CN108761613A - 一种低红外透过率红外截止滤光片及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开的属于红外截止滤光片技术领域，具体为一种低红外透过率红外截止滤光片及其制备方法，包括基材，所述基材的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层，所述氟化镁薄膜层的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层和低折射材料镀层，该低红外透过率红外截止滤光片的制备方法的具体制备步骤如下：S1：基材表面镀氟化镁薄膜层，S2：高、低折射率材料交替镀膜，本方案重新设计红外截止滤光片的镀膜膜系，优化镀膜工艺，降低红外截止滤光片在930‑950nm波段的透过率，达到与生物识别功能产品搭配使用。

Description

一种低红外透过率红外截止滤光片及其制备方法
技术领域
本发明涉及红外截止滤光片技术领域，具体为一种低红外透过率红外截止滤光片及其制备方法。
背景技术
红外光区的透过率是衡量手机摄像头模组用红外截止滤光片光学质量的一项重要指标，尤其是与生物识别功能的配合使用的红外截止滤光片对红外光区的透过率提出更高的要求。在生物识别滤光片普遍采用的930-950nm波段，目前行业内红外截止滤光片在可见光波段的透过率要求一般在Tavg≤0.5％；Tmax≤1％，而行业内产品的实际透过率一般在Tavg≤0.03％，Tmax≤0.05％。由于生物识别用红外光波段的使用，这种透过率已经不能满足摄像头成像的要求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种低红外透过率红外截止滤光片及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的目前行业内红外截止滤光片在可见光波段的透过率要求一般在Tavg≤0.5％；Tmax≤1％，而行业内产品的实际透过率一般在Tavg≤0.03％，Tmax≤0.05％。由于生物识别用红外光波段的使用，这种透过率已经不能满足摄像头成像的要求的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种低红外透过率红外截止滤光片，包括基材，所述基材的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层，所述氟化镁薄膜层的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层和低折射材料镀层。
优选的，所述基材为蓝玻璃基材。
优选的，所述高折射材料镀层和低折射材料镀层分别为二氧化硅镀层和五氧化三钛镀层。
优选的，所述高折射材料镀层的镀层厚度为20nm-200nm。
优选的，所述低折射材料镀层的厚度为80nm-250nm。
一种低红外透过率红外截止滤光片的制备方法，该低红外透过率红外截止滤光片的制备方法的具体制备步骤如下：
S1：基材表面镀氟化镁薄膜层：在基材表面通过电子束蒸镀的方式氟化镁薄膜层，将镀膜后的基材静置待氟化镁薄膜层成型；
S2：高、低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜层后的基材上，并对镀膜后表面处理。
优选的，所述高折射率材料和低折射率材料在真空状态下进行电子束蒸镀。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本方案重新设计红外截止滤光片的镀膜膜系，优化镀膜工艺，降低红外截止滤光片在930-950nm波段的透过率，达到与生物识别功能产品搭配使用。
附图说明
图1为本发明结构示意图；
图2为本发明的制备流程图；
图3为本发明实施例的实验图。
图中：1基材、2氟化镁薄膜层、3高折射材料镀层、4低折射材料镀层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-2，本发明提供一种技术方案：一种低红外透过率红外截止滤光片，包括基材1，基材1的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层2，氟化镁薄膜层2的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层3和低折射材料镀层4。
其中，基材1为蓝玻璃基材，高折射材料镀层3和低折射材料镀层4分别为二氧化硅镀层和五氧化三钛镀层，高折射材料镀层3的镀层厚度为20nm-200nm，低折射材料镀层4的厚度为80nm-250nm。
该低红外透过率红外截止滤光片的制备方法的具体制备步骤如下：
S1：基材1表面镀氟化镁薄膜层2：在基材1表面通过电子束蒸镀的方式氟化镁薄膜层2，将镀膜后的基材1静置待氟化镁薄膜层2成型；
S2：高、低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜层2后的基材1上，高折射率材料和低折射率材料在真空状态下进行电子束蒸镀，并对镀膜后表面处理。
如图3所示，三角形端点的为在920-960nm波段内0°角度的透射光谱曲线的透过率；圆形端点的为在920-960nm波段内30°角度的透射光谱曲线的透过率。
0°实际透过率在Tavg＝0.00013％，Tmax＝0.0002％；而30°实际透过率在Tavg＝0.0002％，Tmax＝0.00039％。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种低红外透过率红外截止滤光片，包括基材(1)，其特征在于：所述基材(1)的上表面通过电子束蒸镀镀有氟化镁薄膜层(2)，所述氟化镁薄膜层(2)的上表面通过电子束蒸镀交替镀有高折射材料镀层(3)和低折射材料镀层(4)。
2.根据权利要求1所述的一种低红外透过率红外外截止滤光片，其特征在于：所述基材(1)为蓝玻璃基材。
3.根据权利要求1所述的一种低红外透过率红外外截止滤光片，其特征在于：所述高折射材料镀层(3)和低折射材料镀层(4)分别为二氧化硅镀层和五氧化三钛镀层。
4.根据权利要求1所述的一种低红外透过率红外外截止滤光片，其特征在于：所述高折射材料镀层(3)的镀层厚度为20nm-200nm。
5.根据权利要求1所述的一种低红外透过率红外外截止滤光片，其特征在于：所述低折射材料镀层(4)的厚度为80nm-250nm。
6.如权利要求1-5所述的一种低红外透过率红外截止滤光片的制备方法，其特征在于：该低红外透过率红外截止滤光片的制备方法的具体制备步骤如下：
S1：基材(1)表面镀氟化镁薄膜层(2)：在基材(1)表面通过电子束蒸镀的方式氟化镁薄膜层(2)，将镀膜后的基材(1)静置待氟化镁薄膜层(2)成型；
S2：高、低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜层(2)后的基材(1)上，并对镀膜后表面处理。
7.根据权利要求6所述的一种低红外透过率红外外截止滤光片的制备方法，其特征在于：所述高折射率材料和低折射率材料在真空状态下进行电子束蒸镀。
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