CN108793095A - 溶液除杂方法和溶液除杂系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种溶液除杂方法和一种用于进行该方法溶液除杂系统。该溶液除杂方法主要包括：步骤S1，通过旧液储存容器储存所述待处理溶液；步骤S2，从所述旧液储存容器中抽取预设量的所述待处理溶液，送入批次反应容器内进行反应，得到杂质含量不大于预设值的处理后溶液；步骤S3，将所述批次反应容器内的所述处理后溶液送入新液储存容器进行储存，然后返回步骤S2。可见，本发明提供的溶液除杂方法和溶液除杂系统，可用于祛除硫酸溶液中的双氧水，且通过“多批次反应”的方式，达到高效处理的目的。

Description

溶液除杂方法和溶液除杂系统

技术领域

本发明涉及水处理技术领域，特别涉及一种溶液除杂方法和一种溶液除杂系统。

背景技术

微电子技术是当代发展最快的技术之一，是电子信息产业发展的基础。微电子技术的发展，大大推动了航天航空技术、遥测传感技术、通讯技术、计算机技术、网络技术及家用电器产业的迅猛发展。在我国，已经把微电子产业列为国民经济的支柱性产业。如今，微电子技术已成为衡量一个国家科学技术进步和综合国力的重要标志。

在12英寸半导体芯片生产过程中，需要用到混酸(80％硫酸H₂SO₄与20％双氧水H₂O₂的混合物)，使用以后作为废液排放至废硫酸收集槽。

含有双氧水的浓硫酸具有很强的腐蚀性和氧化性，容易造成容器和管道泄漏，存在安全隐患。

因此如何祛除废硫酸中的双氧水，是本领域技术人员急需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种溶液除杂方法和一种溶液除杂系统，可用于祛除硫酸溶液中的双氧水，且处理效率较高。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种溶液除杂方法，用于祛除待处理溶液中的杂质，包括：

步骤S1：通过旧液储存容器储存所述待处理溶液；

步骤S2：从所述旧液储存容器中抽取预设量的所述待处理溶液，送入批次反应容器内进行反应，得到杂质含量不大于预设值的处理后溶液；

步骤S3：将所述批次反应容器内的所述处理后溶液送入新液储存容器进行储存，然后返回步骤S2。

优选地，在上述溶液除杂方法中，所述步骤S2包括：

步骤S21：从所述旧液储存容器中抽取预设量的所述待处理溶液，送入所述批次反应容器内；

步骤S22：向所述批次反应容器内投放用于祛除所述杂质的化学试剂，并搅拌和冷却，得到杂质含量不大于预设值的所述处理后溶液。

优选地，在上述溶液除杂方法中，所述步骤S22中，

通过液位计控制送入所述批次反应容器内的溶液容量；

和/或，通过CDA搅拌装置对所述批次反应容器内的溶液进行搅拌；

和/或，通过换热器对所述批次反应容器内的溶液进行循环冷却；

和/或，通过温度控制器检测所述批次反应容器内的溶液是否达到预设温度，以控制所述批次反应容器内的溶液是否进行冷却；

和/或，通过排气装置将反应生成的废气送入气体洗涤塔内进行处理。

优选地，在上述溶液除杂方法中，所述待处理溶液为含有双氧水的硫酸溶液，所述杂质为双氧水。

一种溶液除杂系统，用于进行如上文中所述的溶液除杂方法，所述的溶液除杂系统包括：

用于储存待处理溶液的旧液储存容器；

为批次反应提供反应空间的批次反应容器，所述旧液储存容器和所述批次反应容器之间通过第一管路连接，所述第一管路上设置有抽取泵；

用于储存处理后溶液的新液储存容器，所述批次反应容器和所述新液储存容器之间通过第二管路连接，所述第二管路上设置有输送泵。

优选地，在上述溶液除杂系统中，还包括：

用于储存化学试剂的投加试剂储存容器，所述化学试剂用于祛除所述待处理溶液中的杂质，所述投加试剂储存容器和所述批次反应容器之间通过第三管路连接，所述第三管路上设置有投加泵；

