CN108931884A - 压印膜及压印装置 - Google Patents
压印膜及压印装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108931884A CN108931884A CN201710396476.5A CN201710396476A CN108931884A CN 108931884 A CN108931884 A CN 108931884A CN 201710396476 A CN201710396476 A CN 201710396476A CN 108931884 A CN108931884 A CN 108931884A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- imprint membrane
- imprint
- film
- coining
- membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 87
- 239000002689 soil Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000007790 scraping Methods 0.000 claims description 13
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 3
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 14
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001803 electron scattering Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000002090 nanochannel Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
本发明提供了一种压印膜及压印装置，涉及压印技术领域，在该压印膜的压印面表面覆有一层防污膜。该压印装置，包括上述压印膜。利用该压印膜缓解现有技术的压印膜在使用过程中，由于压印膜表面残留未固化的UV胶水或粘结半固化的UV胶水导致在产品的有效压印结构部位造成气泡、白点等不良的技术问题，同时，该压印膜可以实现免洗功能，从而节省清洗压印膜的时间，提高了生产效率和生产的安全性，同时能避免气泡和白点等问题的出现。
Description
技术领域
本发明涉及压印技术领域，尤其涉及纳米压印技术领域，具体的涉及一种压印膜及压印装置。
背景技术
纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这种机械作用，使得纳米压印技术不再受到光子衍射和电子散射的限制，可大面积地制备纳米级图形。同时，由于这项技术所用的设备简单，制备时间短，压印模板可以重复使用，所以应用该技术制备纳米图形所需的成本也较低。
纳米压印技术的应用范围较为广泛，常用于制备光学元器件。以摄像头所用玻璃为例，传统的摄像头玻璃是利用AR(Anti-Reflection，减反射)镀膜技术增加玻璃的透光率。而纳米压印是针对传统AR(Anti-Reflection，减反射)镀膜技术开发的一种UV转印纳米技术。该纳米压印原理是通过UV(Ultraviolet，紫外)胶转印将软膜上的纳米级蛾眼结构转印到玻璃视窗区，达到增加视窗区透光率的效果，从而代替传统AR镀膜技术。
纳米压印软膜具有蛾眼结构，蛾眼结构是一种特征尺寸小于可见波长的结构，可以等效为一个连续变化折射率的介质层，能够在可见光波长范围内抑制反射光的损失，从而达到提高透光率的作用。
在玻璃上进行压印的过程中，纳米压印软膜每次转印压印后有效结构区都会残留未固化的UV胶水，如果不处理残留的胶水继续使用纳米压印软膜进行压印会造成产品视窗区纳米结构中存在气泡、白点等不良。目前主要解决办法是压印膜每次使用后，需要用正丁醇、酒精或者清洗剂对压印膜进行表面清洗，而每次压印后对压印膜进行清洗，会增加压印膜的使用周期时间，使生产无法连续进行，降低生产效率。同时，压印膜使用和清洗10次以上，压印膜有效结构区容易粘上半固化的UV胶水，如果继续使用会造成产品视窗区的纳米压印结构上存在气泡、白点等不良。
发明内容
本发明的第一目的在于提供压印膜，以缓解现有技术的压印膜在使用过程中，压印膜表面残留未固化的UV胶水或粘结半固化的UV胶水会在产品的有效压印结构部位造成气泡、白点等不良的技术问题。
本发明的第二目的在于提供一种压印装置，利用该压印装置进行压印后可以实现免清洗功能，从而节省清洗压印膜的时间，提高了生产效率和生产的安全性，同时能避免气泡和白点等问题的出现。
为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：
一种压印膜，在所述压印膜的压印面表面覆有一层防污膜。
进一步的，所述防污膜的水滴角≥110°。
进一步的，所述防污膜包括防刮膜和防油膜。
进一步的，所述防刮膜为SiO2涂层。
进一步的，所述SiO2涂层采用沉积法或电镀工艺制备得到。
进一步的，所述防油膜为氟化物防油膜。
进一步的，所述氟化物防油膜采用电镀工艺制备得到。
进一步的，所述防污膜的厚度为10nm-20nm；防刮膜的厚度为1-3nm。
进一步的，所述压印膜包括PET基材，所述PET基材上设有具有压印图形的树脂层，所述树脂层表面覆有所述防污膜。
进一步的，所述压印图形为纳米结构压印图形。
一种压印装置，包括上述压印膜。
与已有技术相比，本发明具有如下有益效果：
本发明提供的压印膜是通过在压印膜的压印面进行表面处理，在压印面的表面设置一层防污膜，由于防污膜能增加压印面的水滴角，使压印过程中残留的未固化的胶水不能在压印膜的表面铺展和形成气泡区，同时半固化的胶水也不会粘在压印膜的图形结构区，从而保证压印膜在压印后不会在产品的有效压印结构部位造成气泡、白点等不良问题，压印后产品的压印结构视窗区外观和性能均符合检验标准。同时由于压印膜不会粘结胶水，因此，该压印膜在生产过程中可以实现免清洗的功能，因此可以实现连续化生产作业，进而提高了生产效率；此外，由于实现了免清洗，因此可以避免使用酒精等易燃易爆的危险化学品，进而提高了生产的安全性。
