CN108417517A - 一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具 - Google Patents
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Abstract
一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，包括湿式制程机台、托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手，晶粒人工放置到托板上，经托板输送系统送入，机械手将托板上的晶粒集中取出并水平转移至转载板上，托板经托板输送系统送至湿式制程机台的输出端，盖板下移覆盖在转载板上，转载板覆盖盖板后进入湿式制程机台进行晶粒处理，晶粒处理后转载板经湿式制程机台输送系统输出，盖板上移取出并经盖板循环输送系统收回至转载板覆盖盖板处，机械手将转载板上的晶粒取出并水平转移至托板上，转载板经转载板循环输送系统收回至湿式制程机台前端的转载盘盛放晶粒处，托板将晶粒送至产品集中处。
Description
技术领域
本发明涉及湿式制程设备领域，尤其涉及一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具。
背景技术
半导体是指一种导电性可受控制，范围可从绝缘体至导体之间的材料，无论从科技或是经济发展角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的，为了满足量产上的需求，半导体的电性必须是可预测并且稳定的，因此包括掺杂物的纯度以及半导体晶格结构的品质都必须严格要求。常见的品质问题包括晶格的错位、双晶面，或是堆栈错误都会影响半导体材料的特性。对于一个半导体而言，材料晶格的缺陷通常是影响元件性能的主因。湿式制程机台在封装、光伏、面板产业使用目前属于成熟型机种设计，也是半导体加工经常使用的机台，目前封装后晶粒切割后若须再进行湿式制程处理，只能单颗单颗进行，无法自动化批量处理，不但耗时费工且质量良率不佳。
发明内容
本发明正是针对现有技术存在的不足，提供了一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具。
为解决上述问题，本发明所采取的技术方案如下：
一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，包括湿式制程机台、托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手，所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手分别布置在湿式制程机台两侧，晶粒人工放置到托板上，经托板输送系统送入，机械手将托板上的晶粒集中取出并水平转移至转载板上，托板经托板输送系统送至湿式制程机台的输出端，盖板下移覆盖在转载板上，转载板覆盖盖板后进入湿式制程机台进行晶粒处理，晶粒处理后转载板经湿式制程机台输送系统输出，盖板上移取出并经盖板循环输送系统收回至转载板覆盖盖板处，机械手将转载板上的晶粒取出并水平转移至托板上，转载板经转载板循环输送系统收回至湿式制程机台前端的转载盘盛放晶粒处，托板将晶粒送至产品集中处。
进一步的，所述盖板输送系统包括回收架，回收架上设有上下运动的滑轨载台，盖板层叠堆积在滑轨载台上。
进一步的，所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统设为滑车或螺杆输送方式。
进一步的，所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统上分别设有托板、转载板、盖板的输送定位装置。
晶粒载具，包括托板、转载板和盖板，所述托板、转载板和盖板均为矩形板，托板和转载板上大小形状一致，且均设有均匀排列的网格板，盖板和转载板大小一致，盖板上设有镂空的栅条板，且栅条板对应转载板上纵向的网格槽。
进一步的，所述转载板的四角分别设有定位孔，盖板的四角分别设有定位柱，且定位柱与定位孔对应配合。
本发明与现有技术相比较，本发明的有益效果如下：
本发明所述的一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，通过托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手的配合，利用托板、转载板上的网格槽盛放晶粒，盖板覆盖后送入湿式制程机台进行处理，实现了晶粒的批量化、自动化湿式制程处理，大大提高了生产加工效率，节约了人力资源投入，降低了生产成本。
附图说明
图1为本发明所述的一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及载具示意图；
图2为托板结构示意图；
图3为转载板结构示意图；
图4为盖板结构示意图。
具体实施方式
下面将结合具体的实施例来说明本发明的内容。