和/或，用于对所述批次反应容器内的溶液进行搅拌的CDA搅拌装置；

和/或，设置于所述批次反应容器顶部用于将反应生成的废气送入气体洗涤塔内进行处理的排气装置；

和/或，用于对所述批次反应容器内的溶液进行循环冷却的换热器。

优选地，在上述溶液除杂系统中，所述换热器的热侧出水口与所述批次反应容器的回流口之间的连接管路上，设置有温度控制器，用于控制所述批次反应容器内的溶液是否冷却，或者通过测量温度控制其循环冷却的次数；

和/或，所述换热器的热侧进水口，通过所述第二管路，与所述批次反应容器的出水口连接，所述输送泵位于所述换热器的所述热侧进水口与所述批次反应容器的所述出水口之间。

优选地，在上述溶液除杂系统中，所述旧液储存容器上设置有液位控制器装置，和/或液位显示装置；

和/或，所述批次反应容器上设置有液位计，用于计量每次注入所述批次反应容器内的所述待处理溶液的容积。

优选地，在上述溶液除杂系统中，所述旧液储存容器和/或所述新液储存容器，设置有碳钢衬PTFE材质的内槽本体。

优选地，在上述溶液除杂系统中，所述待处理溶液为含有双氧水的硫酸溶液，所述杂质为双氧水。

从上述技术方案可以看出，本发明提供的溶液除杂方法和溶液除杂系统，在对待处理溶液进行除杂时，可通过“多批次反应”的方式进行，即将旧液储存容器内的待处理溶液，按照预设量值，分批、多次地抽取出来分别进行反应。具体为，第一批抽取出来的预设量的待处理溶液在批次反应容器内反应完成后，得到该批次的处理后溶液，再将其送入新液储存容器内进行储存，至此，完成第一批次待处理溶液的处理过程；然后，循环进行上述抽取、反应和储存的处理过程。

可见，本发明提供的溶液除杂方法和溶液除杂系统，可用于祛除硫酸溶液中的双氧水，且通过“多批次反应”的方式，达到高效处理的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的溶液除杂系统的工作流程图。

其中：

1-旧液储存容器，2-批次反应容器，3-新液储存容器，

4-投加试剂储存容器，5-换热器，6-温度控制器，

7-投加泵，8-抽取泵，9-输送泵。

具体实施方式

本发明公开了一种溶液除杂方法和一种溶液除杂系统，可用于祛除硫酸溶液中的双氧水，且处理效率较高。

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1，图1为本发明实施例提供的溶液除杂系统的工作流程图。

本发明实施例提供的溶液除杂方法，用于祛除待处理溶液中的杂质。该方法主要包括如下步骤：

步骤S1：通过旧液储存容器1储存待处理溶液；

步骤S2：从旧液储存容器1中抽取预设量的待处理溶液，送入批次反应容器2内进行反应，得到杂质含量不大于预设值的处理后溶液；

步骤S3：将批次反应容器2内的处理后溶液(即经过处理后获得的新溶液)送入新液储存容器3进行储存，然后返回步骤S2。

从上述技术方案可以看出，采用本发明实施例提供的溶液除杂方法，在对待处理溶液进行除杂时，通过“多批次反应”的方式进行，即将旧液储存容器1内的待处理溶液，按照预设量值，分批、多次地抽取出来分别进行反应。具体为，第一批抽取出来的预设量的待处理溶液在批次反应容器2内反应完成后，得到该批次的处理后溶液，再将其送入新液储存容器3内进行储存，至此，完成第一批次待处理溶液的处理过程；然后，循环进行上述抽取、反应和储存的处理过程。

可见，本发明实施例提供的溶液除杂方法，可用于祛除硫酸溶液中的双氧水，且通过“多批次反应”的方式，达到高效处理的目的。

下面以含有双氧水的废硫酸溶液作为待处理溶液(杂质为双氧水)为例，进行具体说明。但是并不局限于此，本发明实施例提供的溶液除杂方法和溶液除杂系统，还可用于实现对其它溶液进行除杂的目的，本发明对此不作具体限定。

