液性能不达标、双层PDL工艺太复杂，也容易产生咖啡环效应。咖啡环形成的机理：墨水液滴在干燥的过程中边缘被固定在了基底上，固定在基底上的液滴形状的不规则性导致了液滴边缘的蒸发速率相对于液滴中心的蒸发速率较快，液滴边缘处的水流在相同的时间内损失的较多，为了保持液滴的边缘仍然固定在基底上，液滴中形成了从中心流向边缘的补充液流。在补充液流的带动下，液滴中的溶质物质被迁移到了液滴的边缘，在边缘形成了堆积，咖啡环结构便因此形成了，造成膜厚中间薄、周围厚的现象。目前主要从两种方法减少咖啡环效应：改变颗粒形状和马诺蒂尼环流，但是上述方法也很难应用在现有像素界定中。

本公开实施例提供了一种基板，其结构示意如图3所示，至少包括：

衬底1，设置在衬底上的像素界定层2；其中，像素界定层2包括：第一像素界定子层21和第二像素界定子层22，第一像素界定子层21远离衬底1；第一像素界定子层和第二像素界定子层为预定溶液通过预定烘烤曝光显影工艺形成，预定溶液至少包括：主体材料、第一掺杂材料、第二掺杂材料、溶剂、引发剂；第二掺杂材料的氟含量小于第一掺杂材料的氟含量。

本公开实施例致力与解决目前单层PDL的疏液性能不达标、双层PDL工艺太复杂的问题，因此，本公开实施例的像素界定层包括主体材料、掺杂材料、溶剂、及引发剂，相对于现有技术而言，本公开实施例采用了两种掺杂材料，具体的，掺杂材料包括氟含量高呈疏液性的第一掺杂材料(具有第一疏液度)以及氟含量相对第一掺杂材料较低的呈相对亲液性的第二掺杂材料(具有第二疏液度，且第二疏液度小于第一疏液度)。

上述两种掺杂材料由于氟含量都较高，因此具有较好的疏液性，只不过第二掺杂材料的氟含量相对于第一掺杂材料的氟含量低，所以相对于第一掺杂材料呈现相对的亲液性。具体实现时，第一掺杂材料的氟含量为10％-60％，例如，氟的质量占第一掺杂材料总质量的10％-60％；第二掺杂材料的氟含量为第一掺杂材料的30％-70％。当然，上述的氟含量仅是一个示例，并不对本申请构成限定。

在涂覆了预定溶液后，要形成像素界定层需要通过预定烘烤曝光显影工艺进行处理，预定烘烤曝光显影工艺依次包括：真空冷凝干燥、软烘、曝光、显影、硬烘。该过程中每一个工艺均是现有技术，只不过在本申请实施例中采用了现有技术的工艺进行组合，将现有工艺置于本公开工艺流程中的不同步骤，进而得到了上述像素界定层，具体工艺此处不再赘述。

对像素界定层体系进行预定烘烤曝光显影工艺处理，使得主体材料A与疏液性掺杂材料C反应形成第一像素界定子层聚合物，主体材料与亲液性掺杂材料B反应形成第二像素界定子层聚合物，其中第一像素界定子层远离衬底，其聚合反应的原理如图4所示，聚合反应后，像素界定层形成了第一像素界定子层和第二像素界定子层。由于第一像素界定子层和第二像素界定子层均含有不同含量的氟原子，导致第一像素界定子层和第二像素界定子层具有不同的疏液性，其中第一像素界定子层疏液性强于第二像素界定子层，使得第一像素界定子层顶部的含氟量高，表面能低，使得墨滴可以精确限制在像素内，不会流到其他的像素去或者非像素区。同时，第二像素界定子层的含氟量较低，使得膜层沉积界面具有一定的亲液性，使得膜厚更加平整。

具体实现时，上述基板还可以包括设置在像素界定层中的像素3，如图5所示(图中包括墨滴下的阳极)，该像素3通常包括R色像素、B色像素、G色像素，其均是通过喷墨打印技术喷绘对应颜色的墨滴形成的，具体过程可以参考现有技术，此处不再赘述。上述衬底至少包括：玻璃衬底及平坦层，当然，还可以包括驱动电路背板等其它结构，其结构与现有结构类似，此处不再赘述。

本公开实施例通过简单的工艺制造了具有双层像素界定层效果的基板，增加了基板的像素界定层的疏液性，降低墨滴的攀爬，提高膜厚均匀性，提升像素有效开口，优化显示面板寿命。

