CN108363993B - 指纹识别模组、显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本公开涉及显示技术领域，提出一种指纹识别模组、显示装置及其制作方法。该指纹识别模组包括：衬底基板、多个超声波指纹传感器、多个指纹检测模块和至少一个光敏传感器阵列，其中所述光敏传感器和所述指纹检测模块包括PIN结二极管和薄膜晶体管，PIN结二极管包括第一电极层、第二半导体层和位于第一电极层和第二半导体层之间的功能层，且功能层、第一电极层以及第二半导体层为同层设置；薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极，其中漏极与第一电极层电性连接，且有源层与功能层为同层设置。本公开的光敏传感器和指纹检测模块可以通过镀膜、蚀刻等同一次工艺同时形成在基板上，从而使得该光敏传感器可以应用在更多的技术领域。

Description

指纹识别模组、显示装置及其制作方法

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种指纹识别模组、显示装置及其制作方法。

背景技术

光敏传感器是一种可以将光信号转换为电信号的元件，可以接收光信号并根据光信号并生成图像信号。因此，光敏传感器被广泛应用在图像识别，图像记录等领域。

然而，由于光敏传感器的固定结构，使得光敏传感器很难集成在基板上，从而限制了光敏传感器的使用。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种指纹识别模组、显示装置及其制作方法，该光敏传感器和指纹检测模块可以通过镀膜、蚀刻等同一次工艺同时形成在基板上，从而使得该光敏传感器可以应用在更多的领域。

本公开根据本公开的一个方面，提供一种指纹识别模组，该指纹识别模组包括：衬底基板、多个超声波指纹传感器、指纹检测模块以及至少一个光敏传感器阵列。衬底基板具有显示区和周边区；多个超声波指纹传感器阵列分布在所述显示区，用于利用超声波检测指纹并生成电信号；指纹检测模块与所述超声波指纹传感器连接，用于根据所述电信号生成指纹信号；至少一个光敏传感器阵列位于所述周边区，所述光敏传感器阵列包括多个所述光敏传感器，所述光敏传感器用于接收光信号并根据所述光信号生成图像信号；其中，所述光敏传感器和所述指纹检测模块中包括：PIN结二极管，包括第一半导体层、第二半导体层和位于所述第一半导体层和所述第二半导体层之间的功能层，且所述功能层、所述第一半导体层以及所述第二半导体层为同层设置；以及薄膜晶体管，包括栅极、有源层、源极和漏极，其中所述漏极与所述第一半导体层电性连接，且所述有源层与所述功能层为同层设置。

在本公开的一种示例性实施例中，所述光敏传感器阵列为四个，四个所述光敏传感器阵列设置在所述衬底基板的四个角上。

在本公开的一种示例性实施例中，所述显示区包括像素区和位于两相邻像素区之间的遮光区；

所述超声波指纹传感器包括用于发送超声波的驱动电极和用于接收超声波的感应电极，所述驱动电极和所述感应电极分别位于预设间距的所述遮光区。

根据本公开的一个方面，提供一种显示装置，该显示装置包括：显示面板和设置在所述显示面板上的指纹识别模组。所述指纹识别模组为上述的指纹识别模组。

在本公开的一种示例性实施例中，还包括：保护盖板位于所述指纹识别模组上，包括与所述光敏传感器阵列位置对应的透镜。

在本公开的一种示例性实施例中，所述透镜的透镜折射率低于所述保护盖板。

在本公开的一种示例性实施例中，所述透镜的透镜折射率高于所述保护盖板。

根据本公开的一个方面，提供一种指纹识别模组的制作方法，该指纹识别模组的制作方法包括：

形成衬底基板；所述衬底基板具有显示区和周边区；

在所述显示区形成阵列分布的多个超声波指纹传感器；所述超声波指纹传感器用于利用超声波检测指纹并生成电信号；

在所述衬底基板上形成指纹检测模块，所述指纹检测模块与所述超声波指纹传感器连接，用于根据所述电信号生成指纹信号；

在所述周边区形成至少一个光敏传感器阵列，所述光敏传感器阵列包括多个所述光敏传感器，所述光敏传感器用于接收光信号并根据所述光信号生成图像信号；

其中，所述光敏传感器和所述指纹检测模块的制作方法包括：

形成PIN结二极管，所述PIN结二极管包括第一半导体层、第二半导体层和位于所述第一半导体层和所述第二半导体层之间的功能层，且所述功能层与所述第一半导体层和所述第二半导体层为同层设置；

