CN108947235A

CN108947235A - 玻璃物品和显示装置

Info

Publication number: CN108947235A
Application number: CN201810495541.4A
Authority: CN
Inventors: 桥本匡平; 高野智弘; 三代均; 玉田稔
Original assignee: AGC Inc
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2017-05-23
Filing date: 2018-05-22
Publication date: 2018-12-07
Also published as: DE102018112039A1; US20180339939A1; JP2018197183A

Abstract

本发明涉及玻璃物品和显示装置。本发明提供一种在图像的闪光抑制、防眩性、耐刮擦性和画质的各方面可以得到良好的性能的玻璃物品。一种玻璃物品，其具有玻璃板和规定的功能膜，所述玻璃板在至少一个主表面上具有将外部光漫反射的凹凸面，所述规定的功能膜形成在上述凹凸面上，其中，上述玻璃物品的透射雾度为28％以下，在利用激光显微镜观察时的视野面积为60000μm²的范围内，上述功能膜的与上述玻璃板相反侧的表面的代表孔径小于12μm，并且，上述功能膜的与上述玻璃板相反侧的表面的表面积A(μm²)相对于视野面积的面积比(A/60000)为1.02以上且1.07以下。

Description

玻璃物品和显示装置

技术领域

本发明涉及玻璃物品和显示装置。

背景技术

近年来，特别是在便携式器件、车载用设备中越来越多地使用液晶显示器(LCD)等各种图像显示装置。在这样的图像显示装置中，作为其覆盖构件，一直以来采用配置有玻璃板的构成。另外，还已知带有透明电极的触控面板与保护玻璃一体化的基板构成。

对于这样的图像显示装置而言，人的手指等触摸玻璃板表面的机会多，在人的手指等触摸的情况下，在玻璃板表面上容易附着油脂等。并且，在附着有油脂等的情况下，对可视性产生影响，因此，使用在玻璃板的表面上实施了防污处理的玻璃板。

例如，专利文献1中记载的带有防污膜的玻璃板具有玻璃板和作为设置在玻璃板的主表面上的防污膜的含氟有机硅化合物覆膜。对玻璃板的形成防污膜的主表面实施了防眩加工。通过防眩加工而形成凹凸面。凹凸面将太阳光、照明光等外部光漫反射，从而能够提高防止外部光的映射(映リ込み)的防眩性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-52992号公报

发明内容

发明所要解决的问题

对具有玻璃板和形成在玻璃板上的防污膜等功能膜的玻璃物品进行了开发、研究。这样的玻璃物品例如被用作液晶显示器或有机EL(电致发光)显示器等图像显示装置的保护玻璃。

玻璃板在至少一个主表面上具有将外部光漫反射的凹凸面。在该凹凸面上形成功能膜。功能膜足够薄，因此，功能膜的与玻璃板相反侧的表面的凹凸形状与玻璃板的凹凸面的凹凸形状大致相同。

近年来，随着图像显示装置的分辨率的提高，像素的宽度减小。因此，像素的宽度有可能小于玻璃板的凹凸面的代表孔径(ポア代表径)。在此，像素是指例如红色像素、蓝色像素、绿色像素等单色的像素(所谓的亚像素)。

图1是示出现有例的玻璃板的凹凸面的孔径与像素(红色像素101R、绿色像素101G、蓝色像素101B)的大小的关系的图。玻璃板的凹凸面121具有多个孔，各孔形成透镜。各孔的边界形成特别尖锐的被称为脊部(リッジ)的突起形状。例如，如图1所示，与凹凸面121的孔径A102相比，绿色像素101G的宽度A101充分小时，来自发出相同颜色(相同波长)的光的多个像素101G的光透过同一个透镜122后相互发生干涉。于是，产生亮度不均，对于使用者的眼睛102而言，图像看起来闪光。需要说明的是，图1中像素的排列为红色像素101R、绿色像素101G、蓝色像素101B，但是并不限于此。

为了抑制图像的闪光(ぎらつき)，只要将凹凸面121的孔径A102调节为小于像素的宽度A101的4倍即可。这是因为：由像素(红色像素101R、绿色像素101G、蓝色像素101B)和间隙101I形成的显示区域101的宽度大于凹凸面121的孔径A102，从而能够防止相同颜色(相同波长)的多束光线透过同一个透镜122。另外，孔径A102小时，包围孔的脊部多且尖锐，因此，容易利用脊部将外部光漫反射，得到良好的防眩性。

但是，孔径A102过小时，脊部的数量过多，脊部的锐度过于尖锐。因此，容易产生划痕，耐刮擦性下降。另外，来自显示区域101的光在透过凹凸面121时容易被散射，图像容易看起来模糊，画质下降。

本发明是鉴于上述问题而作出的，其主要目的在于提供一种能够在图像的闪光抑制、防眩性、耐刮擦性和画质的各方面得到良好的性能的玻璃物品。

用于解决问题的手段

为了解决上述问题，根据本发明的一个方式，

提供一种玻璃物品，其具有玻璃板和规定的功能膜，所述玻璃板在至少一个主表面上具有将外部光漫反射的凹凸面，所述规定的功能膜形成在上述凹凸面上，其中，

上述玻璃物品的透射雾度为28％以下，

在利用激光显微镜观察时的视野面积为60000μm²的范围内，上述功能膜的与上述玻璃板相反侧的表面的代表孔径小于12μm，并且上述功能膜的与上述玻璃板相反侧的表面的表面积A(μm²)相对于视野面积的面积比(A/60000)为1.02以上且1.07以下。