具体地，上述溶液除杂方法中的步骤S2包括：

步骤S21：从旧液储存容器1中抽取预设量的待处理溶液，送入批次反应容器2内；

步骤S22：向批次反应容器2内投放用于祛除杂质的化学试剂，并搅拌和冷却，得到杂质含量不大于预设值的处理后溶液。其中，用于祛除杂质的化学试剂，为专业高效的催化剂，用于促进废硫酸中双氧水的化学反应，使得双氧水以气体形式分离。

优选地，在上述步骤S22中，通过液位计控制送入批次反应容器2内的溶液容量。例如，将液位计安装在批次反应容器2内，当液位计感应到批次反应容器2内的溶液容量达到预设量时，停止输送溶液，并向批次反应容器2内投放用于祛除杂质的化学试剂，对批次反应容器2内的溶液进行搅拌。

优选地，在上述步骤S22中，通过CDA搅拌装置对批次反应容器2内的溶液进行搅拌。CDA为clean dry air的缩写，即洁净干燥的压缩空气。CDA搅拌装置用于保证反应过程中产生的气体及时溢出。从而可见，本方法将物理法和化学法有机组合，能够确保系统安全稳定，达到处理效果显著、减少废液排放、降低运行成本的目的。

由于在反应过程中，硫酸溶液的温度会急剧上升，反应完成后，硫酸溶液的温度依然很高。从而，优选地，在上述步骤S22中，通过换热器5(优选采用板式换热器)对批次反应容器2内的溶液进行循环冷却。具体地，需要通过换热器5将硫酸的温度降至40摄氏度以下，一般情况下，废硫酸需要经过至少一次(一般为两次或三次)循环换热的过程。反应完成且换热完成后，将处理后的硫酸溶液泵入新液储存容器3内，完成一个批次的处理过程。

优选地，在上述步骤S22中，通过温度控制器6检测批次反应容器2内的溶液是否达到预设温度，以控制批次反应容器2内的溶液是否进行循环冷却。即当温度控制器6检测到批次反应容器2内的溶液温度达到或低于预设温度(例如40摄氏度)时，则溶液不必再进入冷却器5内进行循环冷却。

实践结果表明，采用本发明实施例提供的溶液除杂方法，对含有双氧水的废硫酸进行处理，双氧水祛除率可达到95％以上，从而令处理后的硫酸溶液达到用酸点的水质要求，硫酸的循环使用量可达到95％以上。

优选地，在上述步骤S22中，还通过排气装置将批次反应容器2内反应生成的废气送入气体洗涤塔内，进行及时排除和处理后排放。

综上，本发明实施例还提供了一种溶液除杂系统，用于进行如上文中所述的溶液除杂方法。该溶液除杂系统可用于祛除硫酸溶液中的双氧水，且通过“多批次反应”的方式，达到高效处理的目的。

具体地，本发明实施例提供的溶液除杂系统包括：

旧液储存容器1，用于储存待处理溶液；

批次反应容器2，为批次反应的溶液提供储存反应空间；

新液储存容器3，用于储存处理后溶液。

其中，旧液储存容器1和批次反应容器2之间通过第一管路连接，第一管路上设置有抽取泵8(具体为提升泵)；批次反应容器2和新液储存容器3之间通过第二管路连接，第二管路上设置有输送泵9。

优选地，在上述溶液除杂系统中，旧液储存容器1和新液储存容器3中分别设置有碳钢衬PTFE(polytetrafluoroethylene，聚四氟乙烯)材质的内槽本体。

优选地，在上述溶液除杂系统中，还包括：

投加试剂储存容器4，用于储存化学试剂，该化学试剂用于祛除待处理溶液中的杂质，投加试剂储存容器4和批次反应容器2之间通过第三管路连接，第三管路上设置有投加泵7；(当待处理溶液为含有双氧水的硫酸溶液时，采用的用于祛除杂质的化学试剂，为专业高效的催化剂，用于促进废硫酸中双氧水的化学反应，使得双氧水以气体形式分离)

