CN108281375A - 改良结构的用于制备电池片的生产系统 - Google Patents

改良结构的用于制备电池片的生产系统 Download PDF

Info

Publication number
CN108281375A
CN108281375A CN201810063155.8A CN201810063155A CN108281375A CN 108281375 A CN108281375 A CN 108281375A CN 201810063155 A CN201810063155 A CN 201810063155A CN 108281375 A CN108281375 A CN 108281375A
Authority
CN
China
Prior art keywords
fixed
rod
push
cylinder
guide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810063155.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108281375B (zh
Inventor
范启超
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Longnuo Technology Co ltd
Original Assignee
Zhejiang Chao Chen Energy Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang Chao Chen Energy Technology Co Ltd filed Critical Zhejiang Chao Chen Energy Technology Co Ltd
Priority to CN201810063155.8A priority Critical patent/CN108281375B/zh
Publication of CN108281375A publication Critical patent/CN108281375A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108281375B publication Critical patent/CN108281375B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/1876Particular processes or apparatus for batch treatment of the devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/22Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/1804Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

本发明提供了一种改良结构的用于制备电池片的生产系统。它解决了现有清洗装置结构简单,不能连续对其进行扩散、刻蚀、刮涂和烧结,生产速度慢等技术问题。本改良结构的用于制备电池片的生产系统,包括底座,底座上设置有工作台,工作台与一能带动其上下升降的升降结构相连,工作台上依次设置有扩散装置、刻蚀装置、清洗装置、刮涂装置和烧结装置。本发明具有生产效率高的优点。