形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极，其中所述漏极与所述第一半导体层电性连接，且所述有源层与所述功能层为同层设置。

根据本公开的一个方面，提供一种显示装置的制作方法，该显示装置的制作方法包括：

制作形成显示面板；

在显示面板上形成指纹识别模组；所述指纹识别模组为上述的指纹识别模组。

在本公开的一种示例性实施例中，所述制作方法还包括：

在所述指纹识别模组上形成保护盖板，所述保护盖板包括与所述光敏传感器阵列位置对应的透镜。

本公开提出一种指纹识别模组、显示装置及其制作方法。该光敏传感器将功能层、第一半导体层以及第二半导体层、有源层同层设置，可以通过设置功能层的宽度满足PIN结二极管的光敏特性。一方面，本公开的光敏传感器和指纹检测模块可以通过镀膜、蚀刻等同一次工艺同时形成在基板上，从而使得该光敏传感器可以应用在更多的技术领域；另一方面，本公开提供的光敏传感器结构简单，成本低廉。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为相关技术中一种光敏传感器的电路结构示意图；

图2为相关技术中一种光敏传感器的结构示意图；

图3为本公开光敏传感器一种示例性实施例的结构示意图；

图4为本公开光敏传感器一种示例性实施例中指纹识别模组的俯视图；

图5为本公开光敏传感器一种示例性实施例中指纹识别模组的侧视图；

图6为本公开指纹识别模组一种示例性实施例中指纹检测模块的电路图；

图7为本公开指纹识别模组一种示例性实施例中光敏传感器阵列的结构示意图；

图8为本公开显示装置一种示例性实施例的结构示意图；

图9为本公开光敏传感器的制作方法一种示例性实施例的流程图；

图10为本公开指纹识别模组的制作方法一种示例性实施例的流程图；

图11为本公开显示装置的制作方法一种示例性实施例的流程图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而，示例实施例能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施例使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语，例如“高”“低”“顶”“底”“左”“右”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。

相关技术中，如图1、2所示，图1为相关技术中一种光敏传感器的电路结构示意图，图2为相关技术中一种光敏传感器的结构示意图。如图1所示，光敏传感器包括PIN结二极管1和薄膜晶体管2，其中PIN结二极管1根据光电效应用于接收图像信号并根据图像生成电信号，薄膜晶体管2用于将生成的电信号输出。其中，相关技术中，PIN结二极管1包括垂直设置的第一半导体层11、第二半导体层12、位于第一半导体层11和第二电机层12之间的功能层13以及位于第二半导体层12上方的透明电极层14。相关技术中，绝大部分的入射光在功能层厚度方向所在的侧面被吸收并产生大量的电子-空穴对，为了满足PIN结二极管1的光敏特性，功能层13厚度需要达到um级别。由于蚀刻技术的限制，相关技术中的光敏传感器很难集成到基板上。

基于此，本示例性实施例提供一种光敏传感器，如图3所示，为本公开光敏传感器一种示例性实施例的结构示意图。该光敏传感器包括：PIN结二极管3和薄膜晶体管4。所述PIN结二极管3包括第一半导体层31、第二半导体层32和位于所述第一半导体层和所述第二半导体层之间的功能层33，且所述功能层33、所述第一半导体层31以及所述第二半导体层32为同层设置；所述薄膜晶体管4包括栅极41、有源层42、源极43和漏极44，其中，所述漏极44与所述第一半导体层31电性连接，且所述有源层42与所述功能层33为同层设置。

基于上述，本示例性实施例中还提供一种与上述光敏传感器的结构相同的指纹检测模块，即该指纹检测模块也包括：PIN结二极管3和薄膜晶体管4。所述PIN结二极管3包括第一半导体层31、第二半导体层32和位于所述第一半导体层和所述第二半导体层之间的功能层33，且所述功能层33、所述第一半导体层31以及所述第二半导体层32为同层设置；所述薄膜晶体管4包括栅极41、有源层42、源极43和漏极44，其中，所述漏极44与所述第一半导体层31电性连接，且所述有源层42与所述功能层33为同层设置。