CDA搅拌装置，用于对批次反应容器2内的溶液进行搅拌；

排气装置，设置于批次反应容器2的顶部，用于将反应生成的废气送入气体洗涤塔内进行处理；

换热器5，例如板式换热器，用于对批次反应容器2内的溶液进行循环冷却。

具体地，如图1所示，换热器5的热侧进水口与批次反应容器2底部的出水口连接，换热器5的热侧出水口与批次反应容器2顶部的回流口连接，换热器5的冷侧进水口与冰水供水管路(又称PCW供水管路，即工艺冷却水系统供水管路)连接；换热器5的冷侧出水口与冰水回水管路(又称PCW回水管路，即工艺冷却水系统回水管路)连接。

进一步地，换热器5的热侧出水口与批次反应容器2的回流口之间的连接管路上，设置有温度控制器6，用于控制批次反应容器2内溶液是否进行冷却，或者通过测量温度控制其循环冷却的次数。当批次反应容器2内的溶液温度达到或低于预设温度(例如40摄氏度)后，送入新液储存容器3内进行储存，至此，一个批次的化学反应完成。

优选地，换热器5的热侧进水口与第二管路连接，从而与批次反应容器2的出水口连接。其中，输送泵9位于换热器5的热侧进水口与批次反应容器2的出水口之间。

当需要将批次反应容器2内的溶液送入换热器5内进行冷却时，批次反应容器2的出水口与换热器5的热侧进水口之间的管路开通，输送泵9启动，从而将批次反应容器2内的溶液送入换热器5内进行冷却，然后回流到批次反应容器2内；

当批次反应容器2内的溶液反应处理完成，且温度达到或低于预设温度后，需要将批次反应容器2内的溶液送入新液储存容器3内，此时，批次反应容器2的出水口与新液储存容器3之间的第二管路开通，输送泵9启动，从而将批次反应容器2内的溶液送入新液储存容器3内。

优选地，在上述溶液除杂系统中，批次反应容器2上设置有液位计，用于计量每次注入批次反应容器2内的待处理溶液的容积。具体地，当批次反应容器2上设置的液位计，感应到批次反应容器2内的溶液容量达到预设量时，控制第一管路上的抽取泵8停止，并且，控制第三管路上的投加泵7启动以向批次反应容器2内投放用于祛除杂质的化学试剂，控制CDA搅拌装置对批次反应容器2内的溶液进行搅拌。

优选地，在上述溶液除杂系统中，旧液储存容器1上设置有液位控制器装置和液位显示装置。当旧液储存容器1上设置的液位控制器装置检测到液位达到最高液位或最低液位时，进行报警，以提示工作人员进行相关操作。旧液储存容器1上设置的液位显示装置，用于实时显示旧液储存容器1内的溶液液位，以便于工作人员随监督溶液容量。

为更清楚起见，下面通过三个具体实施例进行详细说明。

(一)第一具体实施例

北京某半导体芯片生产项目在生产过程中产生大量的混酸，其中硫酸含量约为80％，双氧水含量约为20％。含有双氧水的废硫酸具有很强的腐蚀性和氧化性，直接用于废水处理加药，容易造成容器和管道泄漏。因此在该项目中采用上述溶液除杂系统(此处，可称为“废硫酸除双氧水系统”)和溶液除杂方法(此处，可称为“废硫酸除双氧水方法”)。

该电子半导体芯片生产项目废液处理项目中，新建上述废硫酸除双氧水系统，该系统的日处理量120t/d，处理规模设计为5t/h，处理流程参见图1。

该系统进口，用于输入含双氧水的废硫酸，双氧水含量20％。

该系统出口，双氧水含量祛除率达到95％，即处理后溶液中双氧水含量低于1％，从而令废硫酸成为可回收利用的酸液，用于废水处理系统中，节省硫酸的消耗量。

电子厂生产过程中使用的混酸，使用后作为废液排放，被收集至所述废硫酸除双氧水系统中进行处理。旧液储存容器1出水口与抽取泵8相连，经抽取泵8，将混酸提升至批次反应容器2，并经催化剂投加泵7向批次反应容器2内投加高效专用的催化剂，混酸与催化剂在批次反应容器2内发生一系列化学反应。产生大量水气混合介质，在批次反应容器2底部设计CDA搅拌装置，对水气混合介质进行搅拌，促进气态物质从介质中溢出，溢出的气体经批次反应容器2顶部的排气装置排出至气体洗涤塔，净化排放。上述混酸化学反应完成第一阶段的化学反应，在反应过程中，废硫酸的温度急剧上升，反应完成后，需要经过换热器5将废硫酸的温度降至40℃以下。为完成废硫酸的降温过程，设计了一套循环控制系统和一套板式换热器。所述批次反应容器2的出水口与输送泵9相连，经过输送泵9循环功能，将高温废硫酸输送至板式换热器热侧的进水口，热侧出水口设计温度控制器6，当温度高于40℃时，热侧出水口废硫酸回流至批次反应容器2。在批次反应容器内完成第二阶段的化学反应，并经过循环系统完成了第二次换热降温。经过第二次降温后，废硫酸的温度达到50℃以下，但是依然没有达到40℃的预设温度值。因此，废硫酸经过了第三阶段的化学反应和循环降温。三次反应和降温后，废硫酸的出口温度达到30℃，处理合格的废硫酸由输送泵9泵至新液储存容器3储存。当系统来水呈碱性时，需要投加硫酸调整PH值至中性，此时，可以直接使用处理合格的硫酸溶液。而不需要从外部重新购买硫酸化学品。

电子厂通过新建废硫酸除双氧水系统，一方面减少了废酸委外排放的量，减少了对环境的污染；另一方面，对废水处理系统而言，减少了外购化学品的用量，节省投资。

(二)第二具体实施例

成都某半导体芯片生产项目在生产过程中产生大量的混酸，其中硫酸含量约为80％，双氧水含量约为20％。含有双氧水的废硫酸具有很强的腐蚀性和氧化性，直接用于废水处理加药，容易造成容器和管道泄漏。因此在该项目中采用上述溶液除杂系统(此处，可称为“废硫酸除双氧水系统”)和溶液除杂方法(此处，可称为“废硫酸除双氧水方法”)。

该电子半导体芯片生产项目废液处理项目中，新建废硫酸除双氧水系统，该系统的日处理量100t/d，处理规模设计为4.2t/h，处理流程参见图1。

该系统进口，用于输入含双氧水的废硫酸，双氧水含量20％。

该系统出口，双氧水含量祛除率达到95％，即处理后溶液中双氧水含量低于1％，从而令废硫酸成为可回收利用的酸液，用于废水处理系统中，节省硫酸的消耗量。

电子厂生产过程中使用的混酸，使用后作为废液排放，被收集至所述废硫酸除双氧水系统中进行处理。旧液储存容器1出水口与抽取泵8相连，经抽取泵8，将混酸提升至批次反应容器2，并经催化剂投加泵7向批次反应容器2内投加高效专用的催化剂，混酸与催化剂在批次反应容器2内发生一系列化学反应。产生大量水气混合介质，在批次反应容器2底部设计CDA搅拌装置，对水气混合介质进行搅拌，促进气态物质从介质中溢出，溢出的气体经批次反应容器2顶部的排气装置排出至气体洗涤塔，净化排放。上述混酸化学反应完成第一阶段的化学反应，在反应过程中，废硫酸的温度急剧上升，反应完成后，需要经过换热器5将废硫酸的温度降至40℃以下。为完成废硫酸的降温过程，设计了一套循环控制系统和一套板式换热器。所述批次反应容器2的出水口与输送泵9相连，经过输送泵9循环功能，将高温废硫酸输送至板式换热器热侧的进水口，热侧出水口设计温度控制器6，当温度高于40℃时，热侧出水口废硫酸回流至批次反应容器2。在批次反应容器内完成第二阶段的化学反应，并经过循环系统完成了第二次换热降温。经过第二次降温后，废硫酸的温度达到55℃以下，但是依然没有达到40℃的预设温度值。因此，废硫酸经过了第三阶段的化学反应和循环降温。三次反应和降温后，废硫酸的出口温度达到35℃，处理合格的废硫酸由输送泵9泵至新液储存容器储存3。当系统来水呈碱性时，需要投加硫酸调整PH值至中性，此时，可以直接使用处理合格的硫酸溶液。而不需要从外部重新购买硫酸化学品。

