CN205324225U - 基板的清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了基板的清洗装置，旨在解决现有的清洗装置清洗基板时清洗效果差的问题。基板的清洗装置，包括清洗槽、高压喷水装置和擦拭装置；清洗槽包括槽体、转动装置和喷气装置；基板水平安装在转动装置上且在转动装置的带动下在水平面内旋转；喷气装置设置在槽体内壁上且朝向基板的中心区域喷气；槽体上设有排水装置；高压喷水装置包括第一机械臂和高压喷头，第一机械臂控制高压喷头进入槽体内且朝向基板喷出高压水。擦拭装置可以将基板表面擦拭干净。高压喷水装置可以将擦拭后残留在基板上的泥污冲洗干净；此外，基板在转动装置的带动下在水平面内旋转，在旋转时，对基板进行高压喷水可以将基板死角内的污垢清理干净，提高了清洗效果。

Description

基板的清洗装置

技术领域

本实用新型涉及基板的清洗装置。

背景技术

目前，显示基板、封装盖板或照明基板等基板的表面需要比较高的清洁度，对这类产品的清洗的要求比较严格；有些基板带有凹槽，有些基板不带凹槽，对于带凹槽的基板，采用一般的清洗装置，凹槽以及一些死角的位置无法通过普通的擦拭装置清除掉；清洗不干净而且容易对产品造成损坏，报废率较高；此外，在通过离心将基板甩干时，在旋转甩干的时候，凹槽内的水分很难脱离凹槽，需要长时间的高速旋转才能被甩干，工作时间长，效率低，成本较高；此外，在通过离心将基板甩干时，中心区域的离心力较小，基板中心区域的水分很难被甩出，需要长时间的高速旋转，工作效率较低，成本较高。

实用新型内容

本实用新型提供了基板的清洗装置，旨在解决现有的清洗装置清洗基板时清洗效果差的问题。

为了解决以上技术问题，本实用新型通过以下技术方案实现：基板的清洗装置，包括清洗槽、高压喷水装置和用于擦拭基板的擦拭装置；清洗槽包括槽体、转动装置和喷气装置；转动装置设置在槽体内，基板水平安装在转动装置上且在转动装置的带动下在水平面内旋转；喷气装置设置在槽体内壁上且朝向基板的中心区域喷气；槽体上设有排水装置；高压喷水装置包括第一机械臂和高压喷头，第一机械臂控制高压喷头进入槽体内且朝向基板喷出高压水。

进一步，所述第一机械臂包括第一立柱和固定在第一立柱上端的第一平杆，第一立柱为可旋转的伸缩杆，高压喷头固定在第一平杆上。

进一步，擦拭装置包括第二机械臂和转接在第二机械臂上的毛刷辊，第二机械臂控制毛刷辊进入槽体内且使毛刷辊擦拭基板。

进一步，所述第二机械臂包括第二立柱和固定在第二立柱上端的第二平杆，第二立柱为可旋转的伸缩杆，毛刷辊转接在第二平杆上。

进一步，所述第二平杆上设有给毛刷辊供给洗涤剂的洗涤剂喷头。可以提高清洗效果。

进一步，转动装置包括旋转电机和固定在旋转电机转轴上的安装座，安装座上表面固定有多个限位柱，基板卡接在限位柱之间；转盘的上表面设有至少三个支撑块，基板放置在支撑块的顶端。便于基板的安装。

进一步，所述基板为方形，安装座由一个固定在旋转电机转轴上的圆盘和均布在圆盘周边的四个支板构成，每个支板上分别设有一个支撑块和两个用于卡住基板的限位柱。

进一步，所述限位柱上设有弹性部分，基板卡接在限位柱的弹性部分上。清洗过程中可以减弱对基板边缘的损坏程度。

进一步，所述支撑块的顶部具有弹性。清洗过程中可以减弱对基板下表面的损坏程度。

进一步，所述槽体的内壁上设有至少两个喷水管；所述喷水管朝向基板的上下两个表面喷水。可以提高清洗效果。

进一步，所述喷气装置由至少一根喷气管构成。便于控制气流的方向。

进一步，喷气装置的喷气方向与基板的夹角在10°～70°。在这个角度内，气流可以更容易将水珠吹离中心区域。在这个角度内，气流可以更容易将水珠吹离中心区域。此外在这个角度内，使得喷气方向与基板存在倾斜角，再结合基板的高速旋转，可以使气流流经整个基板，可以将带有凹槽基板的凹槽内水分吹出，然后通过离心甩出，提高了工作效率。