本示例性实施例提出的光敏传感器和指纹检测模块，将功能层、第一半导体层以及第二半导体层、有源层同层设置。功能层可以通过其所在面接收入射光，通过设置功能层的宽度即可满足PIN结二极管1的光敏特性，从而可以不对功能层的厚度做出要求。一方面，本公开的光敏传感器的厚度较低，而且该光敏传感器和指纹检测模块可以通过镀膜、蚀刻等同一次工艺同时形成在基板上，使得该光敏传感器可以应用在更多的技术领域；另一方面，本公开公开的光敏传感器结构简单，成本低廉。

本示例性实施例中，由于将PIN结二极管改为水平向结构，因此功能层的厚度不用太厚，如所述功能层的厚度可以设置为3000～8000埃，相比垂直向PIN二极管结构微米级别的厚度，水平向PIN结二极管结构中的功能层厚度得以降低，相应的刻蚀难度也会降低。相应的，所述第一半导体层31、所述第二半导体层32以及所述有源层42的厚度都可以设置为3000～8000埃，还可以设置为其他数值的厚度。在该厚度下，光敏传感器可以通过镀膜、蚀刻等工艺形成在基板上。

本示例性实施例还提供一种指纹识别模组，如图4、5所示，图4为本公开一种示例性实施例中指纹识别模组的俯视图，图5为本公开一种示例性实施例中指纹识别模组的侧视图。该指纹识别模组包括：衬底基板5、多个超声波指纹传感器6、多个指纹检测模块(图5未示出)以及至少一个光敏传感器阵列7。衬底基板具有显示区8和周边区9；多个超声波指纹传感器6阵列分布在所述显示区8，用于利用超声波检测指纹并生成电信号；指纹检测模块与所述超声波指纹传感器6连接，用于根据所述电信号生成指纹信号；至少一个光敏传感器阵列7位于所述周边区9，所述光敏传感器阵列7包括多个所述光敏传感器，所述光敏传感器用于接收光信号并根据所述光信号生成图像信号；其中，所述光敏传感器和所述指纹检测模块的结构相同，均包括上述的PIN结二极管和薄膜晶体管。本示例性实施例中，超声波指纹传感器包括用于发送超声波的驱动电极和用于接收超声波的感应电极RX，驱动电极用于产生超声波信号，感应电极RX用于接收手指所反射的超声波信号，并将该所反射的超声波信号转化成电信号输出给指纹检测模块。

如图6所示，为本公开指纹识别模组一种示例性实施例中指纹检测模块的电路图。该指纹检测模块包括：数据线DL、复位线RSL、数据线DL、第N扫描线GLN、第N+1扫描线GLN+1、读取线RL、第一晶体管51、第二晶体管52、第三晶体管53以及PIN结二极管54。第一晶体管51和第二晶体管52之间的节点与像素电极(PX)连接。

本示例性实施例中，指纹检测模块接收感应电极(RX)输出的电信号，确定指纹信息。

以下介绍指纹检测模块根据所述电信号生成指纹信号的检测原理。首先，需要了解超声波指纹传感器的工作原理。超声波指纹传感器通过向手指发送近似平面的超声波，超声波与指纹的谷、脊作用，分别在谷和脊处发生不同的反射率，从而产生有差异的回声信号，其中指纹谷部的反射率要远远大于指纹脊部的反射率。超声波指纹传感器可以通过接收并分析有差异的回声信号生成不同的电信号，显然指纹谷部产生的电信号的电压要大于指纹脊部产生的电信号。

指纹检测模块根据所述电信号生成指纹信号的原理如下：

第一阶段复位阶段：第N扫描线GLN发送高电平信号，第三晶体管53导通，复位线RSL发出的复位信号经第三晶体管53传输到第二晶体管52的栅极与二极管54的N端，初始化此电极，使得二极管54的N端与第二晶体管52的栅极处于低电位。第二晶体管52的栅极截止。