本公开实施例中的溶剂可以为有机溶剂，例如，可以包括N-甲基吡咯烷酮、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸乙氧乙酯、二甲氧基乙醛、丙二醇甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚和乙酸乙二醇乙醚中的一种或者组合；引发剂为光引发剂，例如可以包括硝基苯胺、蒽醌、二苯甲酮和N-乙酰-4-硝基萘胺中任意一种或多种的组合；第一掺杂材料可以为含氟亚克力，例如丙烯酸全氟辛基酯和丙烯酸甲酯的共聚物，其主链为聚丙烯酸酯，侧链为含氟(F)原子的物质；第二掺杂材料可以为含氟的亲液性较好的丙烯酸全氟辛基酯和丙烯酸甲酯的衍生物，一般侧链分别含有少量的氟原子和大量亲液官能团-OH/-NH2/-COOH。

本公开实施例还提供了一种OLED显示屏，其至少包括上述实施例中的基板，具体基板结构参考上述实施例，此处不再赘述。

本公开实施例还提供了一种基板的制备方法，用于制备上述实施例中的基板，其流程如图6所示，包括步骤S601至S604：

S601，在衬底上涂布预定溶液；

S602，对预定溶液进行真空冷凝干燥处理，并对真空冷凝干燥处理后的预定溶液进行软烘处理；

S603，对软烘处理后的预定溶液进行曝光及显影处理，以得到具有像素孔的像素界定层；

S604，对像素界定层进行硬烘处理。

具体实现时，在对像素界定层进行硬烘处理之后，就可以采用喷墨打印工艺在像素界定层中设置像素，以形成各个像素。

此外，尽管已经在本文中描述了示例性实施例，其范围包括任何和所有基于本公开的具有等同元件、修改、省略、组合(例如，各种实施例交叉的方案)、改编或改变的实施例。权利要求书中的元件将被基于权利要求中采用的语言宽泛地解释，并不限于在本说明书中或本申请的实施期间所描述的示例，其示例将被解释为非排他性的。因此，本说明书和示例旨在仅被认为是示例，真正的范围和精神由以下权利要求以及其等同物的全部范围所指示。

以上描述旨在是说明性的而不是限制性的。例如，上述示例(或其一个或更多方案)可以彼此组合使用。例如本领域普通技术人员在阅读上述描述时可以使用其它实施例。另外，在上述具体实施方式中，各种特征可以被分组在一起以简单化本公开。这不应解释为一种不要求保护的公开的特征对于任一权利要求是必要的意图。相反，本公开的主题可以少于特定的公开的实施例的全部特征。从而，以下权利要求书作为示例或实施例在此并入具体实施方式中，其中每个权利要求独立地作为单独的实施例，并且考虑这些实施例可以以各种组合或排列彼此组合。本公开的范围应参照所附权利要求以及这些权利要求赋权的等同形式的全部范围来确定。

以上对本公开多个实施例进行了详细说明，但本公开不限于这些具体的实施例，本领域技术人员在本公开构思的基础上，能够做出多种变型和修改实施例，这些变型和修改都应落入本公开所要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种基板，其特征在于，至少包括：

衬底，设置在所述衬底上的像素界定层；其中，

所述像素界定层包括：第一像素界定子层和第二像素界定子层，所述第一像素界定子层远离所述衬底；

所述第一像素界定子层和所述第二像素界定子层为预定溶液通过预定烘烤曝光显影工艺形成，所述预定溶液至少包括：主体材料、第一掺杂材料、第二掺杂材料、溶剂、引发剂；所述第二掺杂材料的氟含量小于所述第一掺杂材料的氟含量。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一掺杂材料的氟含量为10％-60％。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二掺杂材料的氟含量为所述第一掺杂材料的氟含量的30％-70％。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：设置在所述像素界定层中的像素。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述像素包括：R色像素、B色像素、G色像素。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述预定烘烤曝光显影工艺依次包括：真空冷凝干燥、软烘、曝光、显影、硬烘。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述衬底为玻璃衬底。

8.一种OLED显示屏，其特征在于，至少包括：权利要求1至7中任一项所述的基板。

9.一种基板的制备方法，用于制备权利要求1至7中任一项所述的基板，其特征在于，包括：

在衬底上涂布预定溶液；

对所述预定溶液进行真空冷凝干燥处理，并对真空冷凝干燥处理后的所述预定溶液进行软烘处理；

对软烘处理后的所述预定溶液进行曝光及显影处理，以得到具有像素孔的像素界定层；

对所述像素界定层进行硬烘处理。

10.如权利要求9所述的基板的制备方法，其特征在于，对所述像素界定层进行硬烘处理之后，还包括：

采用喷墨打印工艺在所述像素界定层中设置像素。

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