CN108962954A - 有机发光显示屏及其制作方法、以及显示装置 - Google Patents

有机发光显示屏及其制作方法、以及显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种有机发光显示屏及其制作方法、以及显示装置。有机发光显示屏包括位于显示区内的像素隔离柱，像素隔离柱上设有缓冲腔。应用本发明技术方案的有机发光显示屏，由于像素隔离柱内设有缓冲腔，当缓冲腔所在的膜层位置受到重物撞击时，缓冲腔阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而避免了显示失效。此外，还发明还涉及一种有机发光显示屏的制作方法、以及包括上述有机发光显示屏的显示装置。

Description

有机发光显示屏及其制作方法、以及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种有机发光显示屏及其制作方法、以及显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，消费者对有机发光显示屏的高品质的需求越来越大。然而，传统的有机发光显示屏受到重物撞击时，容易造成显示失效，不利于应用。
发明内容
基于此，有必要针对如何避免重物撞击时造成显示失效的问题，提供一种能够避免重物撞击时显示失效的有机发光显示屏及显示装置。
一种有机发光显示屏，所述有机发光显示屏包括显示区，所述有机发光显示屏包括位于所述显示区内的像素隔离柱，所述像素隔离柱上设有缓冲腔。
在其中一个实施例中，所述有机发光显示屏还包括位于所述像素隔离柱一侧的基板，所述缓冲腔靠近所述基板设置。
在其中一个实施例中，所述缓冲腔的个数为若干个，若干个所述缓冲腔在所述基板上的投影面积之和与所述像素隔离柱在所述基板上的投影面积的比为1:1～1:50。
在其中一个实施例中，所述有机发光显示屏包括若干个子像素，所述像素隔离柱位于所述子像素的外围，所述像素隔离柱在相邻所述子像素之间的区域内设有若干个缓冲腔。
在其中一个实施例中，若干个所述缓冲腔的底端位于同一平面上，若干个所述缓冲腔的顶端位于同一平面上。
在其中一个实施例中，至少两个所述缓冲腔沿纵向分布，所述纵向指垂直于所述有机发光显示屏的显示面的方向。
在其中一个实施例中，所述缓冲腔沿垂直于所述像素隔离柱表面的截面呈拱形、梯形、圆形或者矩形。
在其中一个实施例中，所述缓冲腔内填充有柔性填充体或者惰性气体；
优选地，所述柔性填充体的材质为硅胶或者与周围膜层不反应的液体绝缘材料。
还提供一种有机发光显示屏的制作方法，包括如下步骤：在位于显示区内的像素隔离柱上开设缓冲腔，得到有机发光显示屏；
优选地，在位于显示区内的像素隔离柱上开设缓冲腔的操作为：
在位于显示区内的衬底上形成图形化的堤坝，得到形成有堤坝的衬底；
在所述形成有堤坝的衬底上形成像素隔离柱；以及
去除所述堤坝，以形成缓冲腔，得到有机发光显示屏。
此外，还提供一种显示装置，包括上述的有机发光显示屏。
应用本发明技术方案的有机发光显示屏，由于像素隔离柱内设有缓冲腔，当缓冲腔所在的膜层位置受到重物撞击时，缓冲腔阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而避免了显示失效。
应用本发明技术方案的有机发光显示屏的制作方法，由于在像素隔离柱内形成缓冲腔，当缓冲腔所在的膜层位置受到重物撞击时，缓冲腔阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而避免了显示失效。
应用本发明技术方案的显示装置，当有机发光显示屏的缓冲腔所在的膜层位置受到重物撞击时，缓冲腔阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而避免了显示失效。
附图说明
图1为本发明一实施方式的有机发光显示屏的示意图；
图2为本发明一实施方式的有机发光显示屏的平面示意图；
图3为本发明另一实施方式的有机发光显示屏的示意图；
图4为本发明另一实施方式的有机发光显示屏的示意图；
图5为本发明另一实施方式的有机发光显示屏的示意图；
图6为本发明另一实施方式的有机发光显示屏的制作方法中形成有堤坝的衬底的示意图；
图7为本发明另一实施方式的有机发光显示屏的制作方法中形成像素隔离柱后的示意图；
图8为本发明另一实施方式的有机发光显示屏的制作方法中去除堤坝后的示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
柔性产品的可靠性依然是影响产品良率的主要问题，特别是在柔性屏的可靠性测试中，当使用32.65g的落球(直径为20mm的钢球，跌落高度2cm～62.5cm)击中屏幕时，被击中的区域瞬间出现黑斑、亮斑、彩斑等不良，导致柔性屏不能满足市场的应用需求。
本发明的发明人经过分析之后得到可能存在的原因导致上述不良：落球击中有机发光显示屏时，在受力位置的应力集中，且应力会沿像素隔离柱迅速向下传递，导致破坏位于像素隔离柱下方的阳极。本发明的发明人经过分析，得出以下结论：像素隔离柱在重物击中的瞬间起着至关重要的作用。
为此，本发明提出一种能够避免重物撞击时显示失效的有机发光显示屏及显示装置。
本发明的有机发光显示屏包括显示区，有机发光显示屏包括位于显示区内的像素隔离柱，像素隔离柱上设有缓冲腔。
其中，有机发光显示屏可以为OLED(Organic Light-Emitting Diode)显示屏等。此外，本发明的有机发光显示屏优选为柔性屏。
当缓冲腔所在的膜层位置受到重物撞击时，缓冲腔阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而避免了显示失效。此外，还可以提高有机发光显示屏的可靠性及弯折强度。
具体而言，请参见图1，本发明一实施方式的有机发光显示屏100包括显示区110。有机发光显示屏100包括位于显示区110内的像素隔离柱120。像素隔离柱120上设有缓冲腔122。
其中，显示区110指的是除边框之外用于显示的区域。有机发光显示屏100上除了显示区110，还可以包括围绕显示区110的边框区域(即非显示区，未图示)。
其中，像素隔离柱120又可以称为pillar或者像素限定层，位于子像素的外围，起到限定子像素位置的作用。子像素例如可以为R像素、G像素或者B像素等。
其中，缓冲腔122可以为封闭的腔体，例如，缓冲腔122位于像素隔离柱120的内部。缓冲腔122亦可以为一端开口的腔体，例如，在像素隔离柱120的表面开设凹槽状的腔体。
在一实施例中，有机发光显示屏100还包括位于像素隔离柱120一侧的基板130，缓冲腔122靠近基板130设置，如图1所示。其中，基板130用于支撑上方的功能膜层。基板130可以为PI(聚酰亚胺)等柔性基板。当然，基板130还可以包括缓冲层、阻挡层等功能膜层。
由于缓冲腔122靠近基板130设置，使得缓冲腔122位置的像素隔离柱120呈桥状。当桥状像素隔离柱120上的任意一点受力，应力都可以迅速向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而有效避免了显示失效。
请参见图2，在一实施例中，缓冲腔122的个数为若干个，若干个缓冲腔122在基板130上的投影面积之和与像素隔离柱120在基板130上的投影面积的比为1:1～1:50。此时，缓冲腔122能够起到对有机发光显示屏100全面的保护作用。当有机发光显示屏100受到重物撞击时，提高了减小应力集中的概率，更有利于避免应力破坏像素隔离柱120下方的功能层，避免显示失效。
在一实施例中，若干个缓冲腔122均匀分布于像素隔离柱120上。其中，均匀分布指的是任意相邻两个缓冲腔122之间的距离相等。可以理解的是，上述距离可以存在一定的差别，但差别不大。由于若干个缓冲腔122均匀分布于像素隔离柱120上，因此，缓冲腔122能够起到全面的保护作用。当受到重物撞击时，提高了减小应力集中的概率，更有利于避免应力破坏像素隔离柱120下方的功能层，避免显示失效。
在一实施例中，缓冲腔122的个数为若干个，若干个缓冲腔122在基板130上的投影的和与像素隔离柱120在基板130上的投影的面积比为1:1～1:50；且若干个缓冲腔122均匀分布于像素隔离柱120上。此时，缓冲腔122起到减小应力集中的效果最佳。
需要说明的是，本发明的有机发光显示屏中相邻两个子像素之间的像素隔离柱上的缓冲腔的个数可以为一个，亦可以为两个或者两个以上。
请参见图3，在另一实施例中，有机发光显示屏200包括显示区210。有机发光显示屏200包括位于显示区210内的像素隔离柱220。像素隔离柱220上设有缓冲腔222。
本实施例中，有机发光显示屏200包括若干个子像素(如图3中R像素和G像素)，像素隔离柱220位于子像素的外围，像素隔离柱220在相邻子像素之间的区域内设有三个缓冲腔222。当有机发光显示屏200上缓冲腔222位置受到重物撞击时，应力向四周分散的途径增多，从而加快了应力分散，能够有效避免显示失效。
当然，本发明的有机发光显示屏中，不同子像素之间的像素隔离柱上可以设有不同个数的缓冲腔。例如，可以在应力较大的位置设有较多个数的缓冲腔，而在应力较小的位置设有较少个数的缓冲腔。
此外需要说明的是，本发明的有机发光显示屏中，若干个缓冲腔的尺寸可以相同，亦可以不同。
在一实施例中，若干个缓冲腔222的底端位于同一平面上，若干个缓冲腔222的顶端位于同一平面上。这样工艺简单，方便制作。当然，本发明的有机发光显示屏中，若干个缓冲腔的位置不限于此。
在另一实施例中，请参见图4，有机发光显示屏300包括显示区310。有机发光显示屏300包括位于显示区310内的像素隔离柱320。像素隔离柱320上设有若干个缓冲腔322。本实施例中，至少两个缓冲腔322沿纵向分布。其中，纵向指垂直于有机发光显示屏300的显示面的方向。
当该位置的有机发光显示屏300上受到重物撞击时，由于上方的缓冲腔322的存在，增大了重物与有机发光显示屏300的接触面积，从而减小了压强。此外，下方的缓冲腔322则阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层。上述整体避免了显示失效。
上述各个实施例中，缓冲腔沿垂直于像素隔离柱表面的截面均呈梯形。但本发明不限于此，缓冲腔沿垂直于像素隔离柱表面的截面还可以为其他形状，例如，拱形、圆形、椭圆形、矩形或者三角形等。
请参见图5，在另一实施例中，有机发光显示屏400包括显示区410。有机发光显示屏400包括位于显示区410内的像素隔离柱420。此外，有机发光显示屏400还包括位于像素隔离柱420上方的阴极440以及位于像素隔离柱420下方的阳极430。
其中，像素隔离柱420上设有若干个缓冲腔422。缓冲腔422沿垂直于像素隔离柱420表面的截面呈拱形，如图5所示。当拱形像素隔离柱120上的任意一点受力，应力都可以迅速向四周均匀地分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的阳极430，从而有效避免了显示失效。
在一实施例中，缓冲腔内填充有柔性填充体(未图示)或者惰性气体。当缓冲腔位置受到外部应力作用时，柔性填充体或者惰性气体起到缓冲作用，从而减缓应力对下方功能层的挤压。其中，惰性气体可以为氦气或者氩气等。
在一实施例中，柔性填充体的材质为硅胶或者与周围膜层不反应的液体绝缘材料。其中，硅胶或者与周围膜层不反应的液体绝缘材料均能够起到很好的缓冲作用。当然，可以理解的是，柔性填充体的材质不限于此，亦可为其他能够起到上述作用的材质。
应用本发明技术方案的有机发光显示屏，当缓冲腔所在的膜层位置受到重物撞击时，缓冲腔阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而避免了显示失效。
一实施方式的有机发光显示屏的制作方法，包括如下步骤：在位于显示区内的像素隔离柱上开设缓冲腔，得到有机发光显示屏。
在一实施例中，在位于显示区内的像素隔离柱上开设缓冲腔的操作为：
S10、在位于显示区内的衬底上形成图形化的堤坝，得到形成有堤坝的衬底。
其中，衬底用于承载图形化的堤坝，本发明对衬底的功能和结构均不做限制。例如，衬底可以为位于像素隔离柱下方的功能层，此时后续形成的缓冲腔位于像素隔离柱的表面。衬底亦可以为部分像素隔离柱，此时后续形成的缓冲腔位于像素隔离柱的内部。
请参见图6，一实施方式的有机发光显示屏的制作方法中，衬底为基板130。在衬底的显示区110上形成图形化的堤坝121，堤坝121用于形成后续的缓冲腔，因此，堤坝121所在的位置即后续缓冲腔所在的位置，且堤坝121的尺寸与后续缓冲腔的尺寸相同。
其中，堤坝121的材质可以为氧化硅或者氮化硅等无机化合物。可以采用湿法刻蚀或者选择比较高的干法刻蚀等工艺制备堤坝121。
S20、在形成有堤坝的衬底上形成像素隔离柱。
可以先采用涂覆等工艺在形成有堤坝121的衬底上形成一整层的像素隔离柱前体，之后经过刻蚀得到图形化的像素隔离柱120，如图7所示。其中，像素隔离柱120覆盖于堤坝121的上方。
S30、去除堤坝，以形成缓冲腔，得到有机发光显示屏。
可以采用刻蚀技术将像素隔离柱120下方的堤坝121去除。例如可以先在像素隔离柱120上打孔，直至显露出下方的堤坝121，之后采用刻蚀溶液将上述堤坝121刻蚀掉，直至完全去除上述堤坝121，以在像素隔离柱120上形成缓冲腔122，如图8所示。此外，还可以继续在像素隔离柱上形成发光层和阴极等，得到如图1所示的有机发光显示屏。如有需要，可以从上述开孔中注入柔性填充体。
当然，还可以采用其他的制作工艺得到本发明的具有缓冲腔的有机发光显示屏。例如，选择一种光照(例如紫外光等任意光源)时可分解消除的材料做堤坝，当形成图形化的像素隔离柱之后，对上述堤坝进行光照，则堤坝分解消除，得到缓冲腔。
请参见图8，采用上述实施例的有机发光显示屏的制作方法得到的有机发光显示屏中，缓冲腔122位于像素隔离柱120的下表面，且缓冲腔122靠近基板130设置。
需要说明的是，本发明的有机发光显示屏中，缓冲腔的位置不限于此，还可以位于像素隔离柱的上表面。此时可以先形成像素隔离柱前体，之后通过压印或者刻蚀工艺在像素隔离柱前体的上表面形成缓冲腔，得到本发明的有机发光显示屏。
应用本发明技术方案的有机发光显示屏的制作方法，由于在像素隔离柱内形成缓冲腔，当缓冲腔所在的膜层位置受到重物撞击时，缓冲腔阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而避免了显示失效。
本发明一实施方式的显示装置，包括上述的有机发光显示屏。
应用本发明技术方案的显示装置，当有机发光显示屏的缓冲腔所在的膜层位置受到重物撞击时，缓冲腔阻断了应力继续向下传递的路径，使得应力更容易向四周分散，避免了应力集中而破坏像素隔离柱下方的功能层，从而避免了显示失效。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种有机发光显示屏，所述有机发光显示屏包括显示区，其特征在于，所述有机发光显示屏包括位于所述显示区内的像素隔离柱，所述像素隔离柱上设有缓冲腔。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示屏，其特征在于，所述有机发光显示屏还包括位于所述像素隔离柱一侧的基板，所述缓冲腔靠近所述基板设置。
3.根据权利要求2所述的有机发光显示屏，其特征在于，所述缓冲腔的个数为若干个，若干个所述缓冲腔在所述基板上的投影面积之和与所述像素隔离柱在所述基板上的投影面积的比为1:1～1:50。
4.根据权利要求1所述的有机发光显示屏，其特征在于，所述有机发光显示屏包括若干个子像素，所述像素隔离柱位于所述子像素的外围，所述像素隔离柱在相邻所述子像素之间的区域内设有若干个缓冲腔。
5.根据权利要求4所述的有机发光显示屏，其特征在于，若干个所述缓冲腔的底端位于同一平面上，若干个所述缓冲腔的顶端位于同一平面上。
6.根据权利要求4所述的有机发光显示屏，其特征在于，至少两个所述缓冲腔沿纵向分布，所述纵向指垂直于所述有机发光显示屏的显示面的方向。
7.根据权利要求1所述的有机发光显示屏，其特征在于，所述缓冲腔沿垂直于所述像素隔离柱表面的截面呈拱形、梯形、圆形或者矩形。
8.根据权利要求1所述的有机发光显示屏，其特征在于，所述缓冲腔内填充有柔性填充体或者惰性气体；
优选地，所述柔性填充体的材质为硅胶或者与周围膜层不反应的液体绝缘材料。
9.一种有机发光显示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：在位于显示区内的像素隔离柱上开设缓冲腔，得到有机发光显示屏；
优选地，在位于显示区内的像素隔离柱上开设缓冲腔的操作为：
在位于显示区内的衬底上形成图形化的堤坝，得到形成有堤坝的衬底；
在所述形成有堤坝的衬底上形成像素隔离柱；以及
去除所述堤坝，以形成缓冲腔，得到有机发光显示屏。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～8中任一项所述的有机发光显示屏。
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