本发明提供的压印装置，包括上述压印膜，因此具有上述压印膜的全部优点，利用该压印装置进行压印后可以免清洗，因此节省了清洗压印膜的时间，提高生产效率，同时能避免气泡和白点等问题的出现。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的压印膜的结构示意图。
图标：10-防污膜；101-防油膜；102-防刮膜；20-树脂层；30-PET基材。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例一
如图1所示，本实施例是一种压印膜，在压印膜的压印面表面覆有一层防污膜10。
上述压印膜是通过在压印膜的压印面进行表面处理，在压印面的表面设置一层防污膜10，由于防污膜10能增加压印面的水滴角，使压印过程中残留的未固化的胶水不能在压印膜的表面铺展和形成气泡区，同时半固化的胶水也不会粘在压印膜的图形结构区，从而保证压印膜在压印后不会在产品的有效压印结构部位造成气泡、白点等不良问题，压印后产品的压印结构视窗区外观和性能均符合检验标准。同时由于压印膜不会粘结胶水，因此，该压印膜在生产过程中可以实现免清洗的功能，因此可以实现连续化生产作业，进而提高了生产效率；此外，由于实现了免清洗，因此可以避免使用酒精等易燃易爆的危险化学品，进而提高了生产的安全性。
为了取得更好的防粘效果，本实施例中，防污膜10的水滴角≥110°。
水滴角≥110°时，防污膜10的防粘效果更好，利用该压印膜制备出的产品的合格率更高，清洗次数更少。其中，水滴角典型但非限制性的角度例如可以为110°、115°、120°、125°、130°、135°、140°、145°或150°。
继续参照图1，防污膜10包括防刮膜102和防油膜101。
防刮膜102可以增加防污膜10的硬度，防油膜101可以增加防污膜10的水滴角。
其中，防刮膜102为SiO2涂层。
SiO2涂层在增加防污膜10耐摩擦能力的同时，还可以增加防油膜101在压印膜上的附着力，从而提高防油膜101在压印膜上粘接的稳定性。
本实施例中的SiO2涂层采用沉积法或电镀工艺制备得到。
另外，防油膜101为氟化物防油膜。
氟化物防油膜主要作用是提高压印膜表面的水滴角，使压印过程中残留的未固化的胶水不能在压印膜的表面铺展和形成气泡区，同时半固化的胶水也不会粘在压印膜的图形结构区。
同样，本实施例中的氟化物防油膜采用电镀工艺制备得到。
此外，本实施例中，作为优选方案，防污膜10的厚度为10nm-20nm，防刮膜102的厚度为1-3nm。其余厚度为防油膜101的厚度。
防污膜10的厚度要在一定的范围内，防粘效果才能达到最优值。防污膜10的厚度过小，防污膜10很容易遭到损伤，从而失去防粘性能；防污膜10的厚度过大，又会影响压印效果，因此，防污膜10的厚度需控制在10nm-20nm的范围内。防污膜10典型但非限制性的厚度例如为：10nm、11nm、12nm、13nm、14nm、15nm、16nm、17nm、18nm、19nm或20nm。
防刮膜102典型但非限制性的厚度例如为：1nm、2nm或3nm。
防污膜10与防刮膜102的厚度之差为防油膜101的厚度。
本实施例中，压印膜包括PET基材30，PET基材30上设有具有压印图形的树脂层20，树脂层20表面覆有防污膜10。其中，本实施例中，PET基材的厚度为0.3-0.4mm。
实施例二
本实施例是一种压印装置，包括实施例一中的压印膜。
本发明提供的压印装置，包括上述压印膜，因此具有上述压印膜的全部优点，利用该压印装置进行压印后可以免清洗，因此节省了清洗压印膜的时间，提高生产效率，同时能避免气泡和白点等问题的出现。
下面将通过具体试验，利用传统压印膜(即：压印膜表面未设置防污膜的压印膜)和本发明提供的压印膜生产手机摄像头用玻璃，以说明本发明提供的压印膜的有益效果。
试验过程：
选用两个传统压印膜和1个本发明提供的压印膜分成3组对同样的产品进行压印。第一组采用传统压印膜进行压印，共压印10次，每次压印30片手机摄像头用玻璃，在压印过程中对压印膜不进行任何处理；第二组采用传统压印膜，共压印20次，每次压印后使用酒精对压印膜进行清洗，清洗后再吹干使用，同样每次压印30片手机摄像头用玻璃；第三粗采用本发明提供的压印膜，共压印20次，在压印过程中不进行任何处理，同样，每次压印30片手机摄像头用玻璃。
性能测试：
试验结束后对每个产品进行外观洁净度检测和外观干涉检测，其中外观洁净度检测合格率和干涉检测合格率列于表1，之后再对干涉检测合格后的产品进行透光率和反射率检测，检测结果列于表2。
表1 不同组别的产品测试结果
表2 不同组别产品的透光率和反射率结果
由表1可以看出，试验组第一组中，利用传统压印膜进行压印，第一次压印的产品的外观良率为93.33％、干涉全检良率为86.67％，而第二次压印的产品的外观良率大幅下降为23.33％、干涉全检良率大幅下降为23.33％，当第五次压印后，已经不能再继续生成出合格产品。由此可知，传统压印膜在不清洗的情况下只能压印一次，如果不清洗将无法继续使用。
试验组第二组中，每次压印后会用酒精进行清洗，其第一次压印产品的外观良率和干涉全检良率与第一组的第一次数据一致，但是第五次压印的产品的外观良率和干涉全检良率分别为90.00％和83.33％，并未出现大幅降低。本组中，第二十次压印的产品的外观良率和干涉全检良率分别为63.33％和60.00％，也同样可以生成出合格产品。通过试验组第二组和第一组的数据说明，利用传统的压印膜进行压印，在压印过程中必须对压印膜进行清洗才能继续使用，否则，将无法生成出合格产品。