电子厂通过新建废硫酸除双氧水系统，一方面减少了废酸委外排放的量，减少了对环境的污染；另一方面，对废水处理系统而言，减少了外购化学品的用量，节省投资。

(三)第三具体实施例

上海某半导体芯片生产项目在生产过程中产生大量的混酸，其中硫酸含量约为80％，双氧水含量约为20％。含有双氧水的废硫酸具有很强的腐蚀性和氧化性，直接用于废水处理加药，容易造成容器和管道泄漏。因此在该项目中采用上述溶液除杂系统(此处，可称为“废硫酸除双氧水系统”)和溶液除杂方法(此处，可称为“废硫酸除双氧水方法”)。

该电子半导体芯片生产项目废液处理项目中，新建上述废硫酸除双氧水系统，该系统的日处理量220t/d，处理规模设计为9.2t/h，处理流程参见图1。

该系统进口，用于输入含双氧水的废硫酸，双氧水含量20％。

该系统出口，双氧水含量祛除率达到95％，即处理后溶液中双氧水含量低于1％，从而令废硫酸成为可回收利用的酸液，用于废水处理系统中，节省硫酸的消耗量。

电子厂生产过程中使用的混酸，使用后作为废液排放，被收集至所述废硫酸除双氧水系统中进行处理。旧液储存容器1出水口与抽取泵8相连，经抽取泵8，将混酸提升至批次反应容器2，并经催化剂投加泵7向批次反应容器2内投加高效专用的催化剂，混酸与催化剂在批次反应容器2内发生一系列化学反应。产生大量水气混合介质，在批次反应容器2底部设计CDA搅拌装置，对水气混合介质进行搅拌，促进气态物质从介质中溢出，溢出的气体经批次反应容器2顶部的排气装置排出至气体洗涤塔，净化排放。上述混酸化学反应完成第一阶段的化学反应，在反应过程中，废硫酸的温度急剧上升，反应完成后，需要经过换热器5将废硫酸的温度降至40℃以下。为完成废硫酸的降温过程，设计了一套循环控制系统和一套板式换热器。所述批次反应容器2的出水口与输送泵9相连，经过输送泵9循环功能，将高温废硫酸输送至板式换热器热侧的进水口，热侧出水口设计温度控制器6，当温度高于40℃时，热侧出水口废硫酸回流至批次反应容器2。在批次反应容器2内完成第二阶段的化学反应，并经过循环系统完成了第二次换热降温。经过第二次降温后，废硫酸的温度达到60℃以下，但是依然没有达到40℃的预设温度值。因此，废硫酸经过了第三阶段的化学反应和循环降温。三次反应和降温后，废硫酸的出口温度达到40℃。为保证硫酸管路使用的安全性，本项目的废硫酸进行了第四次换热降温，经过第四次热交换后，废硫酸出口温度降至30℃。处理合格的硫酸溶液由输送泵9泵至新液储存容器3储存。当系统来水呈碱性时，需要投加硫酸调整PH值至中性，此时，可以直接使用处理合格的硫酸溶液。而不需要从外部重新购买硫酸化学品。

电子厂通过新建废硫酸除双氧水系统，一方面减少了废酸委外排放的量，减少了对环境的污染；另一方面，对废水处理系统而言，减少了外购化学品的用量，节省投资。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种溶液除杂方法，用于祛除待处理溶液中的杂质，其特征在于，包括：

