CN108342622A - 一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法 - Google Patents

一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108342622A
CN108342622A CN201810187226.5A CN201810187226A CN108342622A CN 108342622 A CN108342622 A CN 108342622A CN 201810187226 A CN201810187226 A CN 201810187226A CN 108342622 A CN108342622 A CN 108342622A
Authority
CN
China
Prior art keywords
alloy
aluminium
rare
earth
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810187226.5A
Other languages
English (en)
Inventor
瞿凌飞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to CN201810187226.5A priority Critical patent/CN108342622A/zh
Publication of CN108342622A publication Critical patent/CN108342622A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C21/00Alloys based on aluminium
    • C22C21/02Alloys based on aluminium with silicon as the next major constituent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21BROLLING OF METAL
    • B21B1/00Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations
    • B21B1/02Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations for rolling heavy work, e.g. ingots, slabs, blooms, or billets, in which the cross-sectional form is unimportant ; Rolling combined with forging or pressing
    • B21B1/026Rolling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/02Making non-ferrous alloys by melting
    • C22C1/026Alloys based on aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/02Making non-ferrous alloys by melting
    • C22C1/03Making non-ferrous alloys by melting using master alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/06Making non-ferrous alloys with the use of special agents for refining or deoxidising
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C14/00Alloys based on titanium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C23C14/165Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • C23C14/5886Mechanical treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法,本发明通过调整工艺以及参数解提升了合金的针孔度;本发明采用磁控溅射的方法,并采用低温轧制的手段,在铝硅铜合金表面形成稀土记忆合金层,能够将提升该合金的屈服强度,使得铝硅铜合金的表面均匀致密、膜基结合强度高、力学性能优良。

