CN108554889A - 一种微电子元器件旋转清洗装置 - Google Patents

一种微电子元器件旋转清洗装置 Download PDF

Info

Publication number
CN108554889A
CN108554889A CN201810334498.3A CN201810334498A CN108554889A CN 108554889 A CN108554889 A CN 108554889A CN 201810334498 A CN201810334498 A CN 201810334498A CN 108554889 A CN108554889 A CN 108554889A
Authority
CN
China
Prior art keywords
pipe
rotating
rinse bath
rotating seat
microelectronic component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
CN201810334498.3A
Other languages
English (en)
Inventor
艾蒙雁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Ji Is Electrical Equipment Science And Technology Ltd Like This
Original Assignee
Anhui Ji Is Electrical Equipment Science And Technology Ltd Like This
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui Ji Is Electrical Equipment Science And Technology Ltd Like This filed Critical Anhui Ji Is Electrical Equipment Science And Technology Ltd Like This
Priority to CN201810334498.3A priority Critical patent/CN108554889A/zh
Publication of CN108554889A publication Critical patent/CN108554889A/zh
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/024—Cleaning by means of spray elements moving over the surface to be cleaned
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本发明公开了一种微电子元器件旋转清洗装置，涉及微电子清洗设备技术领域，包括清洗槽、驱动装置和旋转喷射装置，所述清洗槽内部设有放置台，所述清洗槽正上方位置的设有旋转座一，所述支柱上端设有顶板，所述顶板中间位置设有旋转座二，所述伺服电机固定在电机固定板，所述链轮一固定在伺服电机的输出轴上，所述链轮二固定在旋转管上，所述旋转喷射装置包括旋转管和旋转喷射管，所述旋转管穿过旋转座一和旋转座二进入清洗槽内部，所述旋转喷射管上端与旋转管固定连接，所述旋转喷射管上设有竖直喷射管和横向喷射管。本发明整个装置结构紧凑，自动化程度高，对微电子元器件进行旋转清洗，采用清洗液喷射清洗，清洗效果好，清洗效率高。

Description

一种微电子元器件旋转清洗装置
技术领域
本发明涉及微电子清洗装置技术领域，具体为一种微电子元器件旋转清洗装置。
背景技术
微电子产品在生产加工过程中会因各种因素的影响导致产品受到污染。一般情况下，这些污染物会通过物理吸附或化学吸附等方式存留在产品表面，对产品的质量和使用寿命会造成严重的影响。例如，在生产硅片时，一些污染物的离子或粒子会存留在硅片表面或氧化膜中。这主要是因为生产加工过程中，硅片的化学键受到了破坏，加剧了污染物的吸附力度。这种情况给硅片的清洗工作带来了很大的难度。目前，我国使用的微电子清洗手段主要有两种，即干法清洗和湿法清洗。
旋转清洗法是一种综合性比较强的清洗技术，将化学溶剂法、机械清洗法进行有机结合，可以有效清洗硅片表面的污染物，清洗原理为：旋转清洗法通过机械的方法，使硅片保持高速旋转，在这种情况下，向硅片表面喷洒清洗液，使清洗液与硅片表面的污染物发生化学反应，溶解硅片表面的污染物，从而完成清洗工作。
发明内容
本发明目的在于提供一种微电子元器件旋转清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
一种微电子元器件旋转清洗装置，包括清洗槽、驱动装置和旋转喷射装置，所述清洗槽上方设有延伸板，且延伸板与清洗槽固定连接，所述清洗槽内部设有放置台，所述延伸板左侧设有竖直架板，所述竖直架板上设有电机固定板，所述清洗槽正上方位置的设有旋转座一，且旋转座一通过螺栓固定在延伸板上，所述延伸板上设有四组支柱，所述支柱上端设有顶板，所述顶板中间位置设有旋转座二，且旋转座二通过螺栓固定在顶板上，所述驱动装置包括伺服电机、链轮一、链轮二和链条，所述伺服电机固定在电机固定板，所述链轮一固定在伺服电机的输出轴上，所述旋转喷射装置包括旋转管和旋转喷射管，所述链轮二固定在旋转管上，所述链条通过链轮一和链轮二张紧，所述旋转管穿过旋转座一和旋转座二进入清洗槽内部，且与旋转座一和旋转座二均固定连接，所述旋转喷射管上端与旋转管固定连接，所述旋转喷射管上设有竖直喷射管和横向喷射管。
优选的，所述竖直喷射管上设有横向喷头，所述横向喷射管上设有竖直喷头，所述横向喷头和竖直喷头均可为铜制喷头。
优选的，所述旋转喷射管上部设有流量调节阀。
优选的，所述放置台上设有定位销。
优选的，所述旋转管上端设有进水管接头，所述进水管接头与旋转管可转动连接。
优选的，所述清洗槽下方设有排污套管。
优选的，所述清洗槽正面需装防水门，所述防水门采用透明树脂材料制成。
本发明的有益效果为：本发明结构简单，操作方便，将所需清洗的微电子元器件放在放置台上，定位销可将器件进行定位固定，清洗液通过进水管接头进入到旋转管内，伺服电机带动链轮一和链轮二转动，链轮二固定在旋转管上，带动旋转管快速旋转，为保证旋转管的转动稳点，特将旋转管固定旋转座一和旋转座二之间，旋转管的转动带动旋转喷射管转动，旋转喷射管上的竖直喷射管上设置的横向喷头可对微电子元器件进行水平方向的喷射清洗，横向喷射管上设置的竖直喷头可对微电子元器件进行竖直方向的喷射清洗，需变更旋转喷射管的转速时，变更伺服电机的转速或链轮一和链轮二的齿数，通过流量调节阀调节旋转喷射管内的清洗液流速，清洗槽上安装防水门，以便在投放和取出工件时进行开闭，防水门采用透明树脂材料制成，可透过防水门观察内部清洗情况，清洗槽下方设有排污套管，直接将清洗后的污水排放掉，清洗液喷射清洗，可将微电子元器件表面的灰尘杂质清洗干净，整个装置结构紧凑，自动化程度高，对微电子元器件进行旋转清洗，清洗效果好，清洗效率高。
附图说明
图1为本发明所述的一种微电子元器件旋转清洗装置的主视图。
图2为本发明所述的一种微电子元器件旋转清洗装置的结构示意图。
其中：1、清洗槽；2、驱动装置；3、旋转喷射装置；10、延伸板；11、放置台；12、排污套管；20、伺服电机；21、链轮一；22、链轮二；23、链条；30、旋转管；31、旋转喷射管；10-1、竖直架板；10-2、旋转座一；10-3、支柱；10-4、顶板；11-1、定位销；30-1、进水管接头；31-1、竖直喷射管；31-2、横向喷射管；10-11、电机固定板；10-41、旋转座二；31-11、横向喷头；31-21、竖直喷头。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1至图2所示，一种微电子元器件旋转清洗装置，包括清洗槽1、驱动装置2和旋转喷射装置3，所述清洗槽1上方设有延伸板10，且延伸板10与清洗槽1固定连接，所述清洗槽1内部设有放置台11，所述延伸板10左侧设有竖直架板10-1，所述竖直架板10-1上设有电机固定板10-11，所述清洗槽1正上方位置设有旋转座一10-2，且旋转座一10-2通过螺栓固定在延伸板10上，所述延伸板10上设有四组支柱10-3，所述支柱10-3上端设有顶板10-4，所述顶板10-4中间位置设有旋转座二10-41，且旋转座二10-41通过螺栓固定在顶板10-4上，所述驱动装置2包括伺服电机20、链轮一21、链轮二22和链条23，所述伺服电机20固定在电机固定板10-11，所述旋转喷射装置3包括旋转管30和旋转喷射管31，，所述链轮一21固定在伺服电机20的输出轴上，所述链轮二22固定在旋转管30上，所述链条23通过链轮一21和链轮二22张紧，所述旋转管30穿过旋转座一10-2和旋转座二10-41进入清洗槽1内部，且与旋转座一10-2和旋转座二10-41均固定连接，所述旋转喷射管31上端与旋转管30固定连接，所述旋转喷射管31上设有竖直喷射管31-1和横向喷射管31-2。
在本实施例中，所述竖直喷射管31-1上设有横向喷头31-11，所述横向喷射管31-2上设有竖直喷头31-21，所述横向喷头31-11和竖直喷头31-21均为铜制喷头。
在本实施例中，所述旋转喷射管31上部设有流量调节阀31-3。
在本实施例中，所述放置台11上设有定位销11-1。
在本实施例中，所述旋转管30上端设有进水管接头30-1，所述进水管接头30-1与旋转管30可转动连接。
在本实施例中，所述清洗槽1下方设有排污套管12。
在本实施例中，所述清洗槽1正面需装防水门，所述防水门采用透明树脂材料制成。
具体工作原理及步骤：本发明结构简单，操作方便，将所需清洗的微电子元器件放在放置台11上，定位销11-1可将器件进行定位固定，清洗液通过进水管接头30-1进入到旋转管30内，伺服电机20带动链轮一21和链轮二22转动，链轮二22固定在旋转管30上，带动旋转管30快速旋转，为保证旋转管30的转动稳点，特将旋转管固定旋转座一10-2和旋转座二10-41之间，旋转管30的转动带动旋转喷射管31转动，旋转喷射管31上的竖直喷射管31-1上设置的横向喷头31-11可对微电子元器件进行水平方向的喷射清洗，横向喷射管31-2上设置的竖直喷头21-21可对微电子元器件进行竖直方向的喷射清洗，需变更旋转喷射管31的转速时，变更伺服电机20的转速或链轮一21和链轮二22的齿数，通过流量调节阀31-3调节旋转喷射管31内的清洗液流速，清洗槽1上安装防水门，以便在投放和取出工件时进行开闭，防水门采用透明树脂材料制成，可透过防水门观察内部清洗情况，清洗槽1下方设有排污套管12，直接将清洗后的污水排放掉，清洗液喷射清洗，可将微电子元器件表面的灰尘杂质清洗干净，整个装置结构紧凑，自动化程度高，对微电子元器件进行旋转清洗，采用清洗液喷射清洗，清洗效果好，清洗效率高。
本发明并不局限于上述实施例，在本发明公开的技术方案的基础上，本领域的技术人员根据所公开的技术内容，不需要创造性的劳动就可以对其中的一些技术特征作出一些简单修改、等同变化与修饰，均属于本发明技术方案的范围。