发明效果

根据本发明的一个方式，提供一种能够在图像的闪光抑制、防眩性、耐刮擦性和画质的各方面得到良好的性能的玻璃物品。

附图说明

图1是示出现有例的玻璃板的凹凸面的孔径与像素的大小的关系的图。

图2是示出一个实施方式的玻璃物品的图。

图3是示出一个实施方式的玻璃板的凹凸面的孔径与像素的大小的关系的图。

图4是示出一个实施方式的利用磨砂处理(フロスト処理)而得到的玻璃表面的显微镜照片。

图5是示出现有例的利用磨砂处理而得到的玻璃表面的显微镜照片。

图6是示出利用接着图4的磨砂处理之后的二次蚀刻处理而得到的玻璃表面的显微镜照片。

图7是示出利用接着图5的磨砂处理之后的二次蚀刻处理而得到的玻璃表面的显微镜照片。

图8是示出对例1～例15中制造的玻璃物品的特性进行测定的测定点的平面图。

图9是示出例1～例15中制造的玻璃物品的面积比(A/60000)与铅笔硬度的关系的图。

附图标记

10 玻璃物品

20 玻璃板

21 凹凸面

30 功能膜

31 表面

40 低反射膜

50 防污膜

具体实施方式

以下，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明。各附图中，对于相同或对应的构成赋予相同或对应的符号并省略说明。

＜玻璃物品＞

图2是示出本实施方式的玻璃物品的侧视图。需要说明的是，图2中，由于玻璃板20的凹凸面21的凹凸微小，因此省略图示。同样地，由于功能膜30的表面31的凹凸微小，因此省略图示。

玻璃物品10例如被用作液晶显示器或有机EL(电致发光)显示器等图像显示装置的保护玻璃。保护玻璃可以包含触摸感应器。触摸感应器检测手指等物体与屏幕的接触或接近。图像显示装置可以为车载用设备。

玻璃物品10具有玻璃板20和形成在玻璃板20上的规定的功能膜30。以下，对玻璃板20、功能膜30的构成进行说明。

＜玻璃板＞

玻璃板20在至少一个主表面上具有将太阳光或照明光等外部光漫反射的凹凸面21。凹凸面21通过将外部光漫反射而提高防止外部光的映射的防眩性。由此，能够提高由图像显示装置显示的图像的可视性。需要说明的是，后面将对用于形成凹凸面21的凹凸加工处理进行说明。

玻璃板20由无碱玻璃、钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃等形成。在玻璃板20为后述的化学强化玻璃的情况下，可以由含有碱金属的玻璃形成，具体而言，可以由钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃等形成。

关于玻璃板20的组成，例如可以列举满足下述(i)～(vii)中的任一个要件的玻璃。需要说明的是，下述(i)～(v)的玻璃组成是以氧化物基准的摩尔％表示的组成，(vi)～(vii)的玻璃组成是以氧化物基准的质量％表示的组成。对于玻璃板20的组成而言，可以利用EDX、ICP等公知的方法对玻璃的板厚方向中央的组成进行分析。

(i)含有50％～80％的SiO₂、2％～25％的Al₂O₃、0％～10％的Li₂O、0％～18％的Na₂O、0％～10％的K₂O、0％～15％的MgO、0％～5％的CaO和0％～5％的ZrO₂的玻璃。

(ii)含有50％～74％的SiO₂、1％～10％的Al₂O₃、6％～14％的Na₂O、3％～11％的K₂O、2％～15％的MgO、0％～6％的CaO和0％～5％的ZrO₂、并且SiO₂和Al₂O₃的含量的合计为75％以下、Na₂O和K₂O的含量的合计为12％～25％、MgO和CaO的含量的合计为7％～15％的玻璃。

(iii)含有68％～80％的SiO₂、4％～10％的Al₂O₃、5％～15％的Na₂O、0％～1％的K₂O、4％～15％的MgO和0％～1％的ZrO₂、并且SiO₂和Al₂O₃的含量的合计为80％以下的玻璃。

(iv)含有67％～75％的SiO₂、0％～4％的Al₂O₃、7％～15％的Na₂O、1％～9％的K₂O、6％～14％的MgO、0％～1％的CaO和0％～1.5％的ZrO₂、并且SiO₂和Al₂O₃的含量的合计为71％～75％、Na₂O和K₂O的含量的合计为12％～20％的玻璃。

(v)含有60％～75％的SiO₂、0.5％～8％的Al₂O₃、10％～18％的Na₂O、0％～5％的K₂O、6％～15％的MgO、0％～8％CaO的玻璃。

(vi)含有63％～75％的SiO₂、3％～12％的Al₂O₃、3％～10％的MgO、0.5％～10％的CaO、0％～3％的SrO、0％～3％的BaO、10％～18％的Na₂O、0％～8％的K₂O、0％～3％的ZrO₂、0.005％～0.25％的Fe₂O₃、并且R₂O/Al₂O₃(式中，R₂O为Na₂O+K₂O)为2.0以上且4.6以下的玻璃。

(vii)含有66％～75％的SiO₂、0％～3％的Al₂O₃、1％～9％的MgO、1％～12％的CaO、10％～16％的Na₂O、0％～5％的K₂O的玻璃。

从提高强度的观点出发，玻璃板20优选为进行了化学强化处理的化学强化玻璃。化学强化处理在用于形成凹凸面21的凹凸加工处理之后进行。化学强化处理是指将玻璃表面的离子半径小的碱金属离子(例如Na离子)置换成离子半径大的碱金属离子(例如K离子)的处理。通过该处理，在表面形成压应力层。

化学强化玻璃在凹凸面21等表面具有压应力层。压应力层的表面压应力例如可以为600MPa以上。压应力层的组成与化学强化处理前的组成略有不同，但是比压应力层深的部分的组成与化学强化处理前的组成大致相同。

化学强化处理通过将含有离子半径小的碱金属离子(例如Na离子)的玻璃板20浸渍在含有离子半径大的碱金属离子(例如K离子)的熔融盐中而进行。作为熔融盐，根据玻璃板20的玻璃的种类来选择。可以列举例如：硝酸钾、硫酸钠、硫酸钾、氯化钠和氯化钾等碱金属硫酸盐和碱金属氯化盐等。这些熔融盐可以单独使用，也可以组合使用多种。

熔融盐的加热温度优选为350℃以上，更优选为380℃以上。另外，优选为500℃以下，更优选为480℃以下。通过将熔融盐的加热温度设定为350℃以上，防止由于离子交换速度的降低而导致难以进行化学强化。另外，通过将熔融盐的加热温度设定为500℃以下，能够抑制熔融盐的分解和劣化。

为了赋予充分的压应力，使玻璃板20与熔融盐接触的时间优选为1小时以上，更优选为2小时以上。另外，对于长时间的离子交换而言，生产率下降，并且由于应力松弛而使得压应力值降低，因此，优选为24小时以下，更优选为20小时以下。

需要说明的是，化学强化处理的条件没有特别限定，可以根据供于化学强化处理的玻璃的种类、所要求的表面压应力等来选择。

玻璃板20在图2中为平板状，但是可以为弯曲板状等。玻璃板20的形状没有特别限定。

＜功能膜＞

功能膜30形成在玻璃板20的凹凸面21上。功能膜30的合计厚度为100nm～500nm，功能膜30足够薄，因此，功能膜30的与玻璃板20相反侧的表面31(以下，也简称为“功能膜30的表面31”)的凹凸形状与凹凸面21的凹凸形状大致相同。需要说明的是，后面将对功能膜30的表面31的凹凸形状进行说明。

功能膜30可以至少具有抑制外部光的反射的低反射膜40。由此，能够降低玻璃板表面的反射率，能够进一步提高防止外部光的映射的防眩性，能够进一步提高图像的可视性。

除了低反射膜40以外，功能膜30还可以具有防止玻璃物品10的表面的污渍的防污膜50。在图像显示装置为触控面板的情况下，能够防止触摸屏幕的手指的指纹的附着。

＜低反射膜＞

低反射膜40没有特别限定，例如可以具有将高折射率层与低折射率层层叠而得到的结构。高折射率层与低折射率层可以分别各设置一层，也可以分别各设置两层以上。在后者的情况下，可以将高折射率层与低折射率层交替层叠。

为了得到充分的减反射性能，低反射膜40优选具有将多个层层叠而得到的多层结构。构成低反射膜40的层的数量例如为2以上且6以下，优选为2以上且4以下。

高折射率层、低折射率层的材料没有特别限定，可以考虑所要求的减反射的程度、生产率等来选择。作为构成高折射率层的材料，例如可以优选利用选自氧化铌(Nb₂O₅)、氧化钛(TiO₂)、氧化锆(ZrO₂)、氮化硅(SiN)、氧化钽(Ta₂O₅)中的一种以上。另一方面，作为构成低折射率层的材料，可以优选利用氧化硅(SiO₂)。

作为高折射率层，从生产率、折射率的程度考虑，可以特别优选利用氧化铌。因此，低反射膜40更优选为氧化铌层与氧化硅层的层叠体。

需要说明的是，为了提高低反射膜40与玻璃板20的粘附性，可以在低反射膜40与玻璃板20之间形成对玻璃板20的表面进行改性的表面改性层。

＜防污膜＞

防污膜50防止在玻璃物品10的表面上附着污渍。以低反射膜40为基准，防污膜50设置在与玻璃板20相反的一侧。防污膜50例如由含氟有机硅化合物形成。

在此，对于含氟有机硅化合物进行说明。作为本实施方式中使用的含氟有机硅化合物，只要是赋予防污性、拒水性、拒油性的含氟有机硅化合物，就可以没有特别限定地使用。

作为这样的含氟有机硅化合物，例如可以列举：具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基构成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物。需要说明的是，多氟聚醚基是指具有多氟亚烷基与醚性氧原子交替键合而得到的结构的二价基团。

作为该具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基构成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物的具体例，可以列举由下述通式(I)～(V)表示的化合物等。

式(I)中，Rf为碳原子数1～16的直链多氟烷基(作为烷基，例如为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)，X为氢原子或者碳原子数1～5的低级烷基(例如为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)，R1为可水解基团(例如为氨基、烷氧基等)或者卤素原子(例如为氟、氯、溴、碘等)，m为1～50、优选1～30的整数，n为0～2、优选1～2的整数，p为1～10、优选1～8的整数。

C_qF_2q+1CH₂CH₂Si(NH₂)₃ (II)

式(II)中，q为1以上、优选2～20的整数。

作为由通式(II)表示的化合物，可以例示例如：正三氟(1,1,2,2-四氢)丙基硅氮烷(n-CF₃CH₂CH₂Si(NH₂)₃)、正七氟(1,1,2,2-四氢)戊基硅氮烷(n-C₃F₇CH₂CH₂Si(NH₂)₃)等。

C_qF_2q+1CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ (III)

式(III)中，q为1以上、优选1～20的整数。

作为由通式(III)表示的化合物，可以例示2-(全氟辛基)乙基三甲氧基硅烷(n-C₈F₁₇CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)等。

式(IV)中，R^f2为由-(OC₃F₆)_s-(OC₂F₄)_t-(OCF₂)_u-(s、t、u各自独立地为0～200的整数)表示的二价直链多氟聚醚基，R²、R³各自独立地为碳原子数1～8的一价烃基(例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)。X²、X³独立地为可水解基团(例如氨基、烷氧基、酰氧基、烯氧基、异氰酸酯基等)或卤素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)，d、e独立地为1～2的整数，c、f独立地为1～5(优选1～2)的整数，a、b独立地为2～3。

式(IV)的R^f2中，s+t+u优选为20～300、更优选为25～100。另外，作为R²、R³，更优选为甲基、乙基、丁基。作为由X²、X³表示的可水解基团，更优选为碳原子数1～6的烷氧基，特别优选为甲氧基、乙氧基。另外，a和b各自优选为3。

F-(CF₂)_v-(OC₃F₆)_w-(OC₂F₄)_y-(OCF₂)_z(CH₂)_hO(CH₂)_i-Si(X⁴)_3-k(R⁴)_k (V)

式(V)中，v为1～3的整数，w、y、z各自独立地为0～200的整数，h为1或2，i为2～20的整数，X⁴为可水解基团，R⁴为碳原子数1～22的直链烃基或支链烃基，k为0～2的整数。w+y+z优选为20～300、更优选为25～100。另外，i更优选为2～10。X⁴优选为碳原子数1～6的烷氧基，更优选为甲氧基、乙氧基。作为R⁴，更优选为碳原子数1～10的烷基。

另外，作为市售的具有选自由多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基构成的组中的一种以上基团的含氟有机硅化合物，可以优选使用KP-801(商品名、信越化学公司制造)、KY178(商品名、信越化学公司制造)、KY-130(商品名、信越化学公司制造)、KY-185(商品名、信越化学公司制造)、OPTOOL(注册商标)DSX和OPTOOL AES(均为商品名、大金公司制造)等。

需要说明的是，为了抑制由与大气中的水分的反应而引起的劣化等，含氟有机硅化合物通常与含氟溶剂等溶剂混合而保存，但是，在含有这些溶剂的状态下供于成膜工序时，有时对所得到的薄膜的耐久性等产生不良影响。

因此，在本实施方式中，优选使用在加热容器中进行加热之前预先进行了溶剂除去处理的含氟有机硅化合物、或者未用溶剂稀释的(未添加溶剂的)含氟有机硅化合物。例如，作为含氟有机硅化合物溶液中所含的溶剂的浓度，优选为1摩尔％以下、更优选为0.2摩尔％以下。特别优选不含溶剂的含氟有机硅化合物。

需要说明的是，作为保存上述含氟有机硅化合物时使用的溶剂，可以列举例如：全氟己烷、六氟间二甲苯(C₆H₄(CF₃)₂)、氢氟聚醚、HFE7200/7100(商品名、住友3M公司制造、HFE7200由C₄F₉OC₂H₅表示、HFE7100由C₄F₉OCH₃表示)等。

从含有含氟溶剂的含氟有机硅化合物溶液中除去溶剂(溶媒)的处理例如可以通过对装有有含氟有机硅化合物溶液的容器进行抽真空来实施。

关于进行抽真空的时间，根据排气管线、真空泵等的排气能力、溶液的量等而变化，因此没有限定，例如可以为约10小时以上。

防污膜50的成膜方法没有特别限定，优选使用如上所述的材料通过真空蒸镀进行成膜。

另外，上述溶剂的除去处理可以通过以下方式实施：向用于形成防污膜50的成膜装置的加热容器中导入含氟有机硅化合物溶液，然后在进行升温之前在室温下对加热容器内进行抽真空。另外，也可以在导入加热容器中之前预先利用蒸发器等实施溶剂除去。

但是，与含有溶剂的含氟有机硅化合物相比，如上所述溶剂含量少的或不含溶剂的含氟有机硅化合物容易由于与大气接触而发生劣化。

因此，优选溶剂含量少的(或不含溶剂的)含氟有机硅化合物的保存容器使用利用氮气等非活性气体(不活性ガス)对容器中进行置换、密闭后的容器，并且在进行操作时缩短在大气中的暴露、接触时间。

具体而言，优选将保存容器开封后立即将含氟有机硅化合物导入用于形成防污膜50的成膜装置的加热容器中。并且，导入含氟有机硅化合物后，优选将加热容器内抽真空或者利用氮气、稀有气体等非活性气体进行置换，由此除去加热容器内中所含的大气(空气)。更优选例如储存容器与加热容器通过带有阀的管道连接，以使得能够在不与大气接触的情况下从保存容器(储存容器)导入至本制造装置的加热容器。

并且，将含氟有机硅化合物导入至加热容器后，优选在将容器内抽真空或者利用非活性气体进行置换后立即开始用于成膜的加热。

作为防污膜50的成膜方法，在本实施方式的说明中描述了使用溶液或原液(原液)的含氟有机硅化合物的例子，但是并不限定于此。作为其它方法，例如有如下方法：市售有预先在多孔的金属(例如锡或铜)或纤维状金属(例如不锈钢)中浸渗有一定量的含氟有机硅化合物的、所谓的蒸镀用颗粒(作为一例，Canon Optron公司制造的SURFCLEAR)，使用该蒸镀用颗粒。在这种情况下，将与蒸镀装置的容量、所需的膜厚对应的量的颗粒作为蒸镀源，能够简便地形成防污膜50。

＜玻璃物品的特性＞

玻璃物品10的马氏硬度以如下方式测定：将玻璃物品10的功能膜30朝上，并从玻璃物品10的上方将压头推入功能膜30。玻璃物品10的马氏硬度按照ISO14577-1：2002进行测定。