第二阶段积累阶段：此时第N扫描线GLN发送低电平，第三晶体管53截止。当手指谷或者脊反射的声波能量经过超声波指纹传感器的压电材料后，超声波指纹传感器会将声波能量转化为相应的电信号，电信号经过二极管54的PN结，会使得二极管54的输出端电位上升，在这一段时间段内，只要手指反射的能量比之前时刻的大，就会通过PN结不断的使得二极管54的输出端电位上升。这样第二晶体管52的栅极电位由于谷或脊的能量不同，随着时间增加，差异化会越来越大。最终检测指纹谷部的指纹检测模块中，第二晶体管52的栅极电位为高电位；检测指纹脊部的指纹检测模块中，第二晶体管52的栅极电位为低电位。

第三阶段读取阶段：此时第N扫描线GLN发送低电平，第三晶体管53截止；第N+1扫描线GLN+1发送高电平，第一晶体管51导通。当该指纹检测模块检测的部位是指纹谷部时，第二晶体管52在高电平信号作用下导通，读取线RL读取数据线DL发送的数据信号。当指纹检测模块检测的部位是指纹脊部或者没有指纹时，第二晶体管52栅极保持低电平，第二晶体管52截止，RL信号不变。从而，可以通过多个指纹检测模块和对应的超声波指纹传感器得到手指的指纹信号。

如图7所示，为本公开指纹识别模组一种示例性实施例中光敏传感器阵列的结构示意图。光敏传感器阵列7包括多个光敏传感器71，光敏传感器71包括上述光敏传感器的结构。其中，PIN结二极管根据光电效应接收光信号并生成电信号，薄膜晶体管的栅极与扫描线GL(如GL1、GL2)连接，源极与读取线RL(如RL1、RL2、RL3)连接。当扫描线GL输入高电平时，薄膜晶体管导通，与该扫描线GL连接的光敏传感器71根据光信号生成电信号，并将该电信号输入到读取线RL。光敏传感器阵列7根据多个光敏传感器71生成的电信号生成对应的图像信号。需要说明的是，一个光敏传感器阵列7中光敏传感器71的数量可以根据实际需要设定。

还需要说明的是，结合图6和图7所示，在光敏传感器中包括一个PIN结二极管和一个薄膜晶体管，而在指纹检测模块中包括一个PIN结二极管和多个薄膜晶体管，且其中的一个薄膜晶体管的漏极和PIN结二极管的第一半导体层电性连接。因此，本文中所涉及的光敏传感器和指纹检测模块的结构相同具体是指光敏传感器中的一个PIN结二极管和一个薄膜晶体管结构与指纹检测模块中PIN结二极管54和第二晶体管52的这一部分结构相同。

本示例性实施例提供一种指纹识别模组，该指纹识别模组包括阵列分布在显示区的多个超声波指纹传感器、指纹检测模块和位于周边区的光敏传感器阵列，其中所述光敏传感器和所述指纹检测模块中包括PIN结二极管和薄膜晶体管。一方面，该指纹识别模组既可以通过超声波指纹传感器实现指纹识别还可以通过光敏传感器实现手势识别或者摄像等功能；另一方面，该指纹识别模组在衬底基板上集成的光敏传感器与在衬底基板上集成的二极管具有相同的PIN结构，从而使得该指纹识别模组制作工艺兼容性强，成本低廉。

本示例性实施例中，所述光敏传感器阵列7可以选择为四个，四个所述光敏传感器阵列7设置在所述衬底基板5的四个角上。该设置可以使得光敏传感器阵列接收图像信息的覆盖范围最大化。应该理解的是，在其他示例性实施例中，所述光敏传感器阵列还可以为其他数量和其他的位置分布，例如，可以在衬底基板5的四个角之间设置多个光敏传感器阵列7，这些都属于本公开的保护范围。

如图5所示，本示例性实施例中，所述显示区包括像素区81和位于两相邻像素区之间的遮光区82；所述超声波指纹传感器6包括用于发送超声波的驱动电极61和用于接收超声波的感应电极62，所述驱动电极61和所述感应电极62可以分别位于相邻的所述遮光区82上。所述驱动电极61和所述感应电极62位于所述遮光区82从而避免了超声波指纹传感器6影响指纹识别模组所在显示器的正常显示。在其他示例性实施例中，所述驱动电极61和所述感应电极62可以分别位于其他间隔数量的所述遮光区82上。