Claims (7)

1.一种微电子元器件旋转清洗装置，其特征在于，包括清洗槽(1)、驱动装置(2)和旋转喷射装置(3)，所述清洗槽(1)上方设有延伸板(10)，且延伸板(10)与清洗槽(1)固定连接，所述清洗槽(1)内部设有放置台(11)，所述延伸板(10)左侧设有竖直架板(10-1)，所述竖直架板(10-1)上设有电机固定板(10-11)，所述清洗槽(1)正上方位置设有旋转座一(10-2)，且旋转座一(10-2)通过螺栓固定在延伸板(10)上，所述延伸板(10)上设有四组支柱(10-2)，所述支柱(10-3)上端设有顶板(10-4)，所述顶板(10-4)中间位置设有旋转座二(10-41)，且旋转座二(10-41)通过螺栓固定在顶板(10-4)上，所述驱动装置(2)包括伺服电机(20)、链轮一(21)、链轮二(22)和链条(23)，所述伺服电机(20)固定在电机固定板(10-11)，所述旋转喷射装置(3)包括旋转管(30)和旋转喷射管(31)，所述链轮一(21)固定在伺服电机(20)的输出轴上，所述链轮二(22)固定在旋转管(30)上，所述链条(23)通过链轮一(21)和链轮二(22)张紧，所述旋转管(30)穿过旋转座一(10-2)和旋转座二(10-41)进入清洗槽(1)内部，且与旋转座一(10-2)和旋转座二(10-41)均固定连接，所述旋转喷射管(31)上端与旋转管(30)固定连接，所述旋转喷射管(31)上设有竖直喷射管(31-1)和横向喷射管(31-2)。
2.根据权利要求1所述的一种微电子元器件旋转清洗装置，其特征在于，所述竖直喷射管(31-1)上设有横向喷头(31-11)，所述横向喷射管(31-2)上设有竖直喷头(31-21)，所述横向喷头(31-11)和竖直喷头(31-21)均为铜制喷头。
3.根据权利要求1所述的一种微电子元器件旋转清洗装置，其特征在于，所述旋转喷射管(31)上部设有流量调节阀(31-3)。
4.根据权利要求1所述的一种微电子元器件旋转清洗装置，其特征在于，所述放置台(11)上设有定位销(11-1)。
5.根据权利要求1所述的一种微电子元器件旋转清洗装置，其特征在于，所述旋转管(30)上端设有进水管接头(30-1)，所述进水管接头(30-1)与旋转管(30)可转动连接。
6.根据权利要求1所述的一种微电子元器件旋转清洗装置，其特征在于，所述清洗槽(1)下方设有排污套管(12)。
7.根据权利要求1所述的一种微电子元器件旋转清洗装置，其特征在于，所述清洗槽(1)正面需装防水门，所述防水门采用透明树脂材料制成。
CN201810334498.3A 2018-04-14 2018-04-14 一种微电子元器件旋转清洗装置 Withdrawn CN108554889A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810334498.3A CN108554889A (zh) 2018-04-14 2018-04-14 一种微电子元器件旋转清洗装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810334498.3A CN108554889A (zh) 2018-04-14 2018-04-14 一种微电子元器件旋转清洗装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108554889A true CN108554889A (zh) 2018-09-21

