CN108711554A - 一种用于二极管制备的碱洗机 - Google Patents

一种用于二极管制备的碱洗机 Download PDF

Info

Publication number
CN108711554A
CN108711554A CN201810415988.6A CN201810415988A CN108711554A CN 108711554 A CN108711554 A CN 108711554A CN 201810415988 A CN201810415988 A CN 201810415988A CN 108711554 A CN108711554 A CN 108711554A
Authority
CN
China
Prior art keywords
sink
alkaline cleaner
holder
alkaline
diode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810415988.6A
Other languages
English (en)
Inventor
黄发良
黄祥旺
陈振威
黄志和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HUANGSHAN HONGTAI ELECTRONIC Co Ltd
Original Assignee
HUANGSHAN HONGTAI ELECTRONIC Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HUANGSHAN HONGTAI ELECTRONIC Co Ltd filed Critical HUANGSHAN HONGTAI ELECTRONIC Co Ltd
Priority to CN201810415988.6A priority Critical patent/CN108711554A/zh
Publication of CN108711554A publication Critical patent/CN108711554A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels

Abstract

本发明公开了一种用于二极管制备的碱洗机，包括支架，设置在支架上的一组可拆卸的水槽，支架上对应各水槽设置有进水管，水槽的底部设置排水口，支架的底部位于排水口的下方设置有集水槽；支架位于水槽的上方设置有滑轨，滑轨上设置有可延其滑动的用于盛放产品的碱洗装置，支架还设置有用于驱动碱洗装置沿滑轨移动的横向驱动机构及用于驱动碱洗装置上升下降的纵向驱动机构。本发明能够有效解决传统的碱洗工序中，整个工序过程比较繁复，同时需要耗费很高的人力物力，在碱洗的过程中，对各种参数的控制也不容易把握的问题。

Description

一种用于二极管制备的碱洗机
技术领域
本发明涉及一种用于二极管制备的碱洗机。
背景技术
现有的二极管制备过程中，碱洗程序通常都是通过将产品放在单独的一个盆子里或池子里进行碱洗，然后再捞出来进行清洗及沥干工序，整个工序过程比较繁复，同时需要耗费很高的人力物力，再碱洗的过程中，对各种参数的控制也不容易把握。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于二极管制备的碱洗机，解决现有的二极管在碱洗过程中，因为没有成套的设备或者设备的结构不够合理，存在着操作不够简便、自动化程度低、效率低下、人工成本低的问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于二极管制备的碱洗机，包括支架，设置在支架上的一组可拆卸的水槽，支架上对应各水槽设置有进水管，水槽的底部设置排水口，支架的底部位于排水口的下方设置有集水槽；支架位于水槽的上方设置有滑轨，滑轨上设置有可延其滑动的用于盛放产品的碱洗装置，支架还设置有用于驱动碱洗装置沿滑轨移动的横向驱动机构及用于驱动碱洗装置上升下降的纵向驱动机构。
进一步的，纵向驱动机构包括设置在支架上的纵向驱动气缸，纵向驱动气缸的活塞部和碱洗装置联接用于带动碱洗装置移入、移出水槽，并在水槽内上、下反复运动。
进一步的，水槽每三个一组，每组水槽对应一台碱洗装置，每组水槽按碱洗顺序依次包括碱洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽、热水清洗槽。
进一步的，碱洗装置包括背板及设置在背板底部的料框，料框内放置有可提出的料盘，料盘的底部呈网状。
进一步的，碱洗槽和热水清洗槽的底部均设置有加热盘管。
进一步的，碱洗槽和热水清洗槽内还分别设置有水深检测装置、温度检测仪，碱洗槽内还设置有酸碱度检测装置。
为了提高结构的合理性，提高工作的效率，同时当其中一种水槽出现问题能够正常生产的目的，水槽设置有两组，共设置七个水槽，按碱洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽、热水清洗槽、碱洗槽的顺序依次排列，两组水槽共用一个位于中间位置的热水清洗槽。
进一步的，集水槽对应各水槽分别设置有一个，其位于各水槽排水口的下方，支架对应集水槽位置设置有集水槽进出口。
进一步的，支架上还设置有一组和水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪相对应的显示装置。
进一步的，还包括控制装置，设置在进水管、加热盘管上的电磁阀，控制装置和纵向驱动装置、横向驱动机构、电磁阀、水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪联接。
本发明的有益效果：通过一组多个水槽、碱洗装置、滑轨、横向驱动机构、纵向驱动装置的相互配合，实现碱洗装置的自动化移动，进而提高碱洗的自动化程度。控制装置、纵向驱动装置、横向驱动机构、电磁阀、水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪、显示仪表的相互配合，实现整个碱洗机的高度自动化程度，便于水温、酸碱度、水位等参数的控制，同时能够将相关数据信息通过显示仪表显示出来，便于操作人员进行观察。能够有效解决传统的碱洗工序中，整个工序过程比较繁复，同时需要耗费很高的人力物力，在碱洗的过程中，对各种参数的控制也不容易把握的问题。
以下将结合附图和实施例，对本发明进行较为详细的说明。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
实施例，如图1所示一种用于二极管制备的碱洗机，包括支架1，设置在支架1上的一组可拆卸的水槽，支架1上对应各水槽设置有进水管，水槽的底部设置排水口，支架1的底部位于排水口的下方设置有集水槽2；支架1位于水槽的上方设置有滑轨3，滑轨3上设置有可延其滑动的用于盛放产品的碱洗装置，支架1还设置有用于驱动碱洗装置沿滑轨3移动的横向驱动机构7及用于驱动碱洗装置上升下降的纵向驱动机构。
纵向驱动机构包括设置在支架1上的纵向驱动气缸，纵向驱动气缸的活塞部和碱洗装置联接用于带动碱洗装置移入、移出水槽，并在水槽内上、下反复运动。
水槽每三个一组，每组水槽对应一台碱洗装置，每组水槽按碱洗顺序依次包括碱洗槽4、热水清洗槽5、冷水清洗槽6、热水清洗槽5。碱洗装置包括背板及设置在背板底部的料框8，料框8内放置有可提出的料盘，料盘的底部呈网状。料框8呈方形，料盘为和料框8适配的方形结构，其可放置在料框8上，同时料盘的左右两侧分别设置有提手，便于将料盘提出。
碱洗槽4和热水清洗槽5的底部均设置有加热盘管。碱洗槽4和热水清洗槽5内还分别设置有水深检测装置、温度检测仪，碱洗槽4内还设置有酸碱度检测装置。
水槽设置有两组，共设置七个水槽，按碱洗槽4、热水清洗槽5、冷水清洗槽6、热水清洗槽5、冷水清洗槽6、热水清洗槽5、碱洗槽4的顺序依次排列，两组水槽共用一个位于中间位置的热水清洗槽5。
集水槽2对应各水槽分别设置有一个，其位于各水槽排水口的下方，支架1对应集水槽2位置设置有集水槽2进出口。支架1上还设置有一组和水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪相对应的显示装置。
本用于二极管制备的碱洗机还包括控制装置，设置在进水管、加热盘管上的电磁阀，控制装置和纵向驱动装置、横向驱动机构7、电磁阀、水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪联接。
工作原理：将产品放入料盘内，然后将料盘放置在料框上，启动本碱洗机，横向驱动机构带动碱洗装置移动至碱洗槽的上方，然后纵向驱动机构驱动碱洗装置下移至碱洗槽内，此时，纵向驱动机构带动碱洗装置在碱洗槽中上下运动，通过上下震动的方式以达到碱洗的目的。达到设定的上下运动次数后，纵向驱动机构带动碱洗装置上移，使碱洗装置自碱洗槽移出，然后横向驱动机构带动碱洗装置横向移动至热水清洗槽的上方，重复如碱洗槽中的动作，达到热水清洗的目的，之后冷水清洗槽、热水清洗槽的动作类似。
以上结合附图对本发明进行了示例性描述。显然，本发明具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进；或未经改进，将本发明的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：包括支架，设置在支架上的一组可拆卸的水槽，支架上对应各水槽设置有进水管，水槽的底部设置排水口，支架的底部位于排水口的下方设置有集水槽；支架位于水槽的上方设置有滑轨，滑轨上设置有可延其滑动的用于盛放产品的碱洗装置，支架还设置有用于驱动碱洗装置沿滑轨移动的横向驱动机构及用于驱动碱洗装置上升下降的纵向驱动机构。
2.根据权利要求1所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：纵向驱动机构包括设置在支架上的纵向驱动气缸，纵向驱动气缸的活塞部和碱洗装置联接用于带动碱洗装置移入、移出水槽，并在水槽内上、下反复运动。
3.根据权利要求1所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：水槽每三个一组，每组水槽对应一台碱洗装置，每组水槽按碱洗顺序依次包括碱洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽、热水清洗槽。
4.根据权利要求1所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：碱洗装置包括背板及设置在背板底部的料框，料框内放置有可提出的料盘，料盘的底部呈网状。
5.根据权利要求2所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：碱洗槽和热水清洗槽的底部均设置有加热盘管。
6.根据权利要求2所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：碱洗槽和热水清洗槽内还分别设置有水深检测装置、温度检测仪，碱洗槽内还设置有酸碱度检测装置。
7.根据权利要求2所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：水槽设置有两组，共设置七个水槽，按碱洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽、热水清洗槽、碱洗槽的顺序依次排列，两组水槽共用一个位于中间位置的热水清洗槽。
8.根据权利要求1所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：集水槽对应各水槽分别设置有一个，其位于各水槽排水口的下方，支架对应集水槽位置设置有集水槽进出口。
9.根据权利要求4所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：支架上还设置有一组和水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪相对应的显示装置。
10.根据权利要求7所述的用于二极管制备的碱洗机，其特征在于：还包括控制装置，设置在进水管、加热盘管上的电磁阀，控制装置和纵向驱动装置、横向驱动机构、电磁阀、水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪联接。
CN201810415988.6A 2018-05-03 2018-05-03 一种用于二极管制备的碱洗机 Pending CN108711554A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810415988.6A CN108711554A (zh) 2018-05-03 2018-05-03 一种用于二极管制备的碱洗机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810415988.6A CN108711554A (zh) 2018-05-03 2018-05-03 一种用于二极管制备的碱洗机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108711554A true CN108711554A (zh) 2018-10-26

Family

ID=63867754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810415988.6A Pending CN108711554A (zh) 2018-05-03 2018-05-03 一种用于二极管制备的碱洗机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108711554A (zh)

Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0721166U (ja) * 1993-04-02 1995-04-18 再生 ▲しょお▼ 水洗式洗浄装置
CN202146884U (zh) * 2011-05-27 2012-02-22 江西旭阳雷迪高科技股份有限公司 一种连续超声波清洗装置
KR20120083806A (ko) * 2011-01-18 2012-07-26 주식회사 루미스탈 수소화물 기상 성장법에 있어서 발생되는 부산물 처리 방법 및 장치
CN102861734A (zh) * 2012-10-17 2013-01-09 如皋市大昌电子有限公司 一种二极管自动化清洗装置
CN202683520U (zh) * 2012-07-18 2013-01-23 福建仙洋洋食品科技有限公司 一种茶叶精深加工中的车间整体设备全自动清洗装置
CN202823983U (zh) * 2012-08-08 2013-03-27 晶海洋半导体材料（东海）有限公司 一种多槽循环硅片清洗机
CN203144526U (zh) * 2013-03-26 2013-08-21 葛勇智 节水型碱洗清洗系统
CN203508472U (zh) * 2013-08-09 2014-04-02 刘军 二极管表面清洗装置
KR101445778B1 (ko) * 2014-02-19 2014-10-06 주식회사 용우산업 자동 세척 탈지장치
CN204311139U (zh) * 2014-11-20 2015-05-06 黄山天马铝业有限公司 一种亲水铝箔生产线脱脂清洗装置
CN104730612A (zh) * 2015-03-24 2015-06-24 浙江嘉亮光学科技有限公司 一种偏光镜片的卷材制备工艺
CN204490992U (zh) * 2015-01-28 2015-07-22 栾善东 批量器件连续化学镀全自动生产线
CN105957822A (zh) * 2016-06-22 2016-09-21 贵州雅光电子科技股份有限公司 一种二极管自动清洗系统及清洗方法
CN106098537A (zh) * 2016-08-19 2016-11-09 南通皋鑫电子股份有限公司 高压二极管镀镍硅片前处理清洗方法
CN106391554A (zh) * 2016-11-08 2017-02-15 镇江东艺机械有限公司 一种刀片清洗装置
CN106449358A (zh) * 2016-07-07 2017-02-22 如皋市大昌电子有限公司 一种二极管的制备工艺
CN107301949A (zh) * 2017-07-17 2017-10-27 中国振华集团永光电子有限公司（国营第八七三厂） 一种采用钨电极制造高可靠瞬态电压抑制二极管的制造方法
CN107805820A (zh) * 2017-11-30 2018-03-16 浙江新瑞欣精密线锯有限公司 一种线锯镀前清洗装置
CN208077945U (zh) * 2018-05-03 2018-11-09 黄山市弘泰电子有限公司 一种用于二极管制备的碱洗机