Description

一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法
所属技术领域
本发明涉及铝合金制造领域,具体涉及一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法。
背景技术
合金材料由于在材料中存在多种金属元素,因此可以具有不同金属元素的特性,具备了不同金属元素的特性后,扩大了合金材料的性能和使用范围。铜铝合金合金的使用范围很广,可以用于轻工、重工、电子行业等。例如被用来制作弹簧、电子设备的金属部分、五金器材、医疗设备等
Al-Si-Cu系铝合金锭是一种具有良好综合性能的压铸铝合金,现如今被于汽车零部件行业广泛应用。目前许多生产汽车零部件的用户在对于Al-Si-Cu系铝合金锭的各种性能要求越来越严苛,由于铝锭针孔度问题,从而导致的产品零件疏松、开裂,不良率较大。
形状记忆合金(Shape Memory Alloy,SMA)是指经过适当变形后,在一定物理条件变化下能自动做功而恢复变形前形状的合金。形状记忆合金因其具有较高的可恢复性形变,已成为一种重要的功能材料,获得了广泛应用。镍钛系形状记忆具有记忆恢复原形、无磁性、耐磨耐蚀、耐高温、无毒性的特点。不过,当前的形状记忆合金的屈服强度一般在700MPa以下。
发明内容
本发明提供一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法,本发明通过调整工艺以及参数解提升了合金的针孔度;本发明采用磁控溅射的方法,并采用低温轧制的手段,在铝硅铜合金表面形成稀土记忆合金层,能够将提升该合金的屈服强度,使得铝硅铜合金的表面均匀致密、膜基结合强度高、力学性能优良。
为了实现上述目的,本发明提供了一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法,该方法包括如下步骤:
(1)制备铝铜合金基材
将质量百分比80%的熟铝及质量百分比20%纯铜投入熔炉中,进行助熔,总熔化时长为3-5小时,熔化终止温度控制为850±10℃;
用铁锹在合金液表面撒上15-20KG清渣剂,用铁扒轻轻敲打液面5-10分钟后扒渣,并将铝渣清出炉口,不能用铁扒搅动合金液;
第一次精炼:合金液温度控制为820±10℃;精炼时间控制在20分钟;扒渣时间≧15分钟;精炼剂数量控制为1.6kg/吨;第二次精炼:合金液温度控制为820±10℃;精炼时间控制在20分钟;扒渣时间≧15分钟;精炼剂数量控制为1KG/吨;精炼后铸锭,得到铝铜合金基材;
(2)将材料按比例配料,其中配料比例为硅的质量百分比为21%-35%,余量为上述铝铜合金基材;
将上述配料熔炼、搅拌,喷射沉积得到锭坯;将锭坯进行致密化加工,即得到致密度大于99%的铝铋硅合金基材;
(3)基材预处理
所述基材预处理,可依次进行研磨抛光、超声清洗和离子源清洗;
(4)制备稀土记忆合金靶材
该稀土记忆合金靶材由钛、镍、铝、钇、铬、硅元素构成;
按重量份包括如下组分:钛55-65份,镍10-12份;铝6-9份;钇1-3份、铬4-6份;硅1-2份;
采用熔炼法制备得到稀土记忆合金靶材 ;
(5)采用上述合金靶材,使用磁控溅射方法,在上述基材上形成薄膜状的稀土记忆合金层:
抽真空至10-4Pa以上,充入氮气,然后再抽真空至10-4Pa,调整工作电压为500V,溅射占空比65-68%,开始进行溅射沉积,控制厚度为150-250μm得到薄膜状的稀土记忆合金层;
启动轧机系统,设定上下轧辊的速比为1.2-1.5 ,设定每次轧制形变量为2-3%;设定低速辊的速度为0.05-0.1m/s,开始具有稀土记忆合金层的钨镍合金的轧制过程;一次轧制过后,重复进行轧制3-5次,轧制过程中,保持环境温度为-30至-20摄氏度;在150-200摄氏度进行低温热处理1-2h,得到产品。
本发明具备以下优点:
(1)本发明通过调整工艺以及参数解提升了合金的针孔度;
(2)本发明采用磁控溅射的方法,并采用低温轧制的手段,在铝硅铜合金表面形成稀土记忆合金层,能够将提升该合金的屈服强度,使得铝硅铜合金的表面均匀致密、膜基结合强度高、力学性能优良。
具体实施方式
实施例一
将质量百分比80%的熟铝及质量百分比20%纯铜投入熔炉中,进行助熔,总熔化时长为3小时,熔化终止温度控制为850±10℃。
用铁锹在合金液表面撒上15KG清渣剂,用铁扒轻轻敲打液面5分钟后扒渣,并将铝渣清出炉口,不能用铁扒搅动合金液。
第一次精炼:合金液温度控制为820±10℃;精炼时间控制在20分钟;扒渣时间≧15分钟;精炼剂数量控制为1.6KG/吨;第二次精炼:合金液温度控制为820±10℃;精炼时间控制在20分钟;扒渣时间≧15分钟;精炼剂数量控制为1KG/吨;精炼后铸锭,得到铝铜合金基材。