玻璃物品10的马氏硬度优选为2.0GPa以上。玻璃物品10的马氏硬度为2.0GPa以上时，得到充分的耐刮擦性，不容易使功能膜30擦伤。

玻璃物品10的铅笔硬度按照JIS K5600-5-4：1999(ISO 15184：1996)“划痕硬度(铅笔法)”进行测定。

玻璃物品10的铅笔硬度优选为7H以上，更优选为8H以上，进一步优选为10H。玻璃物品10的铅笔硬度为7H以上时，得到充分的耐刮擦性(耐划痕性)，功能膜30不容易破裂。需要说明的是，所使用的铅笔没有特别限制，例如可以使用三菱铅笔株式会社制造的UNI(注册商标)系列。

玻璃物品10的透射雾度为从玻璃板20向功能膜30透过玻璃物品10的透射光中、由于前向散射而相对于入射光偏离0.044rad(2.5°)以上的透射光的比例(百分率)。透射雾度按照JIS K 7136：2000(ISO 14782：1999)进行测定。

玻璃物品10的透射雾度为28％以下。玻璃物品10的透射雾度为28％以下时，能够抑制来自构成显示区域1的像素(红色像素1R、绿色像素1G、蓝色像素1B)(参照图3)的光在透过凹凸面21时在凹凸面21上的散射，能够抑制图像的模糊，可以观察到画质良好的图像。玻璃物品10的透射雾度优选为25％以下，更优选为20％以下。需要说明的是，图3中，像素的排列为红色像素1R、绿色像素1G、蓝色像素1B，但是并不限于此。

功能膜30的表面31的凹凸形状使用激光显微镜进行测定。进行测定的范围是视野面积为60000μm²(300μm×200μm)的范围。在此，视野面积是指将功能膜30的表面31投影于与该表面31的最小二乘平面(利用最小二乘法近似的平面)的法线正交的平面时的投影面积。

功能膜30的表面31的代表孔径基于激光显微镜的测定结果通过下述步骤进行计算。首先，求出表面31的各测定点的自基准面起算的高度。基准面是进行了倾斜校正的面，是与表面31的最小二乘平面平行的面。接着，将高度的累积分布(数量基准)中与累积数90％对应的高度作为基准高度。基准高度是指如下所述的高度：将测定点按照高度的顺序排列，并从高度低的点向高度高的点依次计数测定点的累积数时，该累积数达到测定点的总数的90％时的高度。

接着，将激光显微镜的图像二值化为高度超过基准高度的部分和高度为基准高度以下的部分。如此，将高度为基准高度以下的部分设为孔。对每个孔求出长度方向尺寸(长径)和与长度方向尺寸正交的方向的尺寸(短径)，并计算出长径和短径的均方根(长径的平方与短径的平方的平均值的平方根)。将计算出的均方根作为各孔的孔径。

接着，将孔径的累积分布(数量基准)中与累积数90％对应的孔径设为代表孔径。代表孔径是指如下所述的孔径：将孔按照孔径的顺序排列，并从孔径小的孔向孔径大的孔依次计数孔的累积数时，该累积数达到孔的总数的90％时的孔径。

图3是示出一个实施方式的玻璃板的凹凸面的孔径与像素的大小的关系的图。如图3所示，以凹凸面21的孔径A2小于像素(例如绿色像素1G)的宽度A1的4倍的方式形成凹凸面21。在该凹凸面21上形成功能膜30。功能膜30足够薄，因此，功能膜30的表面31的凹凸形状与玻璃板20的凹凸面21的凹凸形状大致相同。

功能膜30的表面31的代表孔径小于12μm。功能膜30的表面的代表孔径小于12μm时，在像素(例如绿色像素1G)的宽度A1为3μm以上的情况下，即显示区域1的宽度为12μm以上的情况下，能够抑制图像的闪光。功能膜30的表面的代表孔径的下限值没有特别限制，例如优选为3μm以上，更优选为6μm以上。

需要说明的是，功能膜30的表面31的代表孔径只要小于像素(例如绿色像素1G)的宽度A1的4倍即可，并且只要小于显示区域1的宽度即可。

从玻璃板20的凹凸面21的加工性的观点出发，功能膜30的表面31的代表孔径例如可以为5μm以上。

对于功能膜30的表面31而言，表面积A(μm²)相对于视野面积的面积比(A/60000)为1.02以上且1.07以下。表面积A是将表面的凹凸形状考虑在内的面积，面积比(A/60000)表示包围孔的脊部的数量、锐度。面积比(A/60000)越大，则脊部越多且越尖锐。

功能膜30的表面31的面积比(A/60000)为1.07以下时，表面31的脊部的数量、锐度减小，能够抑制划痕的产生，可以得到以铅笔硬度计7H以上的耐刮擦性。

功能膜30的表面31的面积比(A/60000)为1.06以下时，表面31的脊部的数量、锐度进一步减小，能够进一步抑制划痕的产生，可以得到以铅笔硬度计9H以上的耐刮擦性。

另一方面，功能膜30的表面31的面积比(A/60000)为1.02以上时，利用表面31的脊部将外部光充分漫反射。因此，能够抑制外部光的映射，可以提高图像的可视性。

如上所述，功能膜30的表面31的代表孔径小于12μm、并且面积比(A/60000)为1.02以上且1.07以下。另外，如上所述，功能膜30的表面31的凹凸形状与玻璃板20的凹凸面21的凹凸形状大致相同。因此，玻璃板20的凹凸面21的代表孔径小于12μm、并且面积比(A/60000)为1.02以上且1.07以下。

玻璃板20的凹凸面21通过凹凸加工处理而形成。作为凹凸加工处理，例如进行一次蚀刻处理(以下，也称为“磨砂处理”)和二次蚀刻处理。

对于磨砂处理而言，与专利文献1不同，使用氟化氢与氟化钾的混合溶液作为玻璃板20的蚀刻液。

如下述反应式(VI)所示，氟化氢与玻璃的SiO₂成分反应，在蚀刻液中溶出SiF₆离子。

SiO₂+6HF→H₂SiF₆+2H₂O (VI)

另一方面，如下述反应式(VII)所示，氟化钾与在蚀刻液中溶出的SiF₆离子结合，在玻璃表面析出K₂SiF₆。

H₂SiF₆+2KF→K₂SiF₆+4HF (VII)

在玻璃表面析出的K₂SiF₆难溶于氟化氢，因此，作为保护玻璃免于利用氟化氢进行的蚀刻的掩模发挥功能。未被掩模覆盖的部分的玻璃表面被选择性地蚀刻。结果，在玻璃表面形成凹凸形状。

需要说明的是，在专利文献1中，在磨砂处理中，使用氟化氢与氟化铵的混合溶液作为玻璃板的蚀刻液。

如下述反应式(VIII)所示，氟化铵与在蚀刻液中溶出的SiF₆离子结合，在玻璃表面析出(NH₄)₂SiF₆。

H₂SiF₆+2NH₄HF₂→(NH₄)₂SiF₆+4HF (VIII)

在玻璃表面析出的(NH₄)₂SiF₆难溶于氟化氢，因此，作为保护玻璃免于利用氟化氢进行的蚀刻的掩模发挥功能。未被掩模覆盖的部分的玻璃表面被选择性地蚀刻。结果，在玻璃表面形成凹凸形状。

在像本实施方式这样使用氟化钾作为掩模剂的情况下，与像专利文献1那样使用氟化铵作为掩模剂的情况相比，掩模的析出速度更快。因此，掩模迅速覆盖玻璃表面，因此，在玻璃表面上容易形成微细的孔。

图4是示出一个实施方式的利用磨砂处理而得到的玻璃表面的显微镜照片。图4的磨砂处理中，使用了含有氟化钾作为掩模剂的蚀刻液。图5是示出现有例的利用磨砂处理而得到的玻璃表面的显微镜照片。图5的磨砂处理中使用了含有氟化铵作为掩模剂的蚀刻液。

如果将图4和图5进行比较，则明显可知，通过使用氟化钾作为掩模剂，与使用氟化铵作为掩模剂的情况相比，能够将利用磨砂处理而得到的孔微细化。

需要说明的是，析出物的析出速度也可以利用氟化钾与氟化氢的浓度比进行调节。

对于二次蚀刻而言，与专利文献1一样，使用以氟化氢作为主要成分的溶液作为玻璃板20的蚀刻液。该蚀刻液可以含有盐酸、硝酸、柠檬酸等作为除氟化氢以外的成分。通过含有这些酸，能够抑制玻璃板20的碱成分与氟化氢反应而局部地发生析出反应，能够使蚀刻在面内均匀地进行。

图6是示出利用接着图4的磨砂处理之后的二次蚀刻处理而得到的玻璃表面的显微镜照片。图7是示出利用接着图5的磨砂处理之后的二次蚀刻处理而得到的玻璃表面的显微镜照片。图6的二次蚀刻处理与图7的二次蚀刻处理中使用了相同的蚀刻液。

如果将图6和图7进行比较，则明显可知，利用二次蚀刻处理而得到的玻璃表面的凹凸形状主要取决于利用磨砂处理而得到的玻璃表面的凹凸形状。

在本实施方式中，在磨砂处理中使用含有氟化钾作为掩模剂的蚀刻液，由此能够将利用磨砂处理而得到的孔微细化。其代表孔径小于绿色像素1G的宽度A1的4倍，因此，可以得到良好的图像的闪光抑制性。另外，包围孔的脊部多且尖锐，因此，利用脊部将外部光漫反射，得到良好的防眩性。

利用磨砂处理而得到的玻璃表面中，代表孔径与绿色像素1G的宽度A1的4倍相比足够小，即使孔代表径稍大也没有问题。另一方面，利用磨砂处理而得到的玻璃表面中，脊部变得过多或变得过于尖锐。因此，接着磨砂处理之后进行二次蚀刻处理。

在二次蚀刻处理中，脊部的数量减少或者脊部的锐度减小，因此，能够减少绿色像素1G的光透过凹凸面21时的散射(透射雾度)，能够降低图像的模糊，可以得到良好的画质。另外，通过脊部的数量减少或者脊部的锐度减小，可以得到良好的耐刮擦性。

以这样的方式，形成透射雾度为28％以下、代表孔径小于12μm、并且面积比(A/60000)为1.02以上且1.07以下的凹凸面21。由此，在图像的闪光抑制、防眩性、耐刮擦性和画质的各方面可以得到良好的性能。

[实施例]

在例1～例15中，除了磨砂处理的条件、二次蚀刻处理的处理时间、化学强化处理的有无、防污膜的有无以外，在相同的条件下制造包含玻璃板和功能膜的玻璃物品，并进行了评价。例1～例8为实施例、例9～例15为比较例。

(1)玻璃物品的制造

[例1]在由铝硅酸盐玻璃形成的玻璃板的一个主表面上通过磨砂处理和二次蚀刻处理而形成了凹凸面。在磨砂处理中，将玻璃板整体浸渍在将氟化氢与氟化钾以1：1.25的质量比混合而成的混合水溶液中。在接着的二次蚀刻处理中，将玻璃板整体浸渍在以氟化氢作为主要成分的水溶液中。对于玻璃板的不实施磨砂处理和二次蚀刻处理的部分，预先利用保护膜进行了覆盖。然后，进行保护膜的剥离、清洗，并将玻璃板供于化学强化处理。