Description

改良结构的用于制备电池片的生产系统
技术领域
本发明涉及一种改良结构的用于制备电池片的生产系统。
背景技术
太阳电池是一种对光有响应并能将光能转换成电力的器件。太阳能电池是以半导体材料为基础的一种具有能量转换功能的半导体器件,是太阳能光伏发电的最核心的器件。
经检索,如中国专利文献公开了一种快速清洗装置【申请号:201520753687.6;公开号:CN 205056521U】。这种快速清洗装置,其特征在于,包括清洗箱体,喷淋机构、传动机构和储液箱体,所述清洗箱体和所述储液箱体之间设有排液管和回流管,所述排液管和回流管均一端插入所述清洗箱体内,且另一端插入所述储液箱体内,所述喷淋机构和所述传动机构均安装在所述清洗箱体内,所述喷淋机构分为上喷淋机构和下喷淋机构,所述上喷淋机构包含有上喷管和用于调节液体流速的上调节阀门,所述上喷管上设有上孔洞,所述上孔洞的数量为1个或多个,所述下喷淋机构包含有下喷管和用于调节液体流速的下调节阀门,所述下喷管上设有下孔洞,所述下孔洞的数量为1个或多个,所述传动机构位于上喷淋机构和下喷淋机构之间,所述传动机构托载待清洗件。
该专利中公开的清洗装置虽然清洗效果好,但是,该清洗装置结构简单,不能连续对其进行扩散、刻蚀、刮涂和烧结,生产速度慢,因此,设计出一种改良结构的用于制备电池片的生产系统是很有必要的。
发明内容
本发明的目的是针对现有的技术存在上述问题,提出了一种改良结构的用于制备电池片的生产系统,该生产系统具有生产效率高的特点。
本发明的目的可通过下列技术方案来实现:改良结构的用于制备电池片的生产系统,包括底座,其特征在于,所述底座上设置有工作台,工作台与一能带动其上下升降的升降结构相连,工作台上依次设置有扩散装置、刻蚀装置、清洗装置、刮涂装置和烧结装置;升降结构包括导柱、导套和气缸,导柱固定在底座上,导套固定在工作台上,导套滑动套接在导柱上,气缸的缸体固定在底座上,气缸的活塞杆竖直向上,气缸的活塞杆端部和工作台相连。
本生产系统的工作原理如下:控制气缸的活塞杆上下移动,气缸的活塞杆带动工作台上下移动,可使工作台能适用于不同使用高度的需求,适应性强;通过扩散装置对制绒好的硅片进行扩散,通过刻蚀装置对硅片进行刻蚀,通过清洗装置对硅片进行清洗,通过刮涂装置对硅片进行刮涂,通过烧结装置对硅片进行烧结,可实现连续不间断生产,生产效率高。
所述扩散装置包括石英管,石英管设置在工作台上,石英管内设置有石英舟,石英舟包括两个相对设置的第一支架、两个底部定位杆和两个侧部定位杆,两个底部定位杆分别与两个第一支架的底边相固定,两个侧部定位杆分别与两个第一支架的两个侧边相固定,所述第一支架呈U形,第一支架包括横杆和两个竖杆,两个竖杆分别设置在横杆的两端,竖杆与横杆之间设置有调节机构,调节机构包括开设在横杆上的导向槽、呈T形的导向块和第一定位件,导向块一端和竖杆相固定,导向块另一端设置在导向槽中,且导向块能沿导向槽水平移动,横杆上还开设有若干定位孔,且定位孔和导向槽相贯通,导向块上开设有定位槽,且定位槽能与任意一个定位孔相贯通,第一定位件依次穿设在定位槽和定位孔中;两个侧部定位杆相对的一侧设有若干第一放置槽,两个底部定位杆的上侧设有与第一放置槽相匹配的第二放置槽,第一放置槽和第二放置槽的截面均为V形。
该扩散装置的过程如下:将硅片插在石英舟上,将石英舟送入石英管,可对其进行扩散;通过将导向块沿导向槽水平移动,导向块带动竖杆水平移动,竖杆带动侧部定位杆移动,将侧部定位杆调节到所需位置,将第一定位件依次穿设在定位槽和定位孔中,将竖杆固定在横杆上,可使其能定位不同规格的硅片,通用性强;第一放置槽和第二放置槽的截面均为V形,采用该结构,可使其能适应不同厚度的硅片,实用性强。
所述相邻的两个第一放置槽的间距为2.25mm~2.35mm。
所述第一定位件的材料为石英。
所述第一支架上设置有若干用于搬运的吊环。
所述第一支架上还设置有第一滚轮,第一滚轮与一能带动其摆动的第一摆动机构相连。
采用以上结构,通过第一滚轮的滚动,可方便第一支架的水平移动,操作省力。
所述第一摆动机构包括第一摆动杆和限位块,第一摆动杆一端和第一支架相铰接,第一摆动杆另一端和第一滚轮相连接,限位块固定在第一支架上,且第一摆动杆能和限位块相抵靠。
当需要使用第一滚轮时,转动第一摆动杆,第一摆动杆带动第一滚轮摆动,将第一滚轮放下,通过限位块对第一摆动杆进行限位;当不需要使用第一滚轮时,转动第一摆动杆,第一摆动杆带动第一滚轮摆动,将第一滚轮收起。
所述刻蚀装置包括机架,机架设置在工作台上,机架上固定有刻蚀箱,机架上还固定有工作箱,工作箱通过伸缩管和刻蚀箱相连通;工作箱内固定有放电电极,所述工作箱内设置有用于对其进行冷却的风扇,风扇与一能带动其转动的第一动力机构相连,第一动力机构包括驱动电机、第二摆动杆和定位板,定位板设置在工作箱内,定位板与一能带动其上下移动的移动机构相连,驱动电机固定在定位板上,驱动电机的输出轴竖直向上,驱动电机的输出轴和第二摆动杆一端相铰接,驱动电机的输出轴与第二摆动杆的铰接处设有角度限位块,第二摆动杆另一端和风扇相固定;移动机构包括驱动气缸和第一安装板,驱动气缸的缸体固定在机架上,驱动气缸的活塞杆竖直向上,驱动气缸的活塞杆端部伸入工作箱内和第一安装板相固定,定位板设置在第一安装板上,定位板和第一安装板之间设置有第一弹簧,第一弹簧一端和定位板相连,第一弹簧另一端和第一安装板相连。
该刻蚀装置的过程如下:硅片在刻蚀箱中发生刻蚀反应,通过放电电极产生臭氧,通过输送管将臭氧输送到刻蚀箱中;该过程中会使工作箱内温度升高,控制驱动气缸的活塞杆上下移动,驱动气缸的活塞杆带动第一安装板上下移动,第一安装板带动定位板上下移动,定位板将风扇调节到合适的高度;控制驱动电机带动第二摆动杆转动,第二摆动杆带动风扇转动,随着风扇的转动,可对工作箱进行冷却,确保正常为刻蚀机提供臭氧,工作稳定性好。
所述机架上还设置有能检测工作箱内温度的测温机构。
采用以上结构,通过测温机构可快速检测工作箱内的温度。
所述测温机构包括第一控制器、温度传感器、第一推杆电机、第一导轨和第一滑块,第一导轨竖直固定在工作箱内,第一滑块设置在第一导轨上,第一推杆电机固定在机架上,第一推杆电机的推杆竖直向上,第一推杆电机的推杆端部和第一滑块相连,温度传感器通过连杆固定在第一滑块上,显示屏固定在机架上,第一推杆电机、温度传感器和显示屏均与该第一控制器相连。
当需要检测工作箱内温度时,控制第一推杆电机的推杆上下移动,第一推杆电机的推杆带动第一滑块沿着第一导轨上下移动,第一滑块带动连杆上下移动,连杆带动温度传感器上下移动,温度传感器将检测到的信号传递给第一控制器,第一控制器控制显示屏工作,通过显示屏显示其检测到的温度值,由于温度传感器能上下移动,可采集工作箱多处的数据,测温准确、可靠。
所述驱动气缸与上述第一控制器相连。
采用以上结构,通过第一控制器可控制驱动气缸动作。
所述机架上还设置有第二滚轮,第二滚轮与一能带动其摆动的第二摆动机构相连。
采用以上结构,通过第二滚轮的滚动,可方便机架的水平移动,操作省力。
所述第二摆动机构包括第一连接杆和定位螺栓,第一连接杆一端和机架相铰接,第一连接杆另一端和第二滚轮相连接,定位螺栓螺纹连接在第一连接杆上,且定位螺栓端部能抵靠机架上。
当需要使用第二滚轮时,转动第一连接杆,第一连接杆带动第二滚轮摆动,将第二滚轮放下,通过定位螺栓对第一连接杆进行定位;当不需要使用第二滚轮时,转动第一连接杆,第一连接杆带动第二滚轮摆动,将第二滚轮收起,通过定位螺栓对第一连接杆进行定位,实用性强。
所述刮涂装置包括定位架,定位架设置在工作台上,定位架上设置有斜刮刀,斜刮刀包括刮条、安装件和刀架,所述刮条的截面为正方形,刮条通过一可拆卸结构设置在安装件上,安装件设置在刀架上,安装件与一能带动其摆动的第三摆动机构相连,第三摆动机构包括第二推杆电机和第三摆动杆,第三摆动杆一端和刀架相铰接,第三摆动杆另一端和安装件相固连,第二推杆电机铰接在刀架上,第二推杆电机的推杆倾斜设置,第二推杆电机的推杆端部和第三摆动杆中部相铰接,刀架上还设置有角度指示机构。