Family

ID=63535062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810334498.3A Withdrawn CN108554889A (zh) 2018-04-14 2018-04-14 一种微电子元器件旋转清洗装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108554889A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1071705A (ja) * 1996-06-28 1998-03-17 Toho Denshi Kk スクリーン版洗浄装置
CN101069888A (zh) * 2007-06-14 2007-11-14 北京七星华创电子股份有限公司 一种清洗单硅片的方法及装置
CN101559428A (zh) * 2008-04-18 2009-10-21 株式会社迪思科 旋转清洗装置和加工装置
US20140360540A1 (en) * 2011-04-18 2014-12-11 Tokyo Electron Limited Liquid processing apparatus, liquid processing method, and computer-readable recording medium having program stored therein
CN205324225U (zh) * 2016-01-22 2016-06-22 纳晶科技股份有限公司 基板的清洗装置
DE102016116797A1 (de) * 2016-09-08 2018-03-08 Hammelmann GmbH Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen der Oberfläche eines Werkzeugs

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1071705A (ja) * 1996-06-28 1998-03-17 Toho Denshi Kk スクリーン版洗浄装置
CN101069888A (zh) * 2007-06-14 2007-11-14 北京七星华创电子股份有限公司 一种清洗单硅片的方法及装置
CN101559428A (zh) * 2008-04-18 2009-10-21 株式会社迪思科 旋转清洗装置和加工装置
US20140360540A1 (en) * 2011-04-18 2014-12-11 Tokyo Electron Limited Liquid processing apparatus, liquid processing method, and computer-readable recording medium having program stored therein
CN205324225U (zh) * 2016-01-22 2016-06-22 纳晶科技股份有限公司 基板的清洗装置
DE102016116797A1 (de) * 2016-09-08 2018-03-08 Hammelmann GmbH Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen der Oberfläche eines Werkzeugs

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103489814A (zh) 全自动兆声波半导体晶圆清洗设备
CN208613307U (zh) 一种建筑除尘箱用清洁装置
CN104399689A (zh) 一种可循环式的混凝土搅拌轴的清洗设备
CN111530157A (zh) 一种可反冲洗的净化废水微颗粒悬浮物的装置及方法
CN206009308U (zh) 一种高效的五金清洗装置
CN106076621A (zh) 一种水法矿粉除杂设备
CN203553111U (zh) 全自动兆声波半导体晶圆清洗设备
CN117380446A (zh) 一种荧光渗透检测用显像剂喷涂设备
CN108554889A (zh) 一种微电子元器件旋转清洗装置
CN114024494A (zh) 一种水洗式太阳能面板表面异物清除装置
CN211245978U (zh) 一种环保型废气净化装置
CN219647148U (zh) 一种废气淋喷塔的内部清理结构
CN208553778U (zh) 一种利用气水流清除膜表面有机物的平板陶瓷膜组件
CN207872679U (zh) 超声波清洗机
CN205868538U (zh) 一种水法矿粉除杂设备
CN212387859U (zh) 一种自催化法处理化学镀铜废液的装置
CN207719159U (zh) 一种硅片清洗机用硅片清洗装置
CN204307857U (zh) 一种可循环式的混凝土搅拌轴的清洗设备
CN107720876A (zh) 一种不停机更换吸附装置的污水处理塔
CN211536998U (zh) 一种用于甜菜碱结晶污染物的水膜除尘器
CN117160209B (zh) 玻璃钢废气处理洗涤塔
CN102284306B (zh) Scr催化剂孔道的清洗疏通装置
CN110801688A (zh) 一种新能源汽车生产用废气处理装置及其使用方法
CN211328820U (zh) 一种化工厂高效环保尾气处理装置
CN220590655U (zh) 一种离心式岩屑筛分装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WW01 Invention patent application withdrawn after publication
WW01 Invention patent application withdrawn after publication

Application publication date: 20180921