如图1～4所示，所述的一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，包括湿式制程机台1、托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手，所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手分别布置在湿式制程机台1两侧，晶粒人工放置到托板2上，经托板输送系统送入，机械手将托板2上的晶粒集中取出并水平转移至转载板3上，托板2经托板输送系统送至湿式制程机台1的输出端，盖板4下移覆盖在转载板3上，转载板3覆盖盖板4后进入湿式制程机台1进行晶粒处理，晶粒处理后转载板3经湿式制程机台1输送系统输出，盖板4上移取出并经盖板循环输送系统收回至转载板3覆盖盖板4处，机械手将转载板3上的晶粒取出并水平转移至托板2上，转载板3经转载板循环输送系统收回至湿式制程机台1前端的转载盘盛放晶粒处，托板2将晶粒送至产品集中处，通过湿式制程机台1、托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手的配合，实现了半导体晶粒的批量化、自动化湿式制程，提高了生产加工效率的同时，大大节约了人力资源，降低了生产成本。
所述盖板4输送系统包括回收架，回收架上设有上下运动的滑轨载台，盖板4层叠堆积在滑轨载台上，通过滑轨载台的下移和机械松紧的配合，将层叠的最下层盖板4覆盖到转载板3上，加盖盖板4的转载板3能够有效防止晶粒输送以及在湿式制程机台1中发生位置漂移，避免影响湿式制程的效果。
所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统设为滑车或螺杆输送方式，代替传统的皮带带传动方式，皮带传送常会因使用频繁造成皮带磨损,而有发尘或跳动，容易造成晶粒掉落的问题，需要经常对皮带进行调教或更换，维护成本较高，而使用滑车或螺杆输送方式，只需对机械部分简单上油保养即可，维护成本较低，且更加便捷。
所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统上分别设有托板2、转载板3、盖板4的输送定位装置，便于控制托板2、转载板3和盖板4的位置，实现托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统的精准配合，确保晶粒批量自动化湿式制程的有序进行。
晶粒载具，包括托板2、转载板3和盖板4，所述托板2、转载板3和盖板4均为矩形板，托板2和转载板3上大小形状一致，且均设有均匀排列的网格槽5，盖板4和转载板3大小一致，盖板4上设有镂空的栅条板6，且栅条板6对应转载板3上纵向的网格槽5，通过托板2和转载板3可一次性转移处理大批量的晶粒，转载板3采用耐酸碱腐蚀的材质制成，方便湿式制程的同时，提高了使用寿命，通过盖板4上的栅条板6压紧转载板3上网格槽5内盛放的晶粒，确保了湿式制程的可靠性，防止了晶粒在输送过程中发生位置漂移，保证了湿式制程的有序进行。
所述转载板3的四角分别设有定位孔7，盖板4的四角分别设有定位柱8，且定位柱8与定位孔7对应配合，通过定位柱8余定位孔8的配合，实现转载板3与盖板4的紧密贴合，进一步防止了晶粒在输送过程中发生位置漂移，保证了湿式制程的有序进行。
所述的一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，通过托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手的配合，利用托板、转载板上的网格槽盛放晶粒，盖板覆盖后送入湿式制程机台进行处理，实现了晶粒的批量化、自动化湿式制程处理，大大提高了生产加工效率，节约了人力资源投入，降低了生产成本。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，其特征是，包括湿式制程机台、托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手，所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统和机械手分别布置在湿式制程机台两侧，晶粒人工放置到托板上，经托板输送系统送入，机械手将托板上的晶粒集中取出并水平转移至转载板上，托板经托板输送系统送至湿式制程机台的输出端，盖板下移覆盖在转载板上，转载板覆盖盖板后进入湿式制程机台进行晶粒处理，晶粒处理后转载板经湿式制程机台输送系统输出，盖板上移取出并经盖板循环输送系统收回至转载板覆盖盖板处，机械手将转载板上的晶粒取出并水平转移至托板上，转载板经转载板循环输送系统收回至湿式制程机台前端的转载盘盛放晶粒处，托板将晶粒送至产品集中处。
2.根据权利要求1所述的一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，其特征是，所述盖板输送系统包括回收架，回收架上设有上下运动的滑轨载台，盖板层叠堆积在滑轨载台上。
3.根据权利要求1所述的一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，其特征是，所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统设为滑车或螺杆输送方式。
4.根据权利要求1所述的一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，其特征是，所述托板输送系统、转载板循环输送系统、盖板循环输送系统上分别设有托板、转载板、盖板的输送定位装置。
5.晶粒载具，其特征是，包括托板、转载板和盖板，所述托板、转载板和盖板均为矩形板，托板和转载板上大小形状一致，且均设有均匀排列的网格板，盖板和转载板大小一致，盖板上设有镂空的栅条板，且栅条板对应转载板上纵向的网格槽。
6.根据权利要求5所述的一种晶粒批量自动化湿式制程处理系统及其载具，其特征是，所述转载板的四角分别设有定位孔，盖板的四角分别设有定位柱，且定位柱与定位孔对应配合。
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