试验组第三组，利用本发明提供的压印膜进行压印，其第一次压印的产品的外观良率和干涉全检良率分别为96.67％和93.33％，略高于第一组和第二组，由此说明，本发明提供的压印膜其压印效果不低于传统压印膜。本发明，第十次压印的产品的外观良率和干涉全检良率分别为93.33％和90.00％，第十五次压印的产品的外观良率和干涉全检良率分别为90.00％和86.67％，第二十次压印的产品的外观良率和干涉全检良率分别为86.67％和83.33％，远高于第二组中第十次、第十五次和第二十次压印的产品的外观良率和干涉全检良率。由此可知，利用本发明提供的压印膜在每次压印后不进行任何处理的情况下，压印出的产品的合格率比传统压印膜压印产品的合格率要高。
此外，利用本发明提供的压印膜进行产品压印，每次压印耗时3min，利用第二组提供的方案进行产品压印，每次压印耗时5min，因此，使用本发明提供的压印膜生产，每次压印可以节约时间40％。由此可知，利用本发明提供的压印膜可以有效提高工作效率。
表2列出了每组合格产品的评价透光率和平均反射率，由表2可知，第三组每次压印的产品的平均透光率在95.5％左右，与自二组相比，稳定性更好。
产品性能测试说明：
外观洁净度检测标准：在黑底板上用三波灯检测无白点、无气泡、无残胶等异物。
干涉检测标准：用干涉仪检测峰谷值＜2.0，其中，测试中使用的干涉仪检测仪型号：激光干涉窗口仪(南京英特飞光电技术有限公司)。
性能测试标准：透光率≥95.0％、反射率≤0.30％，其中，测试中使用的透光率检测仪型号：透光率检测仪GZ902，反射率检测仪型号：微区反射率仪GZ390M0。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种压印膜，其特征在于，在所述压印膜的压印面表面覆有一层防污膜(10)。
2.根据权利要求1所述的压印膜，其特征在于，所述防污膜(10)的水滴角≥110°。
3.根据权利要求1或2所述的压印膜，其特征在于，所述防污膜(10)包括防刮膜(102)和防油膜(101)。
4.根据权利要求3所述的压印膜，其特征在于，所述防刮膜(102)为SiO2涂层。
5.根据权利要求4所述的压印膜，其特征在于，所述SiO2涂层采用沉积法或电镀工艺制备得到。
6.根据权利要求3所述的压印膜，其特征在于，所述防油膜(101)为氟化物防油膜。
7.根据权利要求6所述的压印膜，其特征在于，所述氟化物防油膜采用电镀工艺制备得到。
8.根据权利要求3所述的压印膜，其特征在于，所述防污膜(10)的厚度为10nm-20nm；所述防刮膜(102)的厚度为1-3nm。
9.根据权利要求1或2所述的压印膜，其特征在于，所述压印膜包括PET基材(30)，所述PET基材(30)上设有具有压印图形的树脂层(20)，所述树脂层(20)表面覆有所述防污膜(10)；
优选地，所述压印图形为纳米结构压印图形。
10.一种压印装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的压印膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710396476.5A CN108931884A (zh) | 2017-05-27 | 2017-05-27 | 压印膜及压印装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201710396476.5A CN108931884A (zh) | 2017-05-27 | 2017-05-27 | 压印膜及压印装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108931884A true CN108931884A (zh) | 2018-12-04 |
Family
ID=64448737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201710396476.5A Pending CN108931884A (zh) | 2017-05-27 | 2017-05-27 | 压印膜及压印装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108931884A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109739044A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制备方法、全反射显示面板和显示装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050039618A1 (en) * | 2001-07-05 | 2005-02-24 | Babak Heidari | Stamp having an antisticking layer and a method of forming of repairing such a stamp |
| US20050287820A1 (en) * | 2002-06-20 | 2005-12-29 | Torbjorn Ling | Mold for nano imprinting |
| US20060040058A1 (en) * | 2003-11-21 | 2006-02-23 | Babak Heidari | Multilayer nano imprint lithography |
| KR20080099672A (ko) * | 2007-05-10 | 2008-11-13 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 임프린트 공정 시스템 및 패턴형성방법 |
| CN102046357A (zh) * | 2008-06-05 | 2011-05-04 | 旭硝子株式会社 | 纳米压印用模具、其制造方法及表面具有微细凹凸结构的树脂成形体以及线栅型偏振器的制造方法 |
| CN206788554U (zh) * | 2017-05-27 | 2017-12-22 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 压印膜及压印装置 |
-
2017