将材料按比例配料,其中配料比例为硅的质量百分比为21%,余量为上述铝铜合金基材。
将上述配料熔炼、搅拌,喷射沉积得到锭坯;具体为将上述配料在中频感应炉内熔炼,升温至900℃,充 分搅拌,用熔剂(30%Nacl+47%Kcl+23%冰晶石)进行覆盖造渣,并用六氯乙烷除气;用导流管将金属熔液注入喷射沉积装置中,采用高压氮气直接将金属液滴雾化沉积在基体上,制备成一定尺寸的锭坯。其中,气体压强为0.8MPa,喷嘴直径为2.8mm,喷嘴距基体距离为200mm; 将锭坯进行致密化加工,即得到致密度大于99%的铝铋硅合金基材。
基材预处理,所述基材预处理,可依次进行研磨抛光、超声清洗和离子源清洗。所述研磨抛光,可将基材先在600目的金刚石砂轮盘上进行粗磨10min,然后在1200目的金刚石砂轮盘上进行细磨10min,再用W2.5的金刚石抛光粉进行抛光至试样表面均匀光亮,所述超声清洗,可将研磨抛光后的基材按以下顺序清洗,丙酮超声清洗5min→无水乙醇超声清洗5min→烘干待用,所述离子源清洗,可采用霍尔离子源对基材进行清洗5min,压强为2×10-2Pa,基材温度为300℃,氩气通量为10sccm,偏压为-100V,阴极电流为29.5A,阴极电压为19V,阳极电流为7A,阳极电压为80V,以清除基材表面的吸附气体以及杂质,提高沉积涂层与基材的结合强度以及成膜质量。
制备稀土记忆合金靶材,该稀土记忆合金靶材由钛、镍、铝、钇、铬、硅元素构成;按重量份包括如下组分:钛55份,镍10份;铝6份;钇1份、铬4份;硅1份;采用熔炼法制备得到稀土记忆合金靶材 。
采用上述合金靶材,使用磁控溅射方法,在上述基材上形成薄膜状的稀土记忆合金层:抽真空至10-4Pa以上,充入氮气,然后再抽真空至10-4Pa,调整工作电压为500V,溅射占空比65%,开始进行溅射沉积,控制厚度为150μm得到薄膜状的稀土记忆合金层。
启动轧机系统,设定上下轧辊的速比为1.2 ,设定每次轧制形变量为2%;设定低速辊的速度为0.05m/s,开始具有稀土记忆合金层的钨镍合金的轧制过程;一次轧制过后,重复进行轧制3次,轧制过程中,保持环境温度为-30至-20摄氏度;在150摄氏度进行低温热处理1h,得到产品。
实施例二
将质量百分比80%的熟铝及质量百分比20%纯铜投入熔炉中,进行助熔,总熔化时长为5小时,熔化终止温度控制为850±10℃。
用铁锹在合金液表面撒上20KG清渣剂,用铁扒轻轻敲打液面10分钟后扒渣,并将铝渣清出炉口,不能用铁扒搅动合金液。
第一次精炼:合金液温度控制为820±10℃;精炼时间控制在20分钟;扒渣时间≧15分钟;精炼剂数量控制为1.6KG/吨;第二次精炼:合金液温度控制为820±10℃;精炼时间控制在20分钟;扒渣时间≧15分钟;精炼剂数量控制为1KG/吨;精炼后铸锭,得到铝铜合金基材。
将上述配料熔炼、搅拌,喷射沉积得到锭坯;具体为将上述配料在中频感应炉内熔炼,升温至1250℃,充 分搅拌,用熔剂(30%Nacl+47%Kcl+23%冰晶石)进行覆盖造渣,并用六氯乙烷除气;用导流管将金属熔液注入喷射沉积装置中,采用高压氮气直接将金属液滴雾化沉积在基体上,制备成一定尺寸的锭坯。其中,气体压强为1.0MPa,喷嘴直径为3.5mm,喷嘴距基体距离为300mm; 将锭坯进行致密化加工,即得到致密度大于99%的铝铋硅合金基材。
基材预处理,所述基材预处理,可依次进行研磨抛光、超声清洗和离子源清洗。所述研磨抛光,可将基材先在600目的金刚石砂轮盘上进行粗磨10min,然后在1200目的金刚石砂轮盘上进行细磨10min,再用W2.5的金刚石抛光粉进行抛光至试样表面均匀光亮,所述超声清洗,可将研磨抛光后的基材按以下顺序清洗,丙酮超声清洗5min→无水乙醇超声清洗5min→烘干待用,所述离子源清洗,可采用霍尔离子源对基材进行清洗5min,压强为2×10-2Pa,基材温度为300℃,氩气通量为10sccm,偏压为-100V,阴极电流为29.5A,阴极电压为19V,阳极电流为7A,阳极电压为80V,以清除基材表面的吸附气体以及杂质,提高沉积涂层与基材的结合强度以及成膜质量。
制备稀土记忆合金靶材,该稀土记忆合金靶材由钛、镍、铝、钇、铬、硅元素构成;按重量份包括如下组分:钛65份,镍12份;铝9份;钇3份、铬6份;硅2份;采用熔炼法制备得到稀土记忆合金靶材 。
采用上述合金靶材,使用磁控溅射方法,在上述基材上形成薄膜状的稀土记忆合金层:抽真空至10-4Pa以上,充入氮气,然后再抽真空至10-4Pa,调整工作电压为500V,溅射占空比68%,开始进行溅射沉积,控制厚度为250μm得到薄膜状的稀土记忆合金层。
启动轧机系统,设定上下轧辊的速比为1.5 ,设定每次轧制形变量为3%;设定低速辊的速度为0.1m/s,开始具有稀土记忆合金层的钨镍合金的轧制过程;一次轧制过后,重复进行轧制5次,轧制过程中,保持环境温度为-20摄氏度;在200摄氏度进行低温热处理2h,得到产品。