该刮涂装置的过程如下:当需要对硅片进行刮涂时,控制第二推杆电机的推杆来回移动,第二推杆电机的推杆带动第三摆动杆来回移动,第三摆动杆带动安装件来回移动,安装件带动刮条来回移动,使刮条与水平面所成的角度能够调节,可适应不同的刮涂要求,通过角度指示机构可指示两者所成的角度值,实用性强。
所述刮条的材料为橡胶。
所述安装件的材料为不锈钢,安装件上还具有若干加强条。
采用以上结构,通过加强条可增加安装件的整体强度,加固效果好。
所述可拆卸结构包括开设在安装件上的安装槽和定位螺钉,刮条能插入到安装槽中,定位螺钉螺纹连接在安装件上,且定位螺钉的端部能抵靠在刮条上。
采用以上结构,通过转动定位螺钉,可将刮条从安装件的安装槽中取出,拆装方便。
作为另一种情况,所述可拆卸结构包括开设在安装件上的安装槽和限位杆,刮条能插入到安装槽中,限位杆一端和安装件相铰接,限位杆另一端能和刮条相抵靠,安装槽上还具有凸出的限位部,刮条四个侧面上开设有与限位部相对应的限位槽。
采用以上结构,通过转动限位杆,可将刮条从安装件的安装槽中取出,拆装方便。
所述角度指示机构包括具有角度值的指示板和指针,指示板固定在第三摆动杆上,指针固定在刀架上,且指针朝向指示板。
采用以上结构,通过第三摆动杆带动指示板摆动,指针指示指示板上的角度值,指示直观。
所述烧结装置包括工作架,工作架设置在工作台上,工作架两端分别设置有主动轴和从动轴,主动轴与一能带动其转动的第二动力机构相连,主动轴和从动轴上套设有呈环形的链带,链带上设置有若干用于定位硅片的第二定位件,第二定位件包括定位杆一和定位杆二,定位杆一和定位杆二分别固定在链带的两侧,定位杆一上具有凸出的限位部一,定位杆二上具有凸出的限位部二,限位部一和限位部二之间形成用于定位硅片的定位部;工作架上设置有能对链带进行清洗的清洗结构,清洗结构包括用于盛放清洗液的清洗槽,清洗槽设置在工作架上,清洗槽与一能带动其上下升降的升降机构相连,清洗槽内设置有若干清洗辊,且清洗辊能和链带相接触。
该烧结履带的过程如下:在硅片烧结过程中,通过定位杆一和定位杆二将其定位在链带上,熔化的铝浆在冷却时会凝固在链带上,通过升降机构带动清洗槽上下移动,清洗槽带动清洗辊上下移动,使清洗辊和链带相接触;通过第二动力机构带动主动轴转动,主动轴带动链带转动,链带带动清洗辊转动,清洗辊将清洗槽内的清洗液涂在链带上,使铝浆从链带上脱离,清洗方便;第二定位件一上具有凸出的限位部一,第二定位件上二具有凸出的限位部二,限位部一和限位部二之间形成用于定位硅片的定位部,采用该结构,改变了传统的顶针定位方式,避免硅片背面出现顶针点,产品质量好。
所述清洗结构还包括用于盛放清水的水箱、喷水管和接水盒,喷水管通过定位杆固定在清洗槽上,喷水管一端为封闭端,喷水管另一端通过输送管和水箱相连,喷水管侧面还开设有若干喷水孔,喷水孔朝向链带,输送管中设置有水泵,接水盒固定在工作架上,且接水盒位于喷水管正下方。
采用以上结构,水泵将水箱中的水通过输送管输送到喷水管中,喷水管将链带上的清洗液和铝浆冲洗掉,废水通过接水盒收集起来。
所述第二动力机构包括电机、主动齿轮和从动齿轮,电机固定在工作架上,电机的输出轴水平设置,主动齿轮固定在电机的输出轴上,从动齿轮固定在主动轴上,主动齿轮与从动齿轮相啮合。
当需要使主动轴转动时,控制电机的输出轴转动,电机的输出轴带动主动齿轮转动,主动齿轮带动从动齿轮转动,从动齿轮带动主动轴转动,从而可使主动轴转动。
所述升降机构包括第三推杆电机、第二导轨、第二滑块和安装架,第二导轨竖直固定在工作架上,第二滑块设置在第二导轨上,第三推杆电机固定在工作架上,第三推杆电机的推杆竖直向上,第三推杆电机的推杆端部和第二滑块相连,安装架固定在第二滑块上,清洗槽固定在安装架上。
当需要使清洗槽上下移动时,控制第三推杆电机的推杆上下移动,第三推杆电机的推杆带动第二滑块沿着第二导轨上下移动,第二滑块带动安装架上下移动,安装架带动清洗槽上下移动,从而可使清洗槽上下移动。
所述清洗槽上还设置有能控制第三推杆电机动作的控制机构,控制机构包括第三滚轮、第二支架、第二安装板、行程开关、检测杆和第二控制器,第二安装板固定在清洗槽上,第二支架设置在第二安装板上,第二支架和第二安装板之间设置有第三弹簧,第三弹簧一端固定在第二支架上,第三弹簧另一端固定在第二安装板上,第三滚轮连接在第二支架上,且第三滚轮能与链带相接触,行程开关固定在第二支架上,检测杆固定在第二安装板上,且检测杆能和行程开关相接触,第三推杆电机、行程开关与该第二控制器相连。
当检测杆和行程开关接触时,清洗辊刚好和链带相接触,采用以上结构,通过第三推杆电机使清洗槽向上移动时,清洗槽使第三滚轮和链带相接触,随着清洗槽继续向上移动,第二安装板克服第三弹簧的弹力继续向上移动,第二安装板带动检测杆向上移动,检测杆和行程开关相接触,行程开关将信号传递给第二控制器,第二控制器控制第三推杆电机停止工作,确保清洗辊始终和链带接触,控制方便。
所述工作架上还设置有能对链带进行吹干的吹干机构,吹干机构包括气泵和若干输气管,若干输气管的出气端通过第二连接杆固定在工作架上,且该出气端朝向链带,若干输气管的进气端通过连接管和气泵相连,连接管中具有若干电加热管。
当需要对清洗好的链带进行吹干时,接通电机热管,气泵将加热后的空气通过连接管输送到输气管中,流到的空气将链带吹干,吹干方便。
所述连接管中还设置有流量调节阀。
采用以上结构,通过流量调节阀可调节连接管中的流量,调节方便。
与现有技术相比,本发明具有以下优点:
1、本发明中可连续对硅片进行扩散、刻蚀、清洗、刮涂和烧结,可实现连续不间断生产,生产效率高。
2、通过将导向块沿导向槽水平移动,导向块带动竖杆水平移动,竖杆带动侧部定位杆移动,可使其能定位不同规格的硅片,通用性强。
3、通过驱动气缸将风扇调节到合适的高度,通过驱动电机使风扇转动,可对工作箱进行冷却,确保臭氧的正常制备,工作稳定性好。
4、通过推杆电机带动刮条来回移动,使刮条与水平面所成的角度能够调节,可适应不同的刮涂要求,实用性强。
5、通过限位部一和限位部二形成的定位部定位硅片,采用该结构,改变了传统的顶针定位方式,避免硅片背面出现顶针点,产品质量好。
附图说明
图1是扩散装置的立体结构示意图。
图2是扩散装置拆去部分零件的立体结构示意图。
图3是扩散装置拆去部分零件的平面结构示意图。
图4是刻蚀装置的剖视图。
图5是刮涂装置的立体结构示意图。
图6是刮涂装置的平面结构示意图。
图7是烧结装置的平面结构示意图。
图8是图7中A处的局部放大示意图。
图9是烧结装置拆去部分零件的剖视图。
图10是烧结装置中喷水管的立体结构示意图。
图11是烧结装置中吹干机构的平面结构示意图。
图12是烧结装置中第二动力机构的平面结构示意图。
图13是本发明拆去部分零件的平面结构示意图。
图中,1、第一支架;1a、竖杆;1b、横杆;1b1、导向槽;1b2、定位孔;2、侧部定位杆;2a、第一放置槽;3、底部定位杆;3a、第二放置槽;4、吊环;5、第一定位件;6、导向块;6a、定位槽;7、限位块;8、第一滚轮;9、第一摆动杆;10、机架;11、工作箱;12、风扇;13、定位板;14、第一弹簧;15、驱动气缸;16、第一安装板;17、第一推杆电机;18、定位螺栓;19、第一连接杆;20、第二滚轮;21、显示屏;22、第一控制器;23、第一滑块;24、温度传感器;25、第一导轨;26、驱动电机;27、角度限位块;28、第二摆动杆;29、放电电极;30、刀架;31、定位螺钉;32、刮条;33、加强条;34、安装件;34a、安装槽;35、第三摆动杆;36、第二推杆电机;37、指示板;38、指针;39、工作架;40、水箱;41、输送管;42、水泵;43、接水盒;44、第二控制器;45、主动轴;46、链带;47、从动轴;48、安装架;49、第三推杆电机;50、第二滑块;51、第二导轨;52、第二安装板;53、检测杆;54、第三弹簧;55、行程开关;56、第二支架;57、第三滚轮;58、清洗辊;59、喷水管;59a、喷水孔;60、清洗槽;61、定位杆一;61a、限位部一;62、定位杆二;62a、限位部二;63、气泵;64、电加热管;65、流量调节阀;66、连接管;67、输气管;68、电机;69、从动齿轮;70、主动齿轮;71、底座;72、气缸;73、导柱;74、导套;75、工作台。