需要说明的是，本示例性实施例中的驱动电极和感应电极虽然在图5中是以一层电极进行示出的，但是实际上驱动电极和感应电极均为具有三明治结构的传感器，上下两侧电极以及位于两电极中间的压电材料功能层。另外，图5所示为驱动电极和感动电极分开设置的方案，在实际应用中还可以根据需求将同一个传感器分时复用为驱动电极和感动电极，即首先向传感器施加驱动信号，通过传感器将超声波信号发送出去，然后等到超声波信号被反射回来时，该传感器又被当做感应电极使用，接收反射回来的超声波信号。

本示例性实施例还提供一种显示装置，如图8所示，为本公开显示装置一种示例性实施例的结构示意图。该显示装置包括：显示面板、设置在所述显示面板上的指纹识别模组、保护盖板10。所述指纹识别模组为上述的指纹识别模组；保护盖板10位于所述指纹识别模组上，包括与所述光敏传感器阵列7位置对应的透镜101。

本示例性实施例提供的显示装置包括上述的指纹检测模组，该显示装置既可以通过超声波指纹传感器实现指纹识别还可以通过光敏传感器实现手势识别或者摄像等功能。

本示例性实施例中，所述透镜的折射率可以低于所述保护盖板的折射率，所述透镜的折射率也可以高于所述保护盖板的折射率，由于透镜和保护盖板的折射率之间存在折射率差，使得透镜101具有聚光的作用的，从而扩大光敏传感器接收光信号的范围。

本示例性实施例中，指纹检测模组与显示面板的结合方式可以选择为将超声波指纹传感器6与光敏传感器阵列7集成在显示面板的阵列基板上。应该理解的是，在其他示例性实施例中，指纹检测模组与显示面板的结合方式还有更多的方式可供选择，例如，将超声波指纹传感器6与光敏传感器阵列7集成在显示面板的彩膜基板上，这些都属于本公开的保护范围。

本示例性实施例提供一种光敏传感器的制作方法，如图9所示为本公开光敏传感器的制作方法一种示例性实施例的流程图。该光敏传感器的制作方法包括：

S11：形成PIN结二极管，所述PIN结二极管包括第一半导体层、第二半导体层和位于所述第一半导体层和所述第二半导体层之间的功能层，且所述功能层与所述第一半导体层和所述第二半导体层为同层设置；

S12：形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极，其中所述漏极与所述第一半导体层电性连接，且所述有源层与所述功能层为同层设置。

本示例性实施例提供的光敏传感器的制作方法与上述光敏传感器具有相同的技术特征和工作原理，上述内容已经做出详细说明，此处不再赘述。

需要说明的是，指纹检测模块的结构与上述光敏传感器的结构也相同，因此可以采用与上述指纹检测模块的制作方法来制作得到指纹检测模块，而且这两个结构的制作可以在同一次工艺中进行。

本示例性实施例提供一种指纹识别模组的制作方法，如图10所示为本公开指纹识别模组的制作方法一种示例性实施例的流程图。该指纹识别模组的制作方法包括：

S21：形成衬底基板；所述衬底基板具有显示区和周边区；

S22：在所述衬底基板上形成指纹检测模块；

S23：，在所述显示区形成阵列分布的多个超声波指纹传感器；所述超声波指纹传感器用于利用超声波检测指纹并生成电信号，所述指纹检测模块与所述超声波指纹传感器连接，用于根据所述电信号生成指纹信号；

