CN108445666A - 一种显示面板的制作方法及显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种显示面板的制作方法及显示面板，包括：提供一阵列基板；提供一彩膜基板，在所述彩膜基板表面涂布公共电极层；在所述彩膜基板指定区域滴注框胶，采用第一紫外光照射所述框胶以完成所述框胶的预固化，采用第二紫外光搭配目标光罩照射所述公共电极层，形成加电配向信号线和公共电极；其中，所述公共电极层采用共轭高分子导电聚合物材料制备。本发明通过采用共轭高分子导电聚合物材料作为彩膜基板的公共电极层，进而使得公共电极层的加电配向信号线与框胶预固化在一道制程中完成，从而在提高阵列基板玻璃基板实用空间的同时也节省了显示面板的制作时间和制作成本。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板的制作方法及显示面板。
背景技术
PSA模式配向技术在VA型液晶显示面板中应用广泛，所述PSA模式配向技术的原理是在显示面板原始的液晶分子中加入少许的聚合物单体(monomer)，在成盒工序完成后经过外加电压制程、照射紫外光的特殊制程使所述液晶分子中的活性单体分子在配型膜表层聚合形成高分子层，所述高分子层的功能跟传统的微型突出物相同，但是不会降低液晶面板的开口率，并且能提供液晶面板所需的倾斜角。
在显示面板的配向制程中需要进行外加电压进而输入加电配向信号，与所述加电配向信号相对应的是，我们需要在阵列基板上预留加电配向信号线，但是在阵列基板上设置加电配向信号线会占用阵列基板上的扇出区空间，进而占用玻璃基板的使用空间，目前有一种改进方法是采用彩膜基板的加电配向方式，将加电配向信号线设置在彩膜基板上，通过铜导电球将彩膜基板侧的信号输送到阵列基板上，进而能够大大节省阵列基板扇出区的空间。但是这种方式的缺点在于需要增添激光镭射设备和相对应的制程在彩膜基板的公共电极层上添置加电配向图案，从而导致显示面板的制作成本增加。因此，目前亟需一种显示面板的制作方法以解决上述问题。
发明内容
本发明提供了一种显示面板的制作方法及显示面板，以解决现有显示面板中加电配向信号区域设置在彩膜基板上，导致显示面板的制程时间和制作成本增加的问题。
为实现上述目的，本发明提供的技术方案如下：
根据本发明的一个方面，提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法包括：
步骤S10、提供一阵列基板，在所述阵列基板上设置加电配向转化面板；
步骤S20、提供一彩膜基板，在所述彩膜基板表面涂布公共电极层，所述公共电极层包括加电配向区域和公共电极区域；
步骤S30、采用滴下式注入法在所述彩膜基板指定区域滴注框胶，采用第一紫外光照射所述框胶以完成所述框胶的预固化，采用第二紫外光搭配目标光罩照射所述公共电极层，形成加电配向信号线和公共电极，所述目标光罩增添有用以制备所述加电配向信号线的图案；
步骤S40、贴合所述阵列基板和所述彩膜基板，在所述彩膜基板和所述阵列基板之间设置导电体，所述彩膜基板通过所述导电体将信号传输给所述阵列基板；
其中，所述公共电极层采用共轭高分子导电聚合物材料制备。
根据本发明一优选实施例，所述公共电极层由聚噻吩和聚乙炔中的其中一者材料制备而成。
根据本发明一优选实施例，所述公共电极层的膜厚为500纳米至5000纳米。
根据本发明一优选实施例，所述第一紫外光的波长为365纳米。
根据本发明一优选实施例，所述第二紫外光的波长为200纳米。
根据本发明一优选实施例，所述加电配向区域包括彩膜基板加电配向区域、阵列基板加电配向区域、栅极加电配向区域和源极加电配向区域；
所述加电配向信号线包括：彩膜基板加电配向信号线、阵列基板加电配向信号线、栅极加电配向信号线和源极加电配向信号线，所述加电配向区域与所述加电配向信号线一一对应。
根据本发明一优选实施例，所述彩膜基板加电配向信号线、所述阵列基板加电配向信号线、所述栅极加电配向信号线和所述源极加电配向信号线之间相互绝缘。
根据本发明一优选实施例，所述阵列基板上设置有信号线，所述加电配向转化面板设置在所述信号线上；
其中，所述阵列基板和所述彩膜基板之间设置有导电胶，所述阵列基板通过所述导电胶将信号传递给所述彩膜基板。
根据本发明一优选实施例，所述导电体为铜导电球。
根据本发明的另一个方面，提供了一种显示面板，所述显示面板采用权利要求1-9所述的显示面板的制备方法制备。
本发明的优点是，提供了一种显示面板的制作方法及显示面板，通过采用共轭高分子导电聚合物材料作为彩膜基板的公共电极层，进而使得公共电极层的加电配向信号线与框胶预固化在一道制程中完成，从而在提高阵列基板玻璃基板实用空间的同时也节省了显示面板的制作时间和制作成本。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中彩膜基板的结构示意图；
图2为本发明实施例中阵列基板的结构示意图；
图3为本发明实施例中显示面板的结构示意图；
图4为本发明实施例中步骤S30的制作结构示意图；
图5为本发明实施例中显示面板制作方法的流程示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有显示面板中加电配向信号区域设置在彩膜基板上，导致显示面板的制程时间和制作成本增加的问题，提出了一种显示面板的制作方法及显示面板，本实施例能够改善该缺陷。
下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步的说明：
图5为本发明实施例中显示面板制作方法的流程示意图。
如图5所示本发明提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板的制作方法包括：
如图2和图3所示，步骤S10、提供一阵列基板2，在所述阵列基板2上设置加电配向转化面板21；
通过在阵列基板2上设置加电配向转换面板21，使得所述阵列基板2上在接收彩膜基板1上的加电配向信号时成功的转化为阵列基板能够识别的加电配向信号。
如图1所述，在步骤S20中、提供一彩膜基板1，在所述彩膜基板1表面涂布公共电极层，所述公共电极层包括加电配向区域和公共电极区域；
需要说明的是，所述公共电极层采用共轭高分子导电聚合物材料制备，所述共轭高分子导电聚合物材料与传统所用的氧化铟锌ITO有明显的不同，传统的ITO公共电极层需要使用激光镭射的方式才能在公共电极层获取所需的图案，但是本发明中的共轭高分子导电聚合物材料仅仅使用紫外光罩的方式就可以在公共电极层上获取所需的图案。
进一步的，共轭高分子导电聚合物材料具有较大的共轭π键，分子之间通过电子云交叠的方式实现电子传输，从而使得共轭高分子导电聚合物材料具有导电特性；共轭高分子导电聚合物材料的特殊之处在于，通过一定波长的紫外光照射可以破坏共轭高分子导电聚合物材料的共轭结构，从而使得共轭高分子导电聚合物材料失去导电性，这为本发明的实施提供了材料基础。
在本发明一实施例中，所述公共电极层由聚噻吩和聚乙炔中的其中一者材料制备而成，所述公共电极层的膜厚为500纳米至5000纳米。
优选的，在本发明中所述公共电极层的膜厚为1000纳米，因为这个当公共电极层的膜厚为1000纳米，可以达到最优的显示面板制备效果。
如图4所示，在步骤S30中、采用滴下式注入法(ODF制程)在所述彩膜基板1指定区域滴注框胶13a，采用第一紫外光照射所述框胶13a以完成所述框胶13a的预固化,形成框胶13b，采用第二紫外光搭配目标光罩照射所述公共电极层，形成加电配向信号线12和公共电极11，所述目标光罩增添有用以制备所述加电配向信号线12的图案；
优选的，所述第一紫外光的波长为365纳米；所述第二紫外光的波长为200纳米。
在本发明实施例中，公共电极层的照光区材料失去导电性成为绝缘区，未照光区材料可以作为加电配向信号线使用；在步骤S30制备加电配向信号线12和公共电极11的同时进行框胶13a的预固化，形成框胶13b，大大的节约了显示面板的制程时间和制作成本。
进一步的，所述加电配向区域包括彩膜基板加电配向区域、阵列基板加电配向区域、栅极加电配向区域和源极加电配向区域；
如图4所示，所述加电配向信号线12包括：彩膜基板加电配向信号线121、阵列基板加电配向信号线122、栅极加电配向信号线123和源极加电配向信号线124，所述加电配向区域与所述加电配向信号线一一对应。
所述彩膜基板加电配向信号线121、所述阵列基板加电配向信号线1222、所述栅极加电配向信号线123和所述源极加电配向信号线124之间相互绝缘，从而避免不同信号线之间的相互干扰。
相对应的，所述阵列基板2上设置有信号线，所述加电配向转化面板21设置在所述信号线上；
其中，所述阵列基板2和所述彩膜基板1之间设置有导电胶(未标出)，所述阵列基板2通过所述导电胶将回馈信号传递给所述彩膜基板1。
如图3所示，步骤S40、贴合所述阵列基板2和所述彩膜基板1，在所述彩膜基板1和所述阵列基板2之间设置导电体3，所述彩膜基板1通过所述导电体3将信号传输给所述阵列基板2。
具体的，所述导电体3为铜导电球。
根据本发明的另一方面，还提供了一种显示面板，所述显示面板采用所述显示面板的制作方法制作而成。
本实施例中显示面板的工作原理跟所述显示面板的制作方法的原理一致，具体可参考所述显示面板制作方法的工作原理，此处不再做赘述。
本发明提供了一种显示面板的制作方法及显示面板，通过采用共轭高分子导电聚合物材料作为彩膜基板的公共电极层，进而使得公共电极层的加电配向信号线与框胶预固化在一道制程中完成，从而在提高阵列基板玻璃基板实用空间的同时也节省了显示面板的制作时间和制作成本。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板的制作方法包括：
步骤S10、提供一阵列基板，在所述阵列基板上设置加电配向转化面板；
步骤S20、提供一彩膜基板，在所述彩膜基板表面涂布公共电极层，所述公共电极层包括加电配向区域和公共电极区域；
步骤S30、采用滴下式注入法在所述彩膜基板指定区域滴注框胶，采用第一紫外光照射所述框胶以完成所述框胶的预固化，采用第二紫外光搭配目标光罩照射所述公共电极层，形成加电配向信号线和公共电极，所述目标光罩增添有用以制备所述加电配向信号线的图案；
步骤S40、贴合所述阵列基板和所述彩膜基板，在所述彩膜基板和所述阵列基板之间设置导电体，所述彩膜基板通过所述导电体将信号传输给所述阵列基板；
其中，所述公共电极层采用共轭高分子导电聚合物材料制备。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述公共电极层由聚噻吩和聚乙炔中的其中一者材料制备而成。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述公共电极层的膜厚为500纳米至5000纳米。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一紫外光的波长为365纳米。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第二紫外光的波长为200纳米。
6.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述加电配向区域包括彩膜基板加电配向区域、阵列基板加电配向区域、栅极加电配向区域和源极加电配向区域；
所述加电配向信号线包括：彩膜基板加电配向信号线、阵列基板加电配向信号线、栅极加电配向信号线和源极加电配向信号线，所述加电配向区域与所述加电配向信号线一一对应。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板加电配向信号线、所述阵列基板加电配向信号线、所述栅极加电配向信号线和所述源极加电配向信号线之间相互绝缘。
8.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板上设置有信号线，所述加电配向转化面板设置在所述信号线上；
其中，所述阵列基板和所述彩膜基板之间设置有导电胶，所述阵列基板通过所述导电胶将信号传递给所述彩膜基板。
9.根据权利1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述导电体为铜导电球。
10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板采用权利要求1-9所述的显示面板的制备方法制备。
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