与现有技术相比本实用新型的优点是：本实用新型可用于带凹槽或表面光滑的基板，擦拭装置可以将基板表面擦拭干净。高压喷水装置可以将擦拭后残留在基板上的泥污冲洗干净。此外，对于带凹槽的基板，基板在转动装置的带动下在水平面内旋转，在旋转时，对基板进行高压喷水可以将基板凹槽内的污垢清理干净，提高了清洗效果。转动装置转接在槽体内，槽体可以防止水外泄，保持整洁。基板水平安装在转动装置上且在转动装置的带动下在水平面内旋转；一方面，在清洗时，通过转动装置缓慢转动基板，擦拭基板时更加均匀；另一方面，在高速旋转时，可以将基板快速甩干。此外本实用新型结构比较紧凑，体积小，节省了空间。

在高速旋转对基板进行甩干时，在基板中心区域的离心力较小，中心区域的水珠很难被甩出，需要长时间的高速旋转才可将水珠甩离中心区域；设置喷气装置，可以快速将水珠吹离基板中心区域，水珠被甩出，提高了工作效率。在高速旋转对基板进行甩干时，在基板中心区域的离心力较小，水珠很难被甩出，需要长时间的高速旋转才可将水珠甩离中心区域；设置喷气装置，可以快速将水珠吹离基板中心区域，水珠被甩出，提高了工作效率。对于带凹槽的基板，当喷气装置喷向基板的中心区域时，气流会沿着基板分散，可以将的凹槽内水分顺利吹出，结合高速离心可以将凹槽内的水分顺利甩出，提高了工作效率。在甩干时，相对单独采用转动装置，喷气装置与转动装置的结合可以用较低的转速，节约了成本。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中清洗槽的立体结构示意图；

图3为本实用新型中清洗槽俯视时的结构示意图；

图4为本实用新型中在图3的基础上安装上基板后的结构示意图。

具体实施方式

参阅图1至图4，基板的清洗装置，包括安装台8，安装台8上设有清洗槽、高压喷水装置、用于擦拭基板01的擦拭装置和两个水槽9。清洗槽包括槽体1、转动装置和喷气装置；槽体1安装在安装台8上。转动装置设置在槽体1内，基板01水平安装在转动装置上且在转动装置的带动下在水平面内旋转。喷气装置设置在槽体1内壁上且朝向基板01的中心区域喷气。槽体1上设有排水装置，排水装置为设置在槽体1底部的排水孔12。槽体1的内壁上设有至少两个喷水管5；所述喷水管5分别朝向基板01的上下两个表面喷水，喷水管5通过其中一个水槽9供水。

参阅图1和图2，喷气装置由至少一根喷气管4构成。喷气管4与基板01的夹角可选择20°、30°、50°和60°等，可以顺利将基板01中心区域、凹槽或死角位置的水吹离，再结合高速离心，可以提高甩干的效率。喷气管4可以弯曲来改变喷气的角度，但一直吹向基板01的中心区域。

参阅图1和图2，高压喷水装置包括第一机械臂61和高压喷头62，第一机械臂61控制高压喷头62进入槽体1内且朝向基板01喷出高压水。第一机械臂61包括第一立柱611和固定在第一立柱611上端的第一平杆612，第一立柱611为伸缩杆且转接在安装台8或水槽9上，高压喷头62固定在第一平杆612上。喷水管5与高压喷头62分别与两个水槽9供水。

参阅图1和图2，擦拭装置包括第二机械臂71和转接在第二机械臂71上的毛刷辊72，第二机械臂71控制毛刷辊72进入槽体1内且使毛刷辊72擦拭基板01。所述第二机械臂71包括第二立柱711和固定在第二立柱711上端的第二平杆712，第二立柱711为伸缩杆且转接在安装台8上，毛刷辊72转接在第二平杆712上，第二机械臂71上设有驱动毛刷辊72旋转的驱动电机。所述第二平杆712上设有给毛刷辊72供给洗涤剂的洗涤剂喷头73。

图3和图4均省略了喷水管5和喷气管4，参阅图2、图3和图4，转动装置包括旋转电机和固定在旋转电机转轴2上的安装座3，旋转电机转轴2设置在槽体1的中心，安装座3上表面固定有多个限位柱34，基板01卡接在限位柱34之间；转盘的上表面设有至少三个支撑块33，基板01放置在支撑块33的顶端。

基板01的形状不受限制，可以为圆形、方形和多边形等；下面以方形为实施例进行说明，其余形状原理相同。

参阅图3和图4，基板01为方形，安装座3由一个固定在旋转电机转轴2上的圆盘31和均布在圆盘31周边的四个支板32构成，每个支板32上分别设有一个支撑块33和两个用于卡住基板01的限位柱34。所述限位柱34上设有弹性部分，基板01卡接在限位柱34的弹性部分上。所述支撑块33的顶部具有弹性。限位柱34由刚性立柱和设置在刚性立柱上方的弹性套构成，弹性套采用长寿命且化学稳定的塑料制作而成，例如peek，PTFE，PFA等。基板01与弹性套接触，在弹性套的摩擦作用下，清洗时，基板01不会上移动。支撑块33顶部具有弹性部分，在清洗支撑块33时，可以对基板01起到缓冲作用，减轻损坏。

基板可以为塑料、玻璃、硅片和金属等材质。

工作时，首先将基板01水平安装在安装座3上，然后旋转电机带动旋转电机转轴2转动，旋转电机转轴2带动基板01转动，第二机械臂71带动毛刷辊72进入槽体1内对基板01进行擦拭，同时洗涤剂喷头73向毛刷辊72提供洗涤剂，两个喷水管5分别朝向基板01的两个表面进行喷水，待擦拭完毕后，毛刷辊72离开槽体1；两个喷水管5停止喷水。第一机械臂61带动高压喷头62进入槽体1，高压喷头62向基板01进行高压喷水，在高压喷水时，通过第一立柱611的往复转动带动第一平杆612进行往复摆动，结合基板01自身的缓慢转动，从而实现对基板01的全面喷水。喷完水后，高速旋转旋转电机转轴2，使基板01从缓慢旋转提升为高速旋转，甩干基板上的水，同时喷气管4向基板01的中心区域喷气。

以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型的技术特征并不局限于此，任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围之中。

Claims (10)

1.基板的清洗装置，其特征是：包括清洗槽、高压喷水装置和用于擦拭基板(01)的擦拭装置；清洗槽包括槽体(1)、转动装置和喷气装置；转动装置设置在槽体(1)内，基板(01)水平安装在转动装置上且在转动装置的带动下在水平面内旋转；喷气装置设置在槽体(1)内壁上且朝向基板(01)的中心区域喷气；槽体(1)上设有排水装置；高压喷水装置包括第一机械臂(61)和高压喷头(62)，第一机械臂(61)控制高压喷头(62)进入槽体(1)内且朝向基板(01)喷出高压水。

2.根据权利要求1所述的基板的清洗装置，其特征是：所述第一机械臂(61)包括第一立柱(611)和固定在第一立柱(611)上端的第一平杆(612)，第一立柱(611)为可旋转的伸缩杆，高压喷头(62)固定在第一平杆(612)上。

3.根据权利要求1所述的基板的清洗装置，其特征是：擦拭装置包括第二机械臂(71)和转接在第二机械臂(71)上的毛刷辊(72)，第二机械臂(71)控制毛刷辊(72)进入槽体(1)内且使毛刷辊(72)擦拭基板(01)。

4.根据权利要求3所述的基板的清洗装置，其特征是：所述第二机械臂(71)包括第二立柱(711)和固定在第二立柱(711)上端的第二平杆(712)，第二立柱(711)为可旋转的伸缩杆，毛刷辊(72)转接在第二平杆(712)上；所述第二平杆(712)上设有给毛刷辊(72)供给洗涤剂的洗涤剂喷头(73)。

5.根据权利要求1所述的基板的清洗装置，其特征是：转动装置包括旋转电机和固定在旋转电机转轴(2)上的安装座(3)，安装座(3)上表面固定有多个限位柱(34)，基板(01)卡接在限位柱(34)之间；转盘的上表面设有至少三个支撑块(33)，基板(01)放置在支撑块(33)的顶端。

6.根据权利要求5所述的基板的清洗装置，其特征是：所述基板(01)为方形，安装座(3)由一个固定在旋转电机转轴(2)上的圆盘(31)和均布在圆盘(31)周边的四个支板(32)构成，每个支板(32)上分别设有一个支撑块(33)和两个用于卡住基板(01)的限位柱(34)。

7.根据权利要求5或6所述的基板的清洗装置，其特征是：所述限位柱(34)上设有弹性部分，基板(01)卡接在限位柱(34)的弹性部分上；所述支撑块(33)的顶部具有弹性。

8.根据权利要求1所述的基板的清洗装置，其特征是：所述槽体(1)的内壁上设有至少两个喷水管(5)；所述喷水管(5)朝向基板(01)的上下两个表面喷水。

9.根据权利要求1所述的基板的清洗装置，其特征是：所述喷气装置由至少一根喷气管(4)构成。

10.根据权利要求1或9所述的基板的清洗装置，其特征是：所述喷气装置的喷气方向与基板(01)的夹角在10°～70°。