具体实施方式
以下是本发明的具体实施例并结合附图,对本发明的技术方案作进一步的描述,但本发明并不限于这些实施例。
如图13所示,本改良结构的用于制备电池片的生产系统,包括底座71,底座71上设置有工作台75,工作台75与一能带动其上下升降的升降结构相连,工作台75上依次设置有扩散装置、刻蚀装置、清洗装置、刮涂装置和烧结装置,在本实施例中,清洗装置采用检索到现有技术中的快速清洗装置;升降结构包括导柱73、导套74和气缸72,导柱73固定在底座71上,导套74固定在工作台75上,导套74滑动套接在导柱73上,气缸72的缸体固定在底座71上,气缸72的活塞杆竖直向上,气缸72的活塞杆端部和工作台75相连。
如图1、图2所示,扩散装置包括石英管,石英管设置在工作台75上,石英管内设置有石英舟,石英舟包括两个相对设置的第一支架1、两个底部定位杆3和两个侧部定位杆2,两个底部定位杆3分别与两个第一支架1的底边相固定,两个侧部定位杆2分别与两个第一支架1的两个侧边相固定,第一支架1呈U形,第一支架1包括横杆1b和两个竖杆1a,两个竖杆1a分别设置在横杆1b的两端,竖杆1a与横杆1b之间设置有调节机构,调节机构包括开设在横杆1b上的导向槽1b1、呈T形的导向块6和第一定位件5,第一定位件5的材料为石英,导向块6的材料也为石英;导向块6一端和竖杆1a相固定,导向块6另一端设置在导向槽1b1中,且导向块6能沿导向槽1b1水平移动,横杆1b上还开设有若干定位孔1b2,在本实施例中,定位孔1b2的数量为十个;且定位孔1b2和导向槽1b1相贯通,导向块6上开设有定位槽6a,且定位槽6a能与任意一个定位孔1b2相贯通,第一定位件5依次穿设在定位槽6a和定位孔1b2中;两个侧部定位杆2相对的一侧设有若干第一放置槽2a,两个底部定位杆3的上侧设有与第一放置槽2a相匹配的第二放置槽3a,第一放置槽2a和第二放置槽3a的截面均为V形,在本实施例中,第一放置槽2a和第二放置槽3a的数量为五百个,采用该结构,可使其能适应不同厚度的硅片,实用性强;通过将导向块6沿导向槽1b1水平移动,导向块6带动竖杆1a水平移动,竖杆1a带动侧部定位杆2移动,将侧部定位杆2调节到所需位置,将第一定位件5依次穿设在定位槽6a和定位孔1b2中,将竖杆1a固定在横杆1b上,可使其能定位不同规格的硅片,通用性强。
如图1所示,侧部定位杆2的长度与相邻的两个第一放置槽2a的间距之比为500:1或450:1,在本实施例中,侧部定位杆2的长度与相邻的两个第一放置槽2a的间距之比为500:1;相邻的两个第一放置槽2a的间距为2.25mm~2.35mm,在本实施例中,相邻的两个第一放置槽2a的间距为2.30mm。
如图1所示,第一支架1上设置有若干用于搬运的吊环4,在本实施例中,吊环4的数量为四个,吊环4的材料为石英。
如图3所示,第一支架1上还设置有第一滚轮8,第一滚轮8与一能带动其摆动的第一摆动机构相连;第一摆动机构包括第一摆动杆9和限位块7,第一摆动杆9一端和第一支架1相铰接,第一摆动杆9另一端和第一滚轮8相连接,限位块7固定在第一支架1上,且第一摆动杆9能和限位块7相抵靠;在本实施例中,第一摆动杆9和限位块7的材料均为石英;采用该结构当需要使用第一滚轮8时,转动第一摆动杆9,第一摆动杆9带动第一滚轮8摆动,将第一滚轮8放下,通过限位块7对第一摆动杆9进行限位;当不需要使用第一滚轮8时,转动第一摆动杆9,第一摆动杆9带动第一滚轮8摆动,将第一滚轮8收起。
如图4所示,刻蚀装置包括机架10,机架10设置在工作台75上,机架10上固定有刻蚀箱,机架10上还固定有工作箱11,工作箱11通过伸缩管和刻蚀箱相连通;工作箱11内固定有放电电极29,放电电极29采用市场上可以买到的现有产品;工作箱11内设置有用于对其进行冷却的风扇12,风扇12与一能带动其转动的第一动力机构相连,第一动力机构包括驱动电机26、第二摆动杆28和定位板13,定位板13设置在工作箱11内,定位板13与一能带动其上下移动的移动机构相连,驱动电机26固定在定位板13上,驱动电机26通过螺栓连接的方式固定在定位板13上;驱动电机26的输出轴竖直向上,驱动电机26的输出轴和第二摆动杆28一端相铰接,驱动电机26的输出轴与第二摆动杆28的铰接处设有角度限位块27,通过角度限位块27可对第二摆动杆28上下摆动时进行限位;第二摆动杆28另一端和风扇12相固定,第二摆动杆28的另一端通过螺栓连接的方式和风扇12相固定;移动机构包括驱动气缸15和第一安装板16,驱动气缸15的缸体固定在机架10上,驱动气缸15的缸体通过螺栓连接的方式固定在机架10上;驱动气缸15的活塞杆竖直向上,驱动气缸15的活塞杆端部伸入工作箱11内和第一安装板16相固定,定位板13设置在第一安装板16上,定位板13和第一安装板16之间设置有第一弹簧14,第一弹簧14一端和定位板13相连,第一弹簧14另一端和第一安装板16相连,通过第一弹簧14的弹力作用,可对定位板13进行减震。
如图4所示,机架10上还设置有能检测工作箱11内温度的测温机构,采用该结构,通过测温机构可快速检测工作箱11内的温度;测温机构包括第一控制器22、温度传感器24、第一推杆电机17、第一导轨25和第一滑块23,第一导轨25竖直固定在工作箱11内,第一导轨25通过螺栓连接的方式固定在工作箱11内;第一滑块23设置在第一导轨25上,第一推杆电机17固定在机架10上,第一推杆电机17通过螺栓连接的方式固定在机架10上;第一推杆电机17的推杆竖直向上,第一推杆电机17的推杆端部和第一滑块23相连,第一推杆电机17的推杆端部通过螺栓连接的方式和第一滑块23相连;温度传感器24通过连杆固定在第一滑块23上,显示屏21固定在机架10上,显示屏21通过螺栓连接的方式固定在机架10上;第一推杆电机17、温度传感器24和显示屏21均与该第一控制器22相连,在本实施例中,第一控制器22采用市场上可以买到的单片机,单片机控制电机、气缸、传感器和显示屏的程序有现有,其程序不需要重新编辑;驱动气缸15与第一控制器22相连,采用该结构,通过第一控制器22可控制驱动气缸15动作。
如图4所示,机架10上还设置有第二滚轮20,第二滚轮20与一能带动其摆动的第二摆动机构相连;第二摆动机构包括第一连接杆19和定位螺栓18,第一连接杆19一端和机架10相铰接,第一连接杆19另一端和第二滚轮20相连接,定位螺栓18螺纹连接在第一连接杆19上,且定位螺栓18端部能抵靠机架10上;采用该结构,当需要使用第二滚轮20时,转动第一连接杆19,第一连接杆19带动第二滚轮20摆动,将第二滚轮20放下,通过定位螺栓18对第一连接杆19进行定位;当不需要使用第二滚轮20时,转动第一连接杆19,第一连接杆19带动第二滚轮20摆动,将第二滚轮20收起,通过定位螺栓18对第一连接杆19进行定位。
该刻蚀装置的过程如下:硅片在刻蚀箱中发生刻蚀反应,通过放电电极29产生臭氧,通过输送管输送到刻蚀箱中;该过程中会使工作箱11内温度升高,第一控制器22控制第一推杆电机17的推杆上下移动,第一推杆电机17的推杆带动第一滑块23上下移动,第一滑块23带动连杆上下移动,连杆带动温度传感器24上下移动,温度传感器24将检测到的信号传递给第一控制器22,第一控制器22控制显示屏21显示其检测到的温度值,同时,第一控制器22控制驱动气缸15的活塞杆上下移动,驱动气缸15的活塞杆带动第一安装板16上下移动,第一安装板16带动定位板13上下移动,将风扇12调节到所需高度;控制驱动电机26带动第二摆动杆28转动,第二摆动杆28带动风扇12转动,随着风扇12的转动,可对工作箱11进行冷却,确保臭氧的正常制备。
如图5、图6所示,刮涂装置包括定位架,定位架设置在工作台75上,定位架上设置有斜刮刀,斜刮刀包括刮条32、安装件34和刀架30,刮条32的材料为橡胶;刮条32的截面为正方形,刮条32通过一可拆卸结构设置在安装件34上,安装件34设置在刀架30上,安装件34与一能带动其摆动的第三摆动机构相连,第三摆动机构包括第二推杆电机36和第三摆动杆35,第三摆动杆35一端和刀架30相铰接,第三摆动杆35另一端和安装件34相固连,第三摆动杆35的另一端通过螺栓连接的方式和安装件34相固连;第二推杆电机36铰接在刀架30上,第二推杆电机36的推杆倾斜设置,第二推杆电机36的推杆端部和第三摆动杆35中部相铰接,刀架30上还设置有角度指示机构。
如图5、图6所示,安装件34的材料为不锈钢,安装件34上还具有若干加强条33,在本实施例中,加强条33的数量为十根;采用该结构,通过加强条33可增加安装件34的整体强度。
如图5、图6所示,可拆卸结构包括开设在安装件34上的安装槽34a和定位螺钉31,刮条32能插入到安装槽34a中,定位螺钉31螺纹连接在安装件34上,且定位螺钉31的端部能抵靠在刮条32上,采用该结构,通过转动定位螺钉31,可将刮条32从安装件34的安装槽34a中取出,拆装方便;根据实际情况,可以采用该种实施方案,可拆卸结构包括开设在安装件34上的安装槽34a和限位杆,刮条32能插入到安装槽34a中,限位杆一端和安装件34相铰接,限位杆另一端能和刮条32相抵靠,安装槽34a上还具有凸出的限位部,刮条32四个侧面上开设有与限位部相对应的限位槽。
如图5、图6所示,角度指示机构包括具有角度值的指示板37和指针38,指示板37固定在第三摆动杆35上,指示板37通过螺栓连接的方式固定在第三摆动杆35上;指针38固定在刀架30上,指针38通过螺栓连接的方式固定在刀架30上;且指针38朝向指示板37。
该刮涂装置的过程如下:当需要对硅片进行刮涂时,控制第二推杆电机36的推杆来回移动,第二推杆电机36的推杆带动第三摆动杆35来回移动,第三摆动杆35带动安装件34来回移动,安装件34带动刮条32来回移动,使刮条32与水平面所成的角度能够调节,适应不同的刮涂要求;在本实施例中,可使刮条32与水平面所成的角度为70°。
如图7、图8、图9所示,烧结装置包括工作架39,工作架39设置在工作台75上,工作架39两端分别设置有主动轴45和从动轴47,主动轴45与一能带动其转动的第二动力机构相连,主动轴45和从动轴47上套设有呈环形的链带46,链带46上设置有若干用于定位硅片的第二定位件,在本实施例中,第二定位件的数量为一百个;第二定位件包括定位杆一61和定位杆二62,定位杆一61和定位杆二62分别固定在链带46的两侧,定位杆一61上具有凸出的限位部一61a,定位杆二62上具有凸出的限位部二62a,限位部一61a和限位部二62a之间形成用于定位硅片的定位部,采用该结构,改变了传统的顶针定位方式,避免硅片背面出现顶针点,产品质量好;工作架39上设置有能对链带46进行清洗的清洗结构,清洗结构包括用于盛放清洗液的清洗槽60,在本实施例中,清洗液采用市场上可以买到的酸性溶液,可以是草酸或白醋;清洗槽60设置在工作架39上,清洗槽60与一能带动其上下升降的升降机构相连,清洗槽60内设置有若干清洗辊58,在本实施例中,清洗辊58的数量为五个;且清洗辊58能和链带46相接触。
如图7、图8、图10所示,清洗结构还包括用于盛放清水的水箱40、喷水管59和接水盒43,喷水管59通过定位杆固定在清洗槽60上,喷水管59一端为封闭端,喷水管59另一端通过输送管41和水箱40相连,喷水管59侧面还开设有若干喷水孔59a,在本实施例中,喷水孔59a的数量为十个;喷水孔59a朝向链带46,输送管41中设置有水泵42,接水盒43固定在工作架39上,接水盒43通过螺栓连接的方式固定在工作架39上;且接水盒43位于喷水管59正下方。
如图12所示,第二动力机构包括电机68、主动齿轮70和从动齿轮69,电机68固定在工作架39上,电机68通过螺栓连接的方式固定在工作架39上;电机68的输出轴水平设置,主动齿轮70固定在电机68的输出轴上,从动齿轮69固定在主动轴45上,主动齿轮70与从动齿轮69相啮合。
如图7、图8所示,升降机构包括第三推杆电机49、第二导轨51、第二滑块50和安装架48,第二导轨51竖直固定在工作架39上,第二导轨51通过螺栓连接的方式固定在工作架39上;第二滑块50设置在第二导轨51上,第三推杆电机49固定在工作架39上,第三推杆电机49通过螺栓连接的方式固定在工作架39上;第三推杆电机49的推杆竖直向上,第三推杆电机49的推杆端部和第二滑块50相连,安装架48固定在第二滑块50上,安装架48通过螺栓连接的方式固定在第二滑块50上;清洗槽60固定在安装架48上,清洗槽60通过焊接的方式固定在安装架48上。
如图7、图8所示,清洗槽60上还设置有能控制第三推杆电机49动作的控制机构,控制机构包括第三滚轮57、第二支架56、第二安装板52、行程开关55、检测杆53和第二控制器44,第二安装板52固定在清洗槽60上,第二安装板52通过螺栓连接的方式固定在清洗槽60上;第二支架56设置在第二安装板52上,第二支架56和第二安装板52之间设置有第三弹簧54,第三弹簧54一端固定在第二支架56上,第三弹簧54另一端固定在第二安装板52上,第三滚轮57连接在第二支架56上,且第三滚轮57能与链带46相接触,行程开关55固定在第二支架56上,行程开关55通过螺栓连接的方式固定在第二支架56上;检测杆53固定在第二安装板52上,检测杆53通过螺栓连接的方式固定在第二安装板52上;且检测杆53能和行程开关55相接触,第三推杆电机49、行程开关55与该第二控制器44相连,在本实施例中,第二控制器44采用市场上可以买到的单片机,单片机控制电机和行程开关的程序为现有,其程序不要重新编辑。
如图11所示,工作架39上还设置有能对链带46进行吹干的吹干机构,吹干机构包括气泵63和若干输气管67,若干输气管67的出气端通过第二连接杆固定在工作架39上,且该出气端朝向链带46,若干输气管67的进气端通过连接管66和气泵63相连,连接管66中具有若干电加热管64;在本实施例中,输气管67的数量为五根,电加热管64的数量为三根;连接管66中还设置有流量调节阀65。
该烧结履带的工作原理如下:在硅片烧结过程中,通过定位杆一61和定位杆二62将其定位在链带46上,熔化的铝浆在冷却时会凝固在链带46上;控制第三推杆电机49的推杆上下移动,第三推杆电机49的推杆带动第二滑块50上下移动,第二滑块50带动安装架48上下移动,安装架48带动清洗槽60上下移动,清洗槽60带动清洗辊58上下移动,使清洗辊58和链带46相接触;控制电机68的输出轴转动,电机68的输出轴带动主动齿轮70转动,主动齿轮70带动从动齿轮69转动,从动齿轮69带动主动轴45转动,主动轴45带动链带46转动,链带46带动清洗辊58转动,清洗辊58将清洗槽60内的清洗液涂在链带46上,使铝浆从链带46上脱离;通过水泵42将水箱40中的水输送到喷水管59中,喷水管59将链带46上的清洗液和铝浆冲洗掉;通过气泵63将加热后的空气输送到输气管67中,流到的空气将链带46吹干。