- 2017-05-27 CN CN201710396476.5A patent/CN108931884A/zh active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050039618A1 (en) * | 2001-07-05 | 2005-02-24 | Babak Heidari | Stamp having an antisticking layer and a method of forming of repairing such a stamp |
| US20050287820A1 (en) * | 2002-06-20 | 2005-12-29 | Torbjorn Ling | Mold for nano imprinting |
| US20060040058A1 (en) * | 2003-11-21 | 2006-02-23 | Babak Heidari | Multilayer nano imprint lithography |
| KR20080099672A (ko) * | 2007-05-10 | 2008-11-13 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 임프린트 공정 시스템 및 패턴형성방법 |
| CN102046357A (zh) * | 2008-06-05 | 2011-05-04 | 旭硝子株式会社 | 纳米压印用模具、其制造方法及表面具有微细凹凸结构的树脂成形体以及线栅型偏振器的制造方法 |
| CN206788554U (zh) * | 2017-05-27 | 2017-12-22 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 压印膜及压印装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109739044A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制备方法、全反射显示面板和显示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104812569B (zh) | 转印薄膜及透明层叠体、它们的制造方法、静电电容型输入装置以及图像显示装置 | |
| CN104838342B (zh) | 在基板上制作透明导体的方法 | |
| TWI449626B (zh) | Transparent conductive film and its touch panel | |
| US10031631B2 (en) | Transfer film, method for producing transfer film, transparent laminate, method for producing transparent laminate, capacitance-type input device, and image display device | |
| CN106794679B (zh) | 转印薄膜及其制造方法和层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置的制造方法 | |
| CN104040644A (zh) | 透明导电性膜 | |
| CN102630327A (zh) | 导电层合体和使用该导电层合体而形成的触控面板 | |
| CN102681043B (zh) | 光学元件及其制造方法、显示装置、信息输入装置、相片 | |
| CN105143366A (zh) | 透明导电膜形成用墨组合物、透明导电膜、透明电极的制造方法以及图像显示装置 | |
| CN101310345A (zh) | 透明导电性膜及触摸面板 | |
| US20170069691A1 (en) | Dispersion liquid, transparent conductive film, input device, and organic electroluminescent lighting device | |
| KR20160113134A (ko) | 금속 나노와이어, 투명 도전막 및 그 제조 방법, 분산액, 정보 입력 장치, 그리고 전자 기기 | |
| KR102038206B1 (ko) | 도전성 필름, 편광판 및 터치 패널 부착 표시 장치 | |
| TW201543300A (zh) | 感光性積層體、轉印材料、圖案化感光性積層體及其製造方法、觸控面板及圖像顯示裝置 | |
| CN104115208A (zh) | 显示装置 | |
| CN104204111A (zh) | 导电性组合物、导电性部件、导电性部件的制造方法、触摸屏和太阳能电池 | |
| CN102498073A (zh) | 基材的表面具有低反射膜的物品 | |
| CN101185013A (zh) | 栅格偏振膜、栅格偏振膜的制造方法、光学叠层体、光学叠层体的制造方法和液晶显示装置 | |
| CN102165334A (zh) | 显示器用过滤器 | |
| CN104321836A (zh) | 经图案化的导电基材的制造方法、通过该方法而进行了图案化的导电基材及触控面板 | |
| Baek et al. | Solution-processable multi-color printing using UV nanoimprint lithography | |
| CN108931884A (zh) | 压印膜及压印装置 | |
| CN206788554U (zh) | 压印膜及压印装置 | |
| CN105764690B (zh) | 硬涂膜及透明导电性膜 | |
| CN207586454U (zh) | 减反膜镜片 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |