CN108686884A - 涂布装置和涂布膜的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。涂布装置包括：涂布辊，其在外周面具有凹部；以及供给部，其向所述涂布辊的外周面供给所述涂布液，该涂布装置构成为，通过使所述涂布辊以所述外周面向与被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，所述涂布辊的外径为60mm～80mm，所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。

Description

涂布装置和涂布膜的制造方法
技术领域
本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。
背景技术
以往，作为涂布装置，例如，公知有一种凹版涂布装置，该凹版涂布装置包括用于向片构件等被涂布物涂布涂布液而形成涂布膜的涂布辊。
这种凹版涂布装置包括：圆柱状的涂布辊，其在外周面具有凹部；以及供给部，其向涂布辊的外周面供给涂布液。该凹版涂布装置构成为，通过使被向涂布辊的外周面供给的涂布液与被涂布物接触同时使涂布辊旋转，从而将涂布液连续地涂布于被涂布物。
在该凹版涂布装置中，供给的涂布液进入涂布辊的外周面的凹部，使外周面的一部分与被涂布物接触同时使涂布辊旋转。由此，与被涂布物相接触的外周部的涂布液被涂布到被涂布物上。另外，在该凹版涂布装置中，涂布液自涂布辊的外周面转印并涂布到被涂布物上，使涂布辊进一步旋转。并且，自供给部向在凹部内出现空隙的外周面供给涂布液。
作为这样的涂布装置，提出一种包括具有45mm～150mm的外径的涂布辊的涂布装置。采用该涂布装置，涂布辊的外径较小，与此对应地，在自涂布液被向涂布辊的凹部供给到涂布液被转印至被涂布物为止的期间内，涂布液暴露在外部空气中的时间变短。由此，即使在使用容易干燥的涂布液的情况下，也能够抑制涂布性能的降低(参照专利文献1)。
另外，作为上述那样的涂布装置，提出如下一种涂布装置，其包括具有40mm～55mm的外径的涂布辊和向该涂布辊的凹部供给涂布液的供给部，该供给部具有：刮刀，其在涂布辊的旋转方向下游侧密封涂布液且将附着于涂布辊的多余的涂布液去除；以及密封板，其在涂布辊的旋转方向上游侧密封涂布液。采用该涂布装置，即使涂布辊的外径较小，也能够利用涂布辊将涂布液均匀地涂布在被涂布物上(参照专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014－226637号公报
专利文献2：日本特开2002－186888号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是，在专利文献1、2所记载的涂布装置中，存在已涂布的涂布液(即涂布膜)产生条纹、不均匀这样涂布不良的情况，很难说能够充分且稳定地进行涂布。另外，当欲抑制该涂布不良时，需要在较小的范围内设定涂布条件。
另一方面，存在在被涂布物被输送至涂布辊的期间在该被涂布物附着有异物的情况，当如此以附着有异物的状态进行涂布时，异物会混入到涂布液中，从而得到品质降低的涂布物。因此，希望去除这样的异物。
本发明的课题在于，鉴于上述情况而提供能够一边抑制涂布不良一边将涂布液涂布于被涂布物、并且还能够通过涂布来去除异物的涂布装置和涂布膜的制造方法。
用于解决问题的方案
为了解决上述课题，本发明的发明者们进行了潜心研究，结果发现，在凹版涂布中，空气被卷进被涂布物上的涂布液(涂膜)与涂布辊上的涂布液(涂膜)之间(涂布辊上的涂布液即将被转印到被涂布物上的那一侧)或者被涂布物与涂布辊之间(涂布辊上的涂布液刚被转印到被涂布物上的那一侧)(参照图3)。并且，随着涂布辊的旋转速度的值(大小)与被涂布物的移动速度的值(大小)的差变大，被卷进的空气的量增加，成为被涂布物相对于涂布辊上浮的状态，从而在涂布辊与被涂布物之间未形成有涂布液的液珠，其结果，发现产生了涂布不良。
另外，在涂布辊的外径比较大的情况下，发现了，若不使涂布辊的旋转速度的值(大小)相对于被涂布物的移动速度的值(大小)的差的数值范围比较小，则在涂布辊上的涂布液向被涂布物转印时，难以抑制上述那样被卷进的空气的量，液珠的充分的形成受到阻碍，存在产生涂布不良的倾向。另一方面，在涂布辊比较小的情况下，发现了，即使上述差的数值范围比较大，也能够抑制上述那样被卷进的空气的量，充分地形成液珠，具有能够抑制产生涂布不良的倾向。
并且，在涂布辊的外径为60mm～80mm的情况下，发现了，即使上述差为0m/每分钟～60m/每分钟这样较大的范围，也能够抑制涂布液夹带空气，从而能够抑制涂布不良。
并且，在涂布辊的外径和上述速度的差为上述范围的情况下，利用涂布液在被涂布物上充分地形成液珠，抑制被涂布物上浮，因此被涂布物和涂布液充分地接触。另外，发现了，在该接触时，因涂布辊与被涂布物之间的速度差而在被涂布物与涂布液之间产生摩擦。即使异物附着在被涂布前的被涂布物的要被涂布的那一侧的面上，也能够利用该摩擦来去除该异物，从而完成了本发明。
即，本发明提供一种涂布装置，其中，该涂布装置包括：涂布辊，其向相对地移动的被涂布物涂布涂布液，在该涂布辊的外周面具有凹部；以及供给部，其具有腔室，并向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液，该涂布装置构成为，通过使所述涂布辊以所述外周面向与所述被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，所述涂布辊的外径为60mm～80mm，所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。
在此，涂布辊的旋转速度指的是涂布辊的外周面的移动速度(周速)。
在上述结构的涂布装置中，也可以是，所述被涂布物的移动方向上的比被所述涂布液涂布的位置靠下游侧的所述被涂布物的张力为50N/m～1000N/m。
在上述结构的涂布装置中，也可以是，所述被涂布物的厚度为10μm～70μm。
在上述结构的涂布装置中，也可以是，所述涂布液的粘度为0.5mPa·s～50mPa·s。
本发明提供一种涂布膜的制造方法，其中，该涂布膜的制造方法包括涂布工序，在该涂布工序中，通过使用于向相对地移动的被涂布物涂布涂布液且在外周面具有凹部的涂布辊以所述外周面向与所述被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，所述涂布工序具有供给工序，在该供给工序中，使用具有腔室的、用于向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液的供给部来向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液，所述涂布辊的外径为60mm～80mm，使所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。
在此，与上述同样地，涂布辊的旋转速度指的是涂布辊的外周面的移动速度(周速)。
附图说明
图1是概略地表示将本发明的一实施方式的涂布装置沿与涂布辊的旋转轴垂直的方向剖切而得到的剖面的剖视图。
图2是放大并概略地表示在本实施方式中使用的涂布辊的凹部局部的剖视图。
图3是示意性表示空气被卷进被涂布物与涂布辊之间的状态的图。
图4是表示在使用外径50mm的涂布辊时的、涂布辊的旋转速度相对于被涂布物的移动速度的差与异物的去除率之间的关系的图表。
图5是表示在使用外径60mm的涂布辊时的、涂布辊的旋转速度相对于被涂布物的移动速度的差与异物的去除率之间的关系的图表。
图6是表示在使用外径80mm的涂布辊时的、涂布辊的旋转速度相对于被涂布物的移动速度的差与异物的去除率之间的关系的图表。
图7是表示在使用外径90mm的涂布辊时的、涂布辊的旋转速度相对于被涂布物的移动速度的差与异物的去除率之间的关系的图表。
图8是表示涂布液的粘度与异物的去除率之间的关系的图表。
附图标记说明
1、涂布装置；2、涂布辊；2a、凹部；2b、周围面部；3、供给部；3a、腔室；3b、流入路径；3c、流出路径；3d、循环用罐；6、第1刮板构件；8、第2刮板构件；30、涂布液；40、涂布膜；50、被涂布物(片构件)。
具体实施方式
以下，参照附图说明本发明的实施方式的涂布装置。在本实施方式中，说明作为被涂布物50而采用了片构件50的例子，但被涂布物50并不限定于片构件50。
如图1、图2所示，本实施方式的涂布装置1包括：涂布辊2，其向被涂布物50涂布涂布液30而形成涂布膜40，在该涂布辊2的外周面具有凹部2a；以及供给部3，其具有腔室，并向涂布辊2的外周面的至少凹部2a供给腔室内的涂布液30。
本实施方式的涂布装置1构成为，通过使涂布辊2向与被涂布物50的移动方向相反的方向旋转同时使被向凹部2a供给的涂布液30与被涂布物50接触，从而将涂布液30涂布于被涂布物50而形成涂布膜40。具有上述那样的涂布辊2的涂布装置1通常被称作凹版涂布装置。
另外，在本实施方式的涂布装置1中，供给部3在涂布辊2的旋转方向下游侧包括第1刮板构件6，该第1刮板构件6将被向涂布辊2的外周面供给的涂布液30中的位于凹部2a外的涂布液30去除。
并且，在本实施方式的涂布装置1中，供给部3在涂布辊2的旋转方向上游侧包括第2刮板构件8，该第2刮板构件8以不使涂布液30自供给部3泄漏的方式进行密封。
本实施方式的涂布装置1构成为，利用供给部3将涂布液30向涂布辊2的外周面供给，并利用第1刮板构件6将被向外周面供给的涂布液30中的位于凹部2a外的涂布液30去除。另外，本实施方式的涂布装置1构成为，使片构件50相对于供给部3向规定方向相对地移动。另外，本实施方式的涂布装置1构成为，一边使涂布辊2向一方向旋转，一边使被向涂布辊2的外周面供给的涂布液30的一部分与作为被涂布物50的片构件50接触同时将凹部2a内的涂布液30连续地涂布于片构件50。另外，涂布辊2的旋转方向(即，涂布辊2的外周面的移动方向)和片构件50的移动方向在涂布部分处成为相反方向。
通常，所述涂布液30在被涂布于片构件50之后在该片构件50上固化而成为涂布膜40。作为涂布液30，列举出例如含有可固化的聚合物材料的溶液。作为可固化的聚合物材料，可列举出热固性材料、紫外线固性材料、电子射线固性材料等。其中，上述聚合物材料优选为紫外线固性材料。
此外，涂布包含印刷、涂膜。
所述涂布液30的粘度并未特别限定，但优选为0.5mPa·s～50mPa·s，更优选为10mPa·s～50mPa·s。
通过使涂布液30的粘度为0.5mPa·s～50mPa·s，能够进一步抑制涂布液30夹带空气。由此，能够在片构件50与涂布辊2之间更充分地形成涂布液30的液珠，因此能够进一步抑制涂布不良，另外，能够进一步去除异物。
此外，涂布液30的粘度是使用流变仪(型号RS1、HAAKE公司制造)在20℃且剪切速度1(1/s)的条件下测量出的值。
片构件50通常形成为带状。作为片构件50，可列举出例如树脂薄膜。
所述片构件50的宽度通常短于涂布辊2的旋转轴方向上的长度。
片构件50的厚度并未特别限定，但例如为5μm～80μm左右，优选为10μm～70μm。
所述涂布辊2形成为圆柱状。涂布辊2构成为以圆柱轴为旋转轴进行旋转。
所述涂布辊2以使被向外周面供给的涂布液30的一部分与片构件50的一部分相接触的方式配置。并且，涂布辊2以通过至少旋转1周使外周面上的涂布液沿着周向与片构件50相接触的方式构成。
所述涂布辊2的外周面具有自圆柱状的涂布辊2的圆柱轴方向上的一侧观察沿着圆周配置的周围面部2b和比周围面部2b向内侧凹陷的凹部2a。
所述凹部2a在涂布辊2的外周面形成有多个。另外，在涂布辊2的整个外周面上形成有许多凹部2a。
在本实施方式的涂布装置1中，凹部2a的图案形状并未特别限定，作为该图案形状，可列举出例如线状(不相互交叉(例如平行的多个线状的槽)或蜂窝状(相互交叉的多个线状的槽)等。
另外，该线状或蜂窝状的凹部2a也可以形成为100线/每英寸～2500线/每英寸。
涂布辊2的外径为60mm～80mm。此外，该外径是涂布辊2的最外周的直径。
通过使涂布辊2的外径为60mm～80mm，且与涂布辊2的旋转速度Vr相对于片构件50的移动速度Vm的差(Vr－Vm)为0m/每分钟～60m/每分钟相结合，能够抑制涂布液30随着涂布辊2的旋转而以夹带空气的状态接触于片构件50。由此，能够抑制在空气被夹在涂布液30与片构件50之间的同时涂布液30被涂布于片构件50，因此能够在涂布辊2与片构件50之间形成充分的涂布液30的液珠。
涂布辊2的长度方向上的长度(宽度)并未特别限定，但例如为500mm～2500mm。
涂布辊2的旋转速度的值(大小)Vr与片构件50的移动速度的值(大小)Vm的差是自涂布辊2的旋转速度的值(绝对值)Vr减去片构件50的速度的值(绝对值)Vm而得到的差，该差是0m/每分钟～60m/每分钟(V＝Vr－Vm)。此外，涂布辊2的旋转速度Vr是涂布辊2的外周面的移动速度(周速)。
通过使上述差V为0m/每分钟～60m/每分钟，且与涂布辊2的外径为60mm～80mm相结合，能够抑制随着片构件50的移动和涂布辊2的旋转而卷进片构件50上的涂布液30(涂膜)与涂布辊2上的涂布液30(涂膜)之间或片构件50与涂布辊2之间的空气(参照图3)的量，使涂布辊2与片构件50之间的接触状态(位置关系)稳定。这样，能够抑制涂布液30在卷进不需要的空气的同时被涂布于片构件50，因此能够在涂布辊2与片构件50之间形成充分的涂布液30的液珠。
片构件50的移动速度为例如5m/每分钟～100m/每分钟。片构件50利用例如输送装置(未图示)等进行输送，在该情况下，输送速度相当于移动速度。
本实施方式的涂布装置1构成为将片构件50按压于涂布辊2的外周面。
在本实施方式的涂布装置1中，片构件50的张力并未特别限定。例如，对于片构件50的张力，片构件50的移动方向上的比被涂布液30涂布的位置靠下游侧的片构件的张力优选为50N/m～1000N/m，更优选为100N/m～500N/m。
通过使上述下游侧的片构件50的张力为50N/m～1000N/m，能够进一步抑制涂布液30夹带空气。由此，能够更充分地在片构件50与涂布辊2之间形成涂布液30的液珠，因此能够进一步抑制涂布不良，另外，能够进一步去除异物。
所述供给部3具有：腔室3a，其将储存于内部的涂布液30向涂布辊2的外周面供给；流入路径3b，其使涂布液30流入腔室3a；流出路径3c，其使涂布液30自腔室3a流出；以及循环用罐3d，其将经由流出路径3c流出的涂布液30输送至流入路径3b而使涂布液30循环。
所述腔室3a构成为向涂布辊2的外周面供给涂布液30。
所述腔室3a形成为涂布液30的供给前侧开口的中空形状，该开口被涂布辊2堵塞。所述腔室3a构成为，利用涂布液30来填充内部空间同时自上述开口向涂布辊2的外周面供给涂布液30。即，所述腔室3a通常被称作封闭腔。
所述腔室3a配置于比在片构件50涂布有涂布液30的部分靠后方侧的位置。另外，腔室3a以上述开口沿着涂布辊2的外周面的方式配置。
所述腔室3a构成为储存自流入路径3b流入的涂布液30。另外，为了不使涂布液30漏出，腔室3a在与涂布辊2的外周面靠近的部分具有第2刮板构件8。腔室3a构成为，利用第2刮板构件8来抑制涂布液30漏出且将储存于内部的涂布液30的一部分向涂布辊2的外周面供给。
所述流入路径3b的一侧与循环用罐3d相连，另一侧与腔室3a相连。流入路径3b具有用于输送涂布液30的泵P。流入路径3b构成为，将通过泵P输送的涂布液30自循环用罐3d输送至腔室3a。
作为所述泵P，可列举出例如齿轮泵、隔膜泵、柱塞泵、螺旋泵这样的以往公知的泵。
所述流出路径3c的一侧与腔室3a相连，另一侧与循环用罐3d相连。流出路径3c构成为，将涂布液30自腔室3a向循环用罐3d输送。
所述循环用罐3d构成为，暂时储存经由流出路径3c输送过来的涂布液30。
所述供给部3构成为，将自流入路径3b流入的涂布液30储存于腔室3a并将储存的涂布液30的一部分向涂布辊2的外周面供给。另外，所述供给部3构成为，将在腔室3a中未向涂布辊2的外周面供给的涂布液30经由流出路径3c向循环用罐3d输送。这样，供给部3构成为，使涂布液30循环同时将循环过来的涂布液30的一部分向涂布辊2的外周面供给。
所述第1刮板构件6配置于腔室3a的在涂布辊2的旋转方向上的最前方侧。第1刮板构件6通常形成为板状。第1刮板构件6以至少一部分与涂布辊2的外周面的周围面部2b接触的方式配置。
第1刮板构件6构成为，利用上述接触部分将附着于涂布辊2的外周面的周围面部2b的涂布液30去掉，而留下凹部2a内的涂布液30。
作为第1刮板构件6，可列举出例如刮刀。
本实施方式的涂布装置1构成为，以将利用第1刮板构件6而残留于涂布辊2的外周面的凹部2a的涂布液30转印到片构件50的方式进行涂布。
在本实施方式的涂布装置1中，被涂布于片构件50的涂布液30的厚度也可以为0.1μm～10μm。
接下来，说明本发明的涂布膜的制造方法的一实施方式。本实施方式的涂布膜40的制造方法通过使用上述涂布装置1来实施。
本实施方式的涂布膜的制造方法包括涂布工序，在该涂布工序中，通过使用于向相对地移动的被涂布物(在此，为例如片构件)50涂布涂布液30且在外周面具有凹部2a的涂布辊2以所述外周面向与被涂布物50的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部2a供给的涂布液30与所述被涂布物50接触，从而将所述涂布液30涂布于所述被涂布物50而制造涂布膜40。
所述涂布工序具有供给工序，在该供给工序中，使用具有腔室3a的、用于向所述涂布辊2的外周面的至少所述凹部2a供给所述腔室3a内的所述涂布液30的供给部3来向所述涂布辊2的外周面的至少所述凹部2a供给所述腔室3a内的所述涂布液30。
在本实施方式的涂布膜40的制造方法中，所述涂布辊的外径是60mm～80mm，使所述涂布辊2的旋转速度的值Vr与所述被涂布物50的移动速度的值Vm的差为0m/每分钟～60m/每分钟。此外，涂布辊2的旋转速度Vr是涂布辊2的外周面的移动速度(周速)。
在所述涂布工序中，例如，利用上述供给部3，如上述那样使涂布液30循环同时向涂布辊2的外周面的凹部2a供给涂布液30。
通过如此供给涂布液30同时使涂布辊2旋转，从而将被向涂布辊2的外周面的凹部2a供给的涂布液30涂布于被涂布物50。即，凹部2a内的涂布液30与被涂布物50接触而被转印，从而形成涂布膜40。
如上述那样，本实施方式的涂布装置1构成为，包括：涂布辊2，其用于向相对地移动的被涂布物50涂布涂布液30，且在外周面具有凹部2a；以及供给部3，其具有腔室3a，并用于向所述涂布辊2的外周面的至少所述凹部2a供给所述腔室3a内的所述涂布液30，通过使所述涂布辊2以所述外周面向与所述被涂布物50的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部2a供给的涂布液30与所述被涂布物50接触，从而将所述涂布液30涂布于所述被涂布物50，所述涂布辊2的外径为60mm～80mm，所述涂布辊2的旋转速度的值Vr与所述被涂布物50的移动速度的值Vm的差V(＝Vm－Vr)为0m/每分钟～60m/每分钟。
采用该结构，通过使涂布辊2的外径为60mm～80mm，并使涂布辊2的旋转速度的绝对值Vr相对于被涂布物50的移动速度的绝对值Vm的差V为0m/每分钟～60m/每分钟，能够抑制随着被涂布物50的移动和涂布辊2的旋转而卷进被涂布物50上的涂布液30(涂膜)与涂布辊2上的涂布液30(涂膜)之间或被涂布物50与涂布辊2之间的空气的量，使涂布辊2与被涂布物50之间的接触状态(位置关系)稳定。这样，能够抑制涂布液30在卷进不需要的空气的同时被涂布于被涂布物50，因此能够在涂布辊2与被涂布物50之间形成充分的涂布液30的液珠，通过形成该液珠，能够抑制上述不需要的空气的卷进所引起的涂布不良。
另外，通过在充分地形成有上述液珠的状态下使被涂布物50和涂布辊2向彼此相反的方向移动，能够使被涂布物50与涂布液30之间产生摩擦，能够利用该摩擦将附着于被涂布物50的异物去除。
因而，能够一边抑制涂布不良一边将涂布液30涂布于被涂布物50，并且还能够通过涂布来去除异物。
在本实施方式的涂布装置1中，所述被涂布物50的移动方向上的比被所述涂布液30涂布的位置靠下游侧的所述被涂布物50的张力优选为50N/m～1000N/m。
通过使上述下游侧的被涂布物50的张力为50N/m～1000N/m，能够进一步抑制上述涂布液30夹带空气。由此，能够更充分地形成上述液珠，因此能够进一步抑制涂布不良，另外，能够进一步去除异物。
在本实施方式的涂布装置1中，所述被涂布物50的厚度也可以为10μm～70μm。
通过使被涂布物的厚度为10μm～70μm，能够进一步抑制上述涂布液夹带空气。由此，能够更充分地形成上述液珠，因此能够进一步抑制涂布不良，另外，能够进一步去除异物。
在本实施方式的涂布装置1中，所述涂布液30的粘度也可以为0.5mPa·s～50mPa·s。
通过使涂布液30的粘度为0.5mPa·s～50mPa·s，能够进一步抑制上述涂布液30夹带空气。由此，能够更充分地形成上述液珠，因此能够进一步抑制涂布不良，另外，能够进一步去除异物。
在本实施方式的涂布装置1中，所述凹部2a也可以以成为100线/每英寸～2500线/每英寸的方式形成为线状或蜂窝状。
在本实施方式的涂布装置1中，被涂布到所述被涂布物50的所述涂布液30的厚度也可以为0.1μm～10μm。
在本实施方式的涂布装置1中，所述涂布液30也可以包含紫外线固化树脂。
本实施方式的涂布膜40的制造方法包括涂布工序，在该涂布工序中，通过使用于向相对地移动的被涂布物50涂布涂布液30且在外周面具有凹部2a的涂布辊2以所述外周面向与所述被涂布物50的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部2a供给的涂布液30与所述被涂布物50接触，从而将所述涂布液30涂布于所述被涂布物50而形成涂布膜40，所述涂布工序具有供给工序，在该供给工序中，使用具有腔室3a的、用于向所述涂布辊2的外周面的至少所述凹部2a供给所述腔室3a内的所述涂布液30的供给部3来向所述涂布辊2的外周面的至少所述凹部2a供给所述腔室3a内的所述涂布液30，所述涂布辊2的外径为60mm～80mm，使所述涂布辊2的旋转速度的值Vr与所述被涂布物50的移动速度的值Vm的差V(＝Vr－Vm)为0m/每分钟～60m/每分钟。
采用该结构，如上所述，通过使涂布辊2的外径为60mm～80mm，并使涂布辊2的旋转速度的绝对值Vr相对于被涂布物50的移动速度的绝对值Vm的差V为0m/每分钟～60m/每分钟，能够在涂布辊2与被涂布物50之间形成充分的涂布液30的液珠，通过形成该液珠，能够抑制上述不需要的空气的卷进所引起的涂布不良。
另外，通过在充分地形成有上述液珠的状态下使被涂布物50和涂布辊2向彼此相反的方向移动，能够使被涂布物50与涂布液30之间产生摩擦，能够利用该摩擦将附着于被涂布物50的异物去除。
因而，能够一边抑制涂布不良一边将涂布液30涂布于被涂布物50，并且还能够通过涂布来去除异物。
如以上那样，采用本实施方式，提供能够一边抑制涂布不良一边将涂布液30涂布于被涂布物50、并且还能够通过涂布来去除异物的涂布装置1和涂布膜40的制造方法。
本实施方式的涂布装置1和涂布膜40的制造方法如上所述，但本发明并不限定于上述实施方式，能够在本发明的意图的范围内适当地进行设计变更。
实施例
接下来，列举实施例来进一步详细说明本发明，但本发明并不限定于这些实施例。
利用以下所示的条件下来使试验例1、试验例2以及试验例3的涂布装置运转，分别实施了涂布膜的制造方法。
(试验例1)
使上述实施方式的涂布装置运转，研究了涂布性能和异物的去除率。此外，运转时的详细的运转条件如下所述。另外，对于片构件，在该片构件上涂布粘合剂，在作为疑似异物而散布了粒径100μm的玻璃微珠之后，使其干燥，以附着有异物的状态来使用片构件。
片构件：是由树脂(PET)薄膜(宽度0.5m、厚度40μm)形成的片构件，其上附着有疑似异物。
片构件的移动速度：20m/每分钟。
片构件的移动方向和涂布辊的旋转方向：相反方向。
片构件的移动速度与涂布辊的旋转速度之间的绝对值的差：－10m/每分钟、0m/每分钟、20m/每分钟、40m/每分钟、60m/每分钟、80m/每分钟。
涂布辊的外径：50mm、60mm、80mm、90mm。
涂布辊的凹部：蜂窝状、1500线/每英寸、2mL/m2。
涂布液：ARUFON(40wt％)。
涂布液的粘度：50mPa·s。
利用供给部来使涂布液循环。
(粘度的测量)
使用流变仪(型号RS1、HAAKE公司制造)在20℃且剪切速度1(1/s)的条件下测量了涂布液的粘度。
(涂布性能的评价)
目视观察被涂布在片构件上的涂布液的外观，在没有产生条纹状的不均匀的情况下，作为极为良好而表示为“○”，在局部产生了条纹状的不均匀的情况下，作为良好而表示为“Δ”，在整体上产生了条纹状的不均匀的情况下，作为不良而利用“×”来表示，由此评价了涂布性能。将结果表示在图4、图5、图6以及图7中。
(异物的去除率的评价)
在向片构件涂布涂布液之前，对宽度50mm×移动方向长度500mm的区域(试验区域)拍摄照片，对存在于该区域的疑似异物的数量预先进行了计数。在片构件涂布了涂布液之后，对存在于上述试验区域的疑似异物的数量进行计数，根据下述式，作为异物的去除率而对涂布前后的疑似异物的数量的差相对于涂布前的疑似异物的数量的比率进行了计算。将结果表示在图4、图5、图6以及图7中。
异物的去除率＝[(涂布前的疑似异物的数量)－(涂布后的疑似异物的数量)]/(涂布前的疑似异物的数量)
(试验例2)
除了使用下述运转条件以外，以与试验例1同样的方式使上述实施方式的涂布装置运转，研究了涂布性能和异物的去除率。将结果表示在图8中。
片构件的移动速度：20m/每分钟。
作为片构件的移动速度与涂布辊的旋转速度之间的绝对值的差：60m/每分钟。
涂布辊的外径：60mm。
涂布液的粘度：0.5mPa·s、10mPa·s、30mPa·s、50mPa·s、60mPa·s、70mPa·s。
(试验例3)
除了使用下述运转条件以外，以与试验例1同样的方式使上述实施方式的涂布装置运转。此时，对片构件的移动方向上的比涂布位置靠下游侧的片构件的张力进行测量，并研究了片构件是否稳定地通过上述涂布位置。将结果表示在表1中。
片构件的移动速度：20m/每分钟。
片构件的移动速度与涂布辊的旋转速度之间的绝对值的差：60m/每分钟。
涂布辊的外径：60mm。
涂布液的粘度：50mPa·s。
(张力的测量)
使用张力测量装置(LX－100TD、三菱电机公司制造)对片构件的移动方向上的比涂布位置靠下游侧的片构件的张力进行了测量。
(评价基准)
·片构件上的褶皱的产生
目视观察行进中的片构件，对朝向片构件的行进方向的褶皱是否产生1条以上进行了评价。在产生了1条以上的褶皱的情况下，在表1中示出“产生”。在未产生褶皱的情况下，在表1中示出“未产生”。
·片构件的行进稳定性
目视观察涂布中的片构件的行进状态，对片构件是否蛇行运动或起伏进行了评价。将片构件未蛇行运动或起伏的情况评价为行进稳定，在表1中示出“稳定”。将片构件蛇行运动或起伏的情况评价为行进不稳定，在表1中示出“不稳定”。
·片构件的张力稳定性
使用张力测量装置对上述下游侧的片构件的张力连续地测量(监测)，在测得的张力的相对于设定值(表1所示的各值)的偏差小于±3N/m的情况下，评价为张力稳定，在表1中示出“稳定”。另一方面，在上述偏差为±3N/m以上的情况下，评价为张力不稳定，在表1中示出“不稳定”，尤其是，在上述偏差为150％以上且150％以上的状态持续了3秒以上的情况下，评价为张力异常，在表1中示出“异常”。
表1
如图5、图6所示，在涂布辊的外径为60mm～80mm且涂布辊的旋转速度相对于涂布辊的移动速度的差为0m/每分钟～60m/每分钟的情况下，成为未在涂布膜上观察到条纹状的涂布不良且异物的去除率也较高的结果。
与此相对，如图4所示，在涂布辊的外径小于60mm的情况下，仅在上述差为0m/每分钟时，未在涂布膜上观察到条纹状的涂布不良，在上述差为20m/每分钟～80m/每分钟时，在涂布膜的一部分上观察到未呈条纹状涂布这样的涂布不良。另外，如图7所示，在涂布辊的外径大于80mm的情况下，仅在上述差为0m/每分钟～40m/每分钟时，未在涂布膜上观察到条纹状的涂布不良，在上述差为60m/每分钟～80m/每分钟时，在涂布膜的一部分上观察到未呈条纹状涂布这样的涂布不良。
因而，在涂布辊的外径为60mm～80mm且涂布辊的旋转速度相对于涂布辊的移动速度的差为0m/每分钟～60m/每分钟的情况下，与偏离这些范围的情况相比，可知涂布性能和异物的去除率这两者均优异，另外，还可知能够以较宽的涂布条件进行涂布。
如图8所示，在涂布液的粘度为0.5mPa·s～50mPa·s的情况下，与涂布液的粘度超过50mPa·s的情况相比，可知涂布性能和异物的去除率这两方面均优异，另外，还可知能够以较宽的涂布条件进行涂布。
如表1所示，可知，在片构件的移动方向上的比在片构件涂布有涂布液的位置靠下游侧的张力为50N/m～1000N/m的情况下，与偏离该范围的情况相比，片构件能够稳定地经过上述涂布位置。可知，在片构件的厚度为5μm～70μm的情况下，与偏离该范围的情况相比，片构件能够稳定地经过上述涂布位置。可知，在上述下游侧的张力为50N/m～1000N/m且片构件的厚度为5μm～70μm的情况下，片构件能够更稳定地经过上述涂布位置。可知，在上述下游侧的张力为50N/m～1000N/m且片构件的厚度为10μm～70μm的情况下或者在上述下游侧的张力为100N/m～500N/m且片构件的厚度为5μm～70μm的情况下，片构件能够更稳定地经过上述涂布位置。
如以上那样说明了本发明的实施方式和实施例，也包含了将各实施方式和实施例的特征适当组合的技术方案。另外，此次公开的实施方式和实施例的所有的发明点均为例示，而不应认作来限定本发明。本发明的范围没有表示在上述实施方式和实施例，而是表示在权利要求书中，其包括在与权利要求书均等的含义和范围内进行的所有的变更。

Claims (6)

1.一种涂布装置，其中，
该涂布装置包括：
涂布辊，其向相对地移动的被涂布物涂布涂布液，在该涂布辊的外周面具有凹部；以及
供给部，其具有腔室，并向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液，
该涂布装置构成为，通过使所述涂布辊以所述外周面向与所述被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，
所述涂布辊的外径为60mm～80mm，
所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。
2.根据权利要求1所述的涂布装置，其中，
所述被涂布物的移动方向上的比被所述涂布液涂布的位置靠下游侧的所述被涂布物的张力为50N/m～1000N/m。
3.根据权利要求1所述的涂布装置，其中，
所述被涂布物的厚度为10μm～70μm。
4.根据权利要求2所述的涂布装置，其中，
所述被涂布物的厚度为10μm～70μm。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的涂布装置，其中，
所述涂布液的粘度为0.5mPa·s～50mPa·s。
6.一种涂布膜的制造方法，其中，
该涂布膜的制造方法包括涂布工序，在该涂布工序中，通过使用于向相对地移动的被涂布物涂布涂布液且在外周面具有凹部的涂布辊以所述外周面向与所述被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，
所述涂布工序具有供给工序，在该供给工序中，使用具有腔室的、用于向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液的供给部来向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液，
所述涂布辊的外径为60mm～80mm，
使所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。
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