Claims (1)

1.一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法,该方法包括如下步骤:
(1)制备铝铜合金基材
将质量百分比80%的熟铝及质量百分比20%纯铜投入熔炉中,进行助熔,总熔化时长为3-5小时,熔化终止温度控制为850±10℃;
用铁锹在合金液表面撒上15-20KG清渣剂,用铁扒轻轻敲打液面5-10分钟后扒渣,并将铝渣清出炉口,不能用铁扒搅动合金液;
第一次精炼:合金液温度控制为820±10℃;精炼时间控制在20分钟;扒渣时间≧15分钟;精炼剂数量控制为1.6kg/吨;第二次精炼:合金液温度控制为820±10℃;精炼时间控制在20分钟;扒渣时间≧15分钟;精炼剂数量控制为1KG/吨;精炼后铸锭,得到铝铜合金基材;
(2)将材料按比例配料,其中配料比例为硅的质量百分比为21%-35%,余量为上述铝铜合金基材;
将上述配料熔炼、搅拌,喷射沉积得到锭坯;将锭坯进行致密化加工,即得到致密度大于99%的铝铋硅合金基材;
(3)基材预处理
所述基材预处理,可依次进行研磨抛光、超声清洗和离子源清洗;
(4)制备稀土记忆合金靶材
该稀土记忆合金靶材由钛、镍、铝、钇、铬、硅元素构成;
按重量份包括如下组分:钛55-65份,镍10-12份;铝6-9份;钇1-3份、铬4-6份;硅1-2份;
采用熔炼法制备得到稀土记忆合金靶材 ;
(5)采用上述合金靶材,使用磁控溅射方法,在上述基材上形成薄膜状的稀土记忆合金层:
抽真空至10-4Pa以上,充入氮气,然后再抽真空至10-4Pa,调整工作电压为500V,溅射占空比65-68%,开始进行溅射沉积,控制厚度为150-250μm得到薄膜状的稀土记忆合金层;
启动轧机系统,设定上下轧辊的速比为1.2-1.5 ,设定每次轧制形变量为2-3%;设定低速辊的速度为0.05-0.1m/s,开始具有稀土记忆合金层的钨镍合金的轧制过程;一次轧制过后,重复进行轧制3-5次,轧制过程中,保持环境温度为-30至-20摄氏度;在150-200摄氏度进行低温热处理1-2h,得到产品。
CN201810187226.5A 2018-03-07 2018-03-07 一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法 Pending CN108342622A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810187226.5A CN108342622A (zh) 2018-03-07 2018-03-07 一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810187226.5A CN108342622A (zh) 2018-03-07 2018-03-07 一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108342622A true CN108342622A (zh) 2018-07-31

Family

ID=62956642

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810187226.5A Pending CN108342622A (zh) 2018-03-07 2018-03-07 一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108342622A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110331312A (zh) * 2019-08-16 2019-10-15 苏州金江铜业有限公司 光电倍增极用高铍铜连续镀膜轧制复合材料及其制备方法
CN112481512A (zh) * 2020-10-20 2021-03-12 保定隆达铝业有限公司 一种用于处理铝合金锭面发黄的方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106319256A (zh) * 2015-07-10 2017-01-11 上海帅翼驰铝合金新材料有限公司 一种提升Al-Si-Cu系铝合金锭针孔度的生产方法
CN106591627A (zh) * 2016-12-31 2017-04-26 镇江市丹徒区硕源材料科技有限公司 一种高强度的形状记忆合金及其制备方法和应用
CN107012345A (zh) * 2017-04-22 2017-08-04 苏州南尔材料科技有限公司 一种铝硅铜合金的制备方法