步骤S1：通过旧液储存容器(1)储存所述待处理溶液；

步骤S2：从所述旧液储存容器(1)中抽取预设量的所述待处理溶液，送入批次反应容器(2)内进行反应，得到杂质含量不大于预设值的处理后溶液；

步骤S3：将所述批次反应容器(2)内的所述处理后溶液送入新液储存容器(3)进行储存，然后返回步骤S2。

2.根据权利要求1所述的溶液除杂方法，其特征在于，所述步骤S2包括：

步骤S21：从所述旧液储存容器(1)中抽取预设量的所述待处理溶液，送入所述批次反应容器(2)内；

步骤S22：向所述批次反应容器(2)内投放用于祛除所述杂质的化学试剂，并搅拌和冷却，得到杂质含量不大于预设值的所述处理后溶液。

3.根据权利要求2所述的溶液除杂方法，其特征在于，所述步骤S22中，

通过液位计控制送入所述批次反应容器(2)内的溶液容量；

和/或，通过CDA搅拌装置对所述批次反应容器(2)内的溶液进行搅拌；

和/或，通过换热器(5)对所述批次反应容器(2)内的溶液进行循环冷却；

和/或，通过温度控制器(6)检测所述批次反应容器(2)内的溶液是否达到预设温度，以控制所述批次反应容器(2)内的溶液是否进行冷却；

和/或，通过排气装置将反应生成的废气送入气体洗涤塔内进行处理。

4.根据权利要求1至3任一项所述的溶液除杂方法，其特征在于，所述待处理溶液为含有双氧水的硫酸溶液，所述杂质为双氧水。

5.一种溶液除杂系统，其特征在于，用于进行如权利要求1至4任一项所述的溶液除杂方法，所述的溶液除杂系统包括：

用于储存待处理溶液的旧液储存容器(1)；

为批次反应提供反应空间的批次反应容器(2)，所述旧液储存容器(1)和所述批次反应容器(2)之间通过第一管路连接，所述第一管路上设置有抽取泵(8)；

用于储存处理后溶液的新液储存容器(3)，所述批次反应容器(2)和所述新液储存容器(3)之间通过第二管路连接，所述第二管路上设置有输送泵(9)。

6.根据权利要求5所述的溶液除杂系统，其特征在于，还包括：

用于储存化学试剂的投加试剂储存容器(4)，所述化学试剂用于祛除所述待处理溶液中的杂质，所述投加试剂储存容器(4)和所述批次反应容器(2)之间通过第三管路连接，所述第三管路上设置有投加泵(7)；

和/或，用于对所述批次反应容器(2)内的溶液进行搅拌的CDA搅拌装置；

和/或，设置于所述批次反应容器(2)顶部用于将反应生成的废气送入气体洗涤塔内进行处理的排气装置；

和/或，用于对所述批次反应容器(2)内的溶液进行循环冷却的换热器(5)。

7.根据权利要求6所述的溶液除杂系统，其特征在于，所述换热器(5)的热侧出水口与所述批次反应容器(2)的回流口之间的连接管路上，设置有温度控制器(6)，用于控制所述批次反应容器(2)内的溶液是否冷却，或者通过测量温度控制其循环冷却的次数；

和/或，所述换热器(5)的热侧进水口，通过所述第二管路，与所述批次反应容器(2)的出水口连接，所述输送泵(9)位于所述换热器(5)的所述热侧进水口与所述批次反应容器(2)的所述出水口之间。

8.根据权利要求5所述的溶液除杂系统，其特征在于，所述旧液储存容器(1)上设置有液位控制器装置，和/或液位显示装置；

和/或，所述批次反应容器(2)上设置有液位计，用于计量每次注入所述批次反应容器(2)内的所述待处理溶液的容积。

9.根据权利要求5所述的溶液除杂系统，其特征在于，所述旧液储存容器(1)和/或所述新液储存容器(3)，设置有碳钢衬PTFE材质的内槽本体。

10.根据权利要求5至9任一项所述的溶液除杂系统，其特征在于，所述待处理溶液为含有双氧水的硫酸溶液，所述杂质为双氧水。