化学强化处理通过将玻璃板整体在含有K离子的熔融盐中在450℃下浸渍80分钟而进行。化学强化处理之后，在玻璃板的凹凸面上依次形成低反射膜和防污膜作为功能膜。

低反射膜以下述方式形成于玻璃板的凹凸面上。首先，导入在氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体，同时使用氧化铌靶(AGC陶瓷公司制造、商品名NBO靶)在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²、反向脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而在玻璃板的凹凸面上形成了厚度13nm的包含氧化铌(氧化铌)的高折射率层。

接着，导入在氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体，同时使用硅靶在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²、反向脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而在上述高折射率层上形成了厚度30nm的包含氧化硅(二氧化硅)的低折射率层。

接着导入在氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体，同时使用氧化铌靶(AGC陶瓷公司制造、商品名NBO靶)在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²、反向脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而在上述低折射率层上形成了厚度110nm的包含氧化铌(氧化铌)的高折射率层。

接着，导入在氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体，同时使用硅靶在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²、反向脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，从而形成了厚度90nm的包含氧化硅(二氧化硅)的低折射率层。

以这样的方式，形成了氧化铌(氧化铌)与氧化硅(二氧化硅)总计四层层叠而成的低反射膜。

防污膜以下述方式形成于低反射膜上。首先，向加热容器内导入含氟有机硅化合物(信越化学公司制造、商品名：KY-185)作为蒸镀材料。然后，利用真空泵对加热容器内进行10小时以上脱气而进行溶液中的溶剂除去，从而制成含氟有机硅化合物覆膜形成用组合物。

接着，将装有上述含氟有机硅化合物膜形成用组合物的加热容器加热至270℃。在到达270℃后，保持该状态10分钟直到温度稳定。

然后，从与装有上述含氟有机硅化合物膜形成用组合物的加热容器连接的喷嘴向设置于真空腔内的玻璃板的凹凸面供给含氟有机硅化合物膜形成用组合物，并进行了成膜。

在成膜时，在利用设置于真空腔内的石英晶体振荡器监视器测定膜厚的同时进行成膜，并进行成膜直到在玻璃板上形成的含氟有机硅化合物膜的膜厚达到10nm。

在含氟有机硅化合物膜达到10nm的时刻停止从喷嘴供给原料，并从真空腔中取出形成有含氟有机硅化合物膜的玻璃板。

取出的形成有含氟有机硅化合物膜的玻璃板以膜面朝上的方式设置在加热板上，并在大气中在150℃下进行60分钟热处理。

[例2]

作为功能膜，仅形成低反射膜，未形成防污膜，除此以外与例1同样地制造了玻璃物品。

[例3]

在凹凸加工处理后，在未进行化学强化处理的情况下形成功能膜，除此以外与例1同样地制造了玻璃物品。

[例4]

在磨砂处理中将掩模剂(氟化钾)与氟化氢的质量比(掩模剂/氟化氢)降低至1.20，除此以外与例1同样地制造了玻璃物品。

[例5]

在磨砂处理中将掩模剂(氟化钾)与氟化氢的质量比(掩模剂/氟化氢)降低至1.15，除此以外与例1同样地制造了玻璃物品。

[例6]

延长二次蚀刻处理的处理时间以使得玻璃物品的透射雾度降低至16.9％，除此以外与例1同样地制造了玻璃物品。

[例7]

进一步延长二次蚀刻处理的处理时间以使得玻璃物品的透射雾度进一步降低至5.4％，除此以外与例6同样地制造了玻璃物品。

[例8]

进一步延长二次蚀刻处理的处理时间以使得玻璃物品的透射雾度进一步降低至2.2％，除此以外与例7同样地制造了玻璃物品。

[例9]

在磨砂处理中不使用氟化钾而使用氟化铵作为掩模剂，除此以外与例1同样地制造了玻璃物品。

[例10]

作为功能膜，仅形成低反射膜，未形成防污膜，除此以外与例9同样地制造了玻璃物品。

[例11]

缩短二次蚀刻处理的处理时间以使得玻璃物品的透射雾度升高至3.7％，除此以外与例9同样地制造了玻璃物品。

[例12]

在磨砂处理中将掩模剂(氟化钾)与氟化氢的质量比(掩模剂/氟化氢)升高至2.00，除此以外与例1同样地制造了玻璃物品。

[例13]

缩短二次蚀刻处理的处理时间以使得玻璃物品的透射雾度升高至39.7％，除此以外与例12同样地制造了玻璃物品。

[例14]

进一步缩短二次蚀刻处理的处理时间以使得玻璃物品的透射雾度升高至54.3％，除此以外与例13同样地制造了玻璃物品。

[例15]

进一步缩短二次蚀刻处理的处理时间以使得玻璃物品的透射雾度升高至74.1％，除此以外与例14同样地制造了玻璃物品。

[例16]

未对玻璃板进行磨砂处理和二次蚀刻处理，除此以外与例1同样地制造了玻璃物品。

(2)评价方法

对于例1～例16中制造的玻璃物品的特性的评价方法进行说明。

[测定点]

图8是示出对例1～例16中制造的玻璃物品的特性进行测定的测定点的平面图。如图8所示，对于玻璃物品的特性而言，在功能膜的表面上的四个测定点P1～P4进行测定，将这些测定值的平均值示于表1中。四个测定点P1～P4设定为将玻璃物品在长度方向(X方向)上三等分的两条线与将玻璃物品在与长度方向正交的宽度方向(Y方向)上三等分的两条线的交点。

[透射雾度]

对于透射雾度而言，使用雾度计(Suga试验机株式会社制造、型号：HZ-V3)按照JISK 7136：2000(ISO 14782：1999)进行测定。

[功能膜的表面的凹凸形状的测定]

对于功能膜的表面的凹凸形状而言，使用激光显微镜(基恩士公司制造、商品名：VK-9700)以50倍的倍数进行测定。基于测定结果，计算出代表孔径和面积比(A/60000)。

[图像的闪光]

对于图像的闪光而言，在使整个屏幕显示绿色的图像显示装置上设置玻璃物品，通过目视进行评价。作为图像显示装置，使用像素分辨率为264ppi的LCD。绿色像素的宽度为3.2μm。

需要说明的是，在示出评价结果的下述表1中，“少”是指通过目视观察到图像的闪光少，“多”是指通过目视观察到图像的闪光多。

[画质(图像的模糊)]

画质如下进行评价：在水平配置的条形图(大日本印刷公司制造、高清晰度分辨率图I型)的上表面隔着厚度3cm的间隔物水平设置作为测定对象的玻璃物品，隔着玻璃物品观察条形图的图案，通过能否单独区分开2000TVL的黑色线来进行评价。需要说明的是，在示出评价结果的下述表1中，“良好”是指黑色线能够单独区分开，“合格”是指虽然黑色线能够单独区分开但是轮廓不清楚，“不良”是指黑色线不能单独区分开。

[防眩性]

防眩性如下进行评价：在水平配置的像素分辨率为264ppi的LCD上水平设置玻璃物品，从设置于玻璃物品的上方的荧光灯向玻璃物品照射1500lx的强度的光时，通过隔着玻璃物品能否识别出LCD所显示的图像来进行评价。需要说明的是，在示出评价结果的下述表1中，“合格”是指能够识别出所显示的图像，“不良”是指难以识别出所显示的图像。

[铅笔硬度]

铅笔硬度按照JIS K5600-5-4：1999(ISO 15184：1996)“划痕硬度(铅笔法)”进行测定。

[马氏硬度]

马氏硬度使用PICODENTOR(Fischer Instruments公司制造、型号：Hm500)进行测定。将玻璃物品以使功能膜朝上的方式设置，从玻璃物品的上方按压压头。测定载荷设定为0.03mN/5秒。即，用5秒钟使测定载荷从零增加至0.03mN，接着将测定载荷在0.03mN保持5秒钟，最后使测定载荷从0.03mN减少至零。

(3)评价结果

将例1～例16中制造的玻璃物品的评价结果与制造条件一起示于表1中。另外，将例1～例15中制造的玻璃物品的面积比(A/60000)与铅笔硬度的关系示于图9中。

[表1]

如表1所示，在例1～例8中，通过使用氟化钾作为磨砂处理的掩模剂，实现了通过磨砂处理而得到的孔的微细化，然后，利用二次蚀刻处理对脊部的数量和锐度进行优化。其结果是，透射雾度为28％以下，能够抑制图像的模糊，画质良好。代表孔径小于12μm、小于绿色像素的宽度3.2μm的4倍，图像闪光少。另外，面积比(A/60000)为1.02以上，防眩性良好。此外，面积比(A/60000)为1.07以下，因此，铅笔硬度为7H以上，耐刮擦性良好。

另一方面，在例9～例11中，与例1～例8不同，使用氟化铵作为磨砂处理的掩模剂。其结果是，代表孔径为12μm以上、大于绿色像素的宽度3.2μm的4倍，图像闪光多。另外，面积比(A/60000)小于1.02，防眩性不良。

另一方面，在例12～例15中，与例1～例8同样地使用氟化钾作为磨砂处理的掩模剂，但是利用二次蚀刻处理对脊部的数量和锐度的优化不充分。其结果是，透射雾度大于28％，图像与例1～例8相比较模糊，画质不良。另外，面积比(A/60000)大于1.07，铅笔硬度小于7H，耐刮擦性不良。

另外，在例16中，未对玻璃板进行磨砂处理和二次蚀刻处理，因此，映射荧光灯的光，难以识别出LCD所显示的图像，防眩性不良。

以上，对玻璃物品的实施方式等进行了说明，但是本发明并不限定于上述实施方式等，在权利要求书所记载的本发明的主旨的范围内能够进行各种变形、改良。

Claims

1.一种玻璃物品，其具有玻璃板和规定的功能膜，所述玻璃板在至少一个主表面上具有将外部光漫反射的凹凸面，所述规定的功能膜形成在所述凹凸面上，其中，

所述玻璃物品的透射雾度为28％以下，

在利用激光显微镜观察时的视野面积为60000μm²的范围内，所述功能膜的与所述玻璃板相反侧的表面的代表孔径小于12μm，并且所述功能膜的与所述玻璃板相反侧的表面的表面积A(μm²)相对于视野面积的面积比(A/60000)为1.02以上且1.07以下。

2.如权利要求1所述的玻璃物品，其中，

所述面积比(A/60000)为1.02以上且1.06以下。

3.如权利要求1或2所述的玻璃物品，其中，

所述玻璃物品的所述透射雾度为20％以下。

4.如权利要求1～3中任一项所述的玻璃物品，其中，

所述玻璃物品的马氏硬度为2.0GPa以上。

5.如权利要求1～4中任一项所述的玻璃物品，其中，

所述功能膜至少包含抑制外部光的反射的低反射膜。

6.如权利要求5所述的玻璃物品，其中，

所述功能膜至少包含所述低反射膜和抑制所述玻璃物品的污渍的防污膜，

以所述低反射膜为基准，所述防污膜形成在与所述玻璃板相反的一侧。

7.如权利要求1～6中任一项所述的玻璃物品，其中，

所述玻璃板由钠钙玻璃或铝硅酸盐玻璃形成。

8.如权利要求1～7中任一项所述的玻璃物品，其中，

所述玻璃板在所述主表面具有压应力层，

所述压应力层的表面压应力为600MPa以上。

9.一种显示装置，其具备权利要求1～8中任一项所述的玻璃物品。

10.如权利要求9所述的显示装置，其为车载用设备。