CN107034394A (zh) * 2015-07-13 2017-08-11 上海帅翼驰铝合金新材料有限公司 一种提升AlSi12Cu铝合金锭综合性能的生产方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106319256A (zh) * 2015-07-10 2017-01-11 上海帅翼驰铝合金新材料有限公司 一种提升Al-Si-Cu系铝合金锭针孔度的生产方法
CN107034394A (zh) * 2015-07-13 2017-08-11 上海帅翼驰铝合金新材料有限公司 一种提升AlSi12Cu铝合金锭综合性能的生产方法
CN106591627A (zh) * 2016-12-31 2017-04-26 镇江市丹徒区硕源材料科技有限公司 一种高强度的形状记忆合金及其制备方法和应用
CN107012345A (zh) * 2017-04-22 2017-08-04 苏州南尔材料科技有限公司 一种铝硅铜合金的制备方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110331312A (zh) * 2019-08-16 2019-10-15 苏州金江铜业有限公司 光电倍增极用高铍铜连续镀膜轧制复合材料及其制备方法
CN112481512A (zh) * 2020-10-20 2021-03-12 保定隆达铝业有限公司 一种用于处理铝合金锭面发黄的方法
CN112481512B (zh) * 2020-10-20 2021-10-12 保定隆达铝业有限公司 一种用于处理铝合金锭面发黄的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6276327B2 (ja) モリブデンを含有した標的
JP6186369B2 (ja) 非晶質形成能を有する結晶質合金、その製造方法、スパッタリング用合金ターゲット及びその製造方法
TWI301512B (zh)
TWI225895B (en) Tantalum sputtering target and method for preparation thereof
JP4271684B2 (ja) ニッケル合金スパッタリングターゲット及びニッケル合金薄膜
JP5341292B2 (ja) ニオブスパッタ要素、ニオブ金属およびそれを含む物品
CN111910160B (zh) 铝钪靶材的制备方法
TW200422414A (en) Tantalum sputtering target and method of manufacturing the same
WO1991018125A1 (en) Sputtering target and production thereof
CN109628897A (zh) 一种高纯铝硅合金溅射靶材坯料及其制备方法
EP1548148A4 (en) IRON SILICURE SPRAY TARGET AND METHOD OF MANUFACTURE
JP4237479B2 (ja) スパッタリングターゲット、Al合金膜および電子部品
EP1579019A2 (en) High purity nickel/vanadium sputtering components; and methods of making sputtering components
TW201522687A (zh) 鉭濺鍍靶
KR20100135957A (ko) 몰리브덴-니오브 합금, 몰리브덴-니오브 합금을 포함하는 스퍼터링 타겟, 이러한 스퍼터링 타겟의 제조 방법 및 이러한 스퍼터링 타겟으로부터 준비되는 박막 및 그 용도
CN108342622A (zh) 一种稀土涂层复合铝硅铜合金的制备方法
CN104480439A (zh) 一种钽靶材的制备工艺
CN104704139B (zh) Cu‑Ga合金溅射靶及其制造方法
TWI387661B (zh) Manufacturing method of nickel alloy target
TW201631170A (zh) 鉻-鈦合金濺鍍靶材及其製造方法
CN109964273A (zh) 磁盘用铝合金基板及其制造方法
US20020083571A1 (en) Method for producing metal sputtering target
CN107012345A (zh) 一种铝硅铜合金的制备方法
JP4421170B2 (ja) Ni−Sn合金からなるバリヤー層を備えた回路基板
JP7546079B2 (ja) アルミニウム-スカンジウム複合体、アルミニウム-スカンジウム複合体スパッタリングターゲットおよび作製方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20180731