S24：在所述周边区形成至少一个光敏传感器阵列，所述光敏传感器阵列包括多个所述光敏传感器，所述光敏传感器用于接收光信号并根据所述光信号生成图像信号；

其中，所述光敏传感器包括上述光敏传感器和所述指纹检测模块中包括PIN结二极管和薄膜晶体管，这两部分的结构相同，而且可以在同一次工艺中完成，不增加工艺流程和难度。

本示例性实施例提供的指纹识别模组的制作方法与上述指纹识别模组具有相同的技术特征和工作原理，上述内容已经做出详细说明，此处不再赘述。

本示例性实施例提供一种显示装置的制作方法，如图11所示，为本公开显示装置的制作方法一种示例性实施例的流程图。该显示装置的制作方法包括：

S31：在显示面板上形成指纹识别模组；所述指纹识别模组为上述的指纹识别模组；

S32：在所述指纹识别模组上形成保护盖板，所述保护盖板包括与所述光敏传感器阵列位置对应的透镜。

需要说明的是，在步骤S31之前，还包括制作形成显示面板的步骤，但是由于该步骤的制作方法以及工艺流程与传统方法相同，此处不再一一赘述。

本示例性实施例提供的显示装置的制作方法与上述显示装置具有相同的技术特征和工作原理，上述内容已经做出详细说明，此处不再赘述。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里发明的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未发明的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

上述所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中，如有可能，各实施例中所讨论的特征是可互换的。在上面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而没有特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组件、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本公开的各方面。

Claims (10)

1.一种指纹识别模组，其特征在于，包括：

衬底基板，具有显示区和周边区；

多个超声波指纹传感器，阵列分布在所述显示区，用于利用超声波检测指纹并生成电信号；

多个指纹检测模块，分别与多个所述超声波指纹传感器一一对应连接，用于根据所述电信号生成指纹信号；

至少一个光敏传感器阵列，位于所述周边区，所述光敏传感器阵列包括多个所述光敏传感器，所述光敏传感器用于接收光信号并根据所述光信号生成图像信号；

其中，所述光敏传感器和所述指纹检测模块中包括：

PIN结二极管，包括第一半导体层、第二半导体层和位于所述第一半导体层和所述第二半导体层之间的功能层，且所述功能层、所述第一半导体层以及所述第二半导体层为同层设置；以及

薄膜晶体管，包括栅极、有源层、源极和漏极，其中所述漏极与所述第一半导体层电性连接，且所述有源层与所述功能层为同层设置。

2.根据权利要求1所述的指纹识别模组，其特征在于，

所述光敏传感器阵列为四个，四个所述光敏传感器阵列分别设置在所述衬底基板的四个角上。

3.根据权利要求1所述的指纹识别模组，其特征在于，

所述显示区包括像素区和位于两相邻像素区之间的遮光区；

所述超声波指纹传感器包括用于发送超声波的驱动电极和用于接收超声波的感应电极，所述驱动电极和所述感应电极分别位于预设间距的所述遮光区。

4.一种显示装置，其特征在于，包括：

显示面板；

指纹识别模组，设置在所述显示面板上，所述指纹识别模组为上述权利要求1-3任一项所述的指纹识别模组。

5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，还包括：

保护盖板，位于所述指纹识别模组上，所述保护盖板中包括与所述光敏传感器阵列位置对应的透镜。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述透镜的折射率低于所述保护盖板的折射率。

7.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，

所述透镜的折射率高于所述保护盖板的折射率。

8.一种指纹识别模组的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板，所述衬底基板具有显示区和周边区；

在所述衬底基板上形成指纹检测模块；

在所述显示区形成阵列分布的多个超声波指纹传感器；所述超声波指纹传感器用于利用超声波检测指纹并生成电信号；且

所述指纹检测模块与所述超声波指纹传感器连接，用于根据所述电信号生成指纹信号；

在所述周边区形成至少一个光敏传感器阵列，所述光敏传感器阵列包括多个所述光敏传感器，所述光敏传感器用于接收光信号并根据所述光信号生成图像信号；

其中，所述光敏传感器和所述指纹检测模块的制作方法包括：

形成PIN结二极管，所述PIN结二极管包括第一半导体层、第二半导体层和位于所述第一半导体层和所述第二半导体层之间的功能层，且所述功能层与所述第一半导体层和所述第二半导体层为同层设置；

形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极，其中所述漏极与所述第一半导体层电性连接，且所述有源层与所述功能层为同层设置。

9.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括：

制作形成显示面板；

在所述显示面板上形成指纹识别模组；所述指纹识别模组为上述权利要求1-3任一项所述的指纹识别模组。

10.根据权利要求9所述的显示装置的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

在所述指纹识别模组上形成保护盖板，所述保护盖板包括与所述光敏传感器阵列位置对应的透镜。

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