Claims (6)

1.改良结构的用于制备电池片的生产系统,包括底座,其特征在于,所述底座上设置有工作台,工作台与一能带动其上下升降的升降结构相连,工作台上依次设置有扩散装置、刻蚀装置、清洗装置、刮涂装置和烧结装置;升降结构包括导柱、导套和气缸,导柱固定在底座上,导套固定在工作台上,导套滑动套接在导柱上,气缸的缸体固定在底座上,气缸的活塞杆竖直向上,气缸的活塞杆端部和工作台相连;所述扩散装置包括石英管,石英管设置在工作台上,石英管内设置有石英舟,石英舟包括两个相对设置的第一支架、两个底部定位杆和两个侧部定位杆,两个底部定位杆分别与两个第一支架的底边相固定,两个侧部定位杆分别与两个第一支架的两个侧边相固定,所述第一支架呈U形,第一支架包括横杆和两个竖杆,两个竖杆分别设置在横杆的两端,竖杆与横杆之间设置有调节机构,调节机构包括开设在横杆上的导向槽、呈T形的导向块和第一定位件,导向块一端和竖杆相固定,导向块另一端设置在导向槽中,且导向块能沿导向槽水平移动,横杆上还开设有若干定位孔,且定位孔和导向槽相贯通,导向块上开设有定位槽,且定位槽能与任意一个定位孔相贯通,第一定位件依次穿设在定位槽和定位孔中;两个侧部定位杆相对的一侧设有若干第一放置槽,两个底部定位杆的上侧设有与第一放置槽相匹配的第二放置槽,第一放置槽和第二放置槽的截面均为V形。
2.根据权利要求1所述的改良结构的用于制备电池片的生产系统,其特征在于,所述第一定位件的材料为石英。
3.根据权利要求1所述的改良结构的用于制备电池片的生产系统,其特征在于,所述刻蚀装置包括机架,机架设置在工作台上,机架上固定有刻蚀箱,机架上还固定有工作箱,工作箱通过伸缩管和刻蚀箱相连通;工作箱内固定有放电电极,所述工作箱内设置有用于对其进行冷却的风扇,风扇与一能带动其转动的第一动力机构相连,第一动力机构包括驱动电机、第二摆动杆和定位板,定位板设置在工作箱内,定位板与一能带动其上下移动的移动机构相连,驱动电机固定在定位板上,驱动电机的输出轴竖直向上,驱动电机的输出轴和第二摆动杆一端相铰接,驱动电机的输出轴与第二摆动杆的铰接处设有角度限位块,第二摆动杆另一端和风扇相固定;移动机构包括驱动气缸和第一安装板,驱动气缸的缸体固定在机架上,驱动气缸的活塞杆竖直向上,驱动气缸的活塞杆端部伸入工作箱内和第一安装板相固定,定位板设置在第一安装板上,定位板和第一安装板之间设置有第一弹簧,第一弹簧一端和定位板相连,第一弹簧另一端和第一安装板相连。
4.根据权利要求3所述的改良结构的用于制备电池片的生产系统,其特征在于,所述机架上还设置有能检测工作箱内温度的测温机构。
5.根据权利要求4所述的改良结构的用于制备电池片的生产系统,其特征在于,所述测温机构包括第一控制器、温度传感器、第一推杆电机、第一导轨和第一滑块,第一导轨竖直固定在工作箱内,第一滑块设置在第一导轨上,第一推杆电机固定在机架上,第一推杆电机的推杆竖直向上,第一推杆电机的推杆端部和第一滑块相连,温度传感器通过连杆固定在第一滑块上,显示屏固定在机架上,第一推杆电机、温度传感器和显示屏均与该第一控制器相连。
6.根据权利要求5所述的改良结构的用于制备电池片的生产系统,其特征在于,所述驱动气缸与上述第一控制器相连。
CN201810063155.8A 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统 Active CN108281375B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810063155.8A CN108281375B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810063155.8A CN108281375B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统
CN201610150436.8A CN105789104B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 一种用于制备电池片的生产系统

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610150436.8A Division CN105789104B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 一种用于制备电池片的生产系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108281375A true CN108281375A (zh) 2018-07-13
CN108281375B CN108281375B (zh) 2021-05-28

Family

ID=56393847

Family Applications (6)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810063129.5A Pending CN108091731A (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统中的扩散装置
CN201810063860.8A Pending CN108321112A (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统中的刮涂装置
CN201810063481.9A Pending CN108336010A (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统中的烧结装置
CN201810063155.8A Active CN108281375B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统
CN201810063552.5A Pending CN108321111A (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统中的刻蚀装置
CN201610150436.8A Expired - Fee Related CN105789104B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 一种用于制备电池片的生产系统

Family Applications Before (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810063129.5A Pending CN108091731A (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统中的扩散装置
CN201810063860.8A Pending CN108321112A (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统中的刮涂装置
CN201810063481.9A Pending CN108336010A (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统中的烧结装置

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810063552.5A Pending CN108321111A (zh) 2016-03-16 2016-03-16 用于制备电池片的生产系统中的刻蚀装置
CN201610150436.8A Expired - Fee Related CN105789104B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 一种用于制备电池片的生产系统

Country Status (1)

Country Link
CN (6) CN108091731A (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108857116B (zh) * 2018-08-07 2020-12-18 无锡旭邦精密机械有限公司 一种花篮通用焊接系统
CN109360868B (zh) * 2018-11-15 2020-01-14 浙江艾能聚光伏科技股份有限公司 一种太阳能电池片的加工生产线
CN109610003A (zh) * 2019-01-02 2019-04-12 天津大学 一种新型可控有机晶体生长设备及其制备有机单晶的方法
CN112372466A (zh) * 2020-10-27 2021-02-19 杭州职业技术学院 一种汽车配件加工专用的磨床
CN113062896B (zh) * 2021-03-18 2022-09-27 秦皇岛金辰太阳能设备有限公司 顶针杆的驱动方法及负压顶升式光伏组件层压机

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101106100B1 (ko) * 2009-08-28 2012-01-18 주식회사 포틱스 솔라 셀 웨이퍼 피치조절장치
CN203085500U (zh) * 2012-12-28 2013-07-24 常州亿晶光电科技有限公司 扩散石英舟
CN105006444A (zh) * 2015-07-03 2015-10-28 陈�光 一种高效晶硅太阳能电池片的生产工艺

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3732062A (en) * 1972-01-20 1973-05-08 J Porteus Method of and apparatus for reducing air pollution in the thermal processing of ores and other materials
DE2811505C2 (de) * 1978-03-16 1985-11-21 Gustav Schade Maschinenfabrik Gmbh & Co, 4600 Dortmund Entspeicherungskratzer
JP2002122340A (ja) * 2000-10-16 2002-04-26 Sony Corp 半導体装置の製造装置
CN101154718A (zh) * 2006-09-28 2008-04-02 天津众拓科技有限公司 针式电池封口方法及专用设备
CN201240843Y (zh) * 2008-07-31 2009-05-20 江阴华东医疗科技有限公司 小型高效管状集中式臭氧发生器
CN102544228B (zh) * 2011-09-22 2013-12-25 浙江绿远光伏科技有限公司 晶体硅太阳能电池气体动态扩散装置
CN102437078A (zh) * 2011-12-06 2012-05-02 兴安吉阳设备有限公司 太阳能电池片网带输送时降低电池片跑偏率的方法及装置
CN202758856U (zh) * 2012-07-23 2013-02-27 恒昇新能源光伏(苏州)科技有限公司 一种石英舟
CN203449751U (zh) * 2013-09-02 2014-02-26 浙江劲豹机械有限公司 刮刀角度调整与锁紧装置
CN204118098U (zh) * 2014-07-22 2015-01-21 广东爱康太阳能科技有限公司 一种Cu电极太阳能电池的生产系统
CN104409562B (zh) * 2014-10-30 2016-06-22 广东爱康太阳能科技有限公司 一种选择性发射电极太阳能电池的制备方法及制备系统
CN204732429U (zh) * 2015-07-03 2015-10-28 陈�光 一种晶硅太阳能电池片的生产设备
CN105789376B (zh) * 2016-03-10 2017-03-22 浙江晶能光电有限公司 一种太阳能电池片的制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101106100B1 (ko) * 2009-08-28 2012-01-18 주식회사 포틱스 솔라 셀 웨이퍼 피치조절장치
CN203085500U (zh) * 2012-12-28 2013-07-24 常州亿晶光电科技有限公司 扩散石英舟
CN105006444A (zh) * 2015-07-03 2015-10-28 陈�光 一种高效晶硅太阳能电池片的生产工艺

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JEFFREY, F.R.: "Continuous fabrication of amorphous silicon solar cells on polymer substrates", 《PROCEEDINGS OF THE SPIE - THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING 》 *
赵汝强; 梁宗存; 李军勇; 金井升; 沈辉: "晶体硅太阳电池工艺技术新进展", 《材料导报》 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN108321112A (zh) 2018-07-24
CN108321111A (zh) 2018-07-24
CN105789104A (zh) 2016-07-20
CN105789104B (zh) 2018-03-16
CN108336010A (zh) 2018-07-27
CN108281375B (zh) 2021-05-28
CN108091731A (zh) 2018-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108281375A (zh) 改良结构的用于制备电池片的生产系统
CN105789376B (zh) 一种太阳能电池片的制备方法
CN218774229U (zh) 一种可伸缩式的消防测试烟枪
CN220793897U (zh) 一种碳化硅加工降温水风冷却设备
CN220366429U (zh) 一种电锅炉用维护设备
CN109850872A (zh) 碳纳米管宏观体成膜机
CN102221488B (zh) 具有固体吸附剂管的气体恒流采样装置及方法
CN213494532U (zh) 一种太阳能坩埚喷涂旋转装置
CN218272156U (zh) 一种烟气污染物含量监测装置
CN215466526U (zh) 一种用于焙烧砂用的自动进料设备
CN213873239U (zh) 一种自循环式高转化效率的太阳能热水器
CN202083580U (zh) 具有固体吸附剂管的气体恒流采样装置
CN208562505U (zh) 一种低温真空镀膜装置
CN216410829U (zh) 一种实验室检测用旋转蒸发器
CN220249461U (zh) 一种辅助汽轮机安装的升降移动装置
CN213315760U (zh) 一种便于更换喷头和多角度喷涂的零部件加工用喷涂装置
CN221919893U (zh) 一种绿色建筑节能墙
CN110819919A (zh) 一种车体铝合金加工用固溶淬火装置
CN114783705B (zh) 一种室外用变电站绝缘除冰装置
CN109570772A (zh) 一种可减少污染的便于维修的激光制造装置
CN215002033U (zh) 一种氧化铝生产车间用喷雾设备
CN221411125U (zh) 一种适用于吸尘器的一体式滚刷
CN221473715U (zh) 一种钛棒用切割设备
CN219817219U (zh) 一种可调节喷射角度的喷淋器
CN210345927U (zh) 带空气源热泵装置的太阳能热水器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20210508

Address after: 317000 Zhenjie Road Village, Yanjiang Town, Linhai City, Taizhou City, Zhejiang Province, 136

Applicant after: Lin Xiaoli

Address before: 314406 2 / F, building 1, No. 9, Xinjian Road, Xieqiao Industrial Park, Haining City, Jiaxing City, Zhejiang Province

Applicant before: ZHEJIANG CHAOCHEN ENERGY TECHNOLOGY Co.,Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20221013

Address after: 702, Floor 7, Building 2, Yard 82, Liuxiang Road, Fengtai District, Beijing 100071

Patentee after: Beijing Fulin Technology Co.,Ltd.

Address before: 317000 Zhenjie Road Village, Yanjiang Town, Linhai City, Taizhou City, Zhejiang Province, 136

Patentee before: Lin Xiaoli

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20221206

Address after: 102200 Room 1201, Building 2, Yard 75, Lusong Street, Changping District, Beijing (International Energy and Power Innovation Center)

Patentee after: Beijing Longnuo Technology Co.,Ltd.

Address before: 702, Floor 7, Building 2, Yard 82, Liuxiang Road, Fengtai District, Beijing 100071

Patentee before: Beijing Fulin Technology Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right