Patent Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0721166U (ja) * 1993-04-02 1995-04-18 再生 ▲しょお▼ 水洗式洗浄装置
KR20120083806A (ko) * 2011-01-18 2012-07-26 주식회사 루미스탈 수소화물 기상 성장법에 있어서 발생되는 부산물 처리 방법 및 장치
CN202146884U (zh) * 2011-05-27 2012-02-22 江西旭阳雷迪高科技股份有限公司 一种连续超声波清洗装置
CN202683520U (zh) * 2012-07-18 2013-01-23 福建仙洋洋食品科技有限公司 一种茶叶精深加工中的车间整体设备全自动清洗装置
CN202823983U (zh) * 2012-08-08 2013-03-27 晶海洋半导体材料（东海）有限公司 一种多槽循环硅片清洗机
CN102861734A (zh) * 2012-10-17 2013-01-09 如皋市大昌电子有限公司 一种二极管自动化清洗装置
CN203144526U (zh) * 2013-03-26 2013-08-21 葛勇智 节水型碱洗清洗系统
CN203508472U (zh) * 2013-08-09 2014-04-02 刘军 二极管表面清洗装置
KR101445778B1 (ko) * 2014-02-19 2014-10-06 주식회사 용우산업 자동 세척 탈지장치
CN204311139U (zh) * 2014-11-20 2015-05-06 黄山天马铝业有限公司 一种亲水铝箔生产线脱脂清洗装置
CN204490992U (zh) * 2015-01-28 2015-07-22 栾善东 批量器件连续化学镀全自动生产线
CN104730612A (zh) * 2015-03-24 2015-06-24 浙江嘉亮光学科技有限公司 一种偏光镜片的卷材制备工艺
CN105957822A (zh) * 2016-06-22 2016-09-21 贵州雅光电子科技股份有限公司 一种二极管自动清洗系统及清洗方法
CN106449358A (zh) * 2016-07-07 2017-02-22 如皋市大昌电子有限公司 一种二极管的制备工艺
CN106098537A (zh) * 2016-08-19 2016-11-09 南通皋鑫电子股份有限公司 高压二极管镀镍硅片前处理清洗方法
CN106391554A (zh) * 2016-11-08 2017-02-15 镇江东艺机械有限公司 一种刀片清洗装置
CN107301949A (zh) * 2017-07-17 2017-10-27 中国振华集团永光电子有限公司（国营第八七三厂） 一种采用钨电极制造高可靠瞬态电压抑制二极管的制造方法
CN107805820A (zh) * 2017-11-30 2018-03-16 浙江新瑞欣精密线锯有限公司 一种线锯镀前清洗装置
CN208077945U (zh) * 2018-05-03 2018-11-09 黄山市弘泰电子有限公司 一种用于二极管制备的碱洗机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN203917324U (zh) 一种试管清洁装置
CN107414649B (zh) 一种金属管除锈一体机
CN208077945U (zh) 一种用于二极管制备的碱洗机
CN109174869A (zh) 一种用于多个实验试管同时清洗的刷洗装置
CN208903979U (zh) 一种化学机械抛光设备用清洗烘干一体化装置
CN204146984U (zh) 一种超声波餐具洗净消毒一体机
CN206699076U (zh) 一种畜牧用自清型饲养槽
CN203388820U (zh) 自助餐具回收洗净设备
CN108711554A (zh) 一种用于二极管制备的碱洗机
CN106955164A (zh) 一种医用器具自动清洗装置
CN206380570U (zh) 一种肉制品加工工作台
CN109106304A (zh) 中式环保型微气泡洗碗机
CN105903704B (zh) 一种配有双清洗头的洗板机
CN107716498A (zh) 一种试管清洗烘干系统
CN209520605U (zh) 一种电气自动化加工平台
CN208555290U (zh) 一种药物临床试验用超声清洗仪
CN206325914U (zh) 化学实验用试管清洗烘干装置
CN209136905U (zh) 一种耳科用手术刀清洗消毒装置
CN107773191A (zh) 一种智能多角度洗碗机
CN208463992U (zh) 一种智能多角度洗碗机
CN109225985A (zh) 一种螺母清洗机
CN108715806A (zh) 用于培养干细胞所需组织块的自动清洗设备
CN109047172A (zh) 一种医用超声波清洗机
CN108420362A (zh) 一种桌椅表面污垢清理装置
CN210023063U (zh) 一种消毒供应中心用洗涤盆

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination