CN108227371A - 掩模板探伤装置及探伤方法 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种掩模板探伤装置及探伤方法，涉及显示技术领域。该掩模板探伤装置包括：光量接收器，设置于掩模板载物台的一侧并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。本公开可及时发现掩模板表面的划伤或污染，从而避免产生批量产品的不良，还能提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。

Description

掩模板探伤装置及探伤方法

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模板探伤装置及探伤方法。

背景技术

曝光机在显示器和触控屏的制造工艺中具有重要的作用。现有技术中，根据曝光方式的不同，曝光机可以分为Lens Projection(棱镜投影式)、Mirror Projection(镜面投影式)、Proximity(接近式)、以及Contact(接触式)四大类。其中，接近式曝光机因其较低的成本以及合适的解析度而广泛的应用于彩膜基板以及触摸屏等领域的制造。

在实际生产中的曝光流程如下：首先，在生产前将掩模板加载至待曝光区域；然后，在生产时待曝光基板会被放置在曝光台上，通过各个方向的协调以将曝光台移动至待曝光区域，并与掩模板实现精确的位置匹配，且掩模板与待曝光基板之间的间距保持在150～400um；此时，掩模板上方的光源遮光罩打开以对待曝光基板进行曝光，并在达到设定的曝光时间时关闭遮光罩以结束曝光；最后，曝光台下降并移动至卸载区域，以实现曝光后基板的卸载。

基于上述过程，在使用接近式曝光机进行曝光时，由于待曝光基板与掩模板之间的间距极小(约为150～400um)，因此基板表面的微小异物以及曝光机动作时引起环境中扰动的异物很容易引发掩模板的损伤，而现有技术无法做到及时的发现掩模板损伤，这样便会造成批量产品的不良，同时导致无法继续生产，从而造成产能损失。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种掩模板探伤装置及探伤方法，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

根据本公开的一个方面，提供一种掩模板探伤装置，包括：

光量接收器，设置于掩模板载物台的一端并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；

光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；

计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；

报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。

本公开的一种示例性实施例中，所述计算模块包括：

信号存储单元，用于存储基于未损伤的参考掩模板经过所述光电转换而得到的参考电信号。

本公开的一种示例性实施例中，所述计算模块包括：

阈值设定单元，用于为所述掩模板的探伤设定所述阈值范围。

本公开的一种示例性实施例中，所述阈值设定单元包括：

第一阈值设定子单元，用于获取基于携带颗粒的第一掩模板经过所述光电转换而得到的第一电信号，并根据所述第一电信号与所述参考电信号设定阈值下限；

第二阈值设定子单元，用于获取基于损伤的第二掩模板经过所述光电转换而得到的第二电信号，并根据所述第二电信号与所述参考电信号设定阈值上限。

本公开的一种示例性实施例中，所述第二掩模板为铬掩模板。

本公开的一种示例性实施例中，所述掩模板探伤装置还包括：

反馈模块，用于在发出警报的同时反馈一控制信号至曝光设备，以使所述曝光设备停止工作。

本公开的一种示例性实施例中，所述掩模板探伤装置还包括：

导轨，并行设置在所述掩模板载物台上方的两侧；

电机，设置在所述导轨上且与所述光量接收器相连，用于控制所述光量接收器沿所述掩模板载物台的下方运动。

根据本公开的一个方面，提供一种掩模板探伤方法，包括：

接收透过待测掩模板的光信号并将所述光信号转换成电信号；

将所述电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；

在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。

本公开的一种示例性实施例中，所述接收透过待测掩模板的光信号包括：

通过并行设置在掩模板载物台上方的导轨以及设置在所述导轨上的电机控制光量接收器沿所述掩模板载物台的下方运动，以使所述光量接收器接收透过所述待测掩模板的光信号。

本公开的一种示例性实施例中，所述掩模板探伤方法还包括：

基于未损伤的参考掩模板获取参考光信号并将所述参考光信号转换成参考电信号以进行存储。

本公开的一种示例性实施例中，所述掩模板探伤方法还包括：

根据所述参考电信号为所述掩模板的探伤设定所述阈值范围。

本公开的一种示例性实施例中，所述根据所述参考电信号为所述掩模板的探伤设定所述阈值范围包括：

获取基于携带颗粒的第一掩模板经过光电转换而得到的第一电信号，并根据所述第一电信号与所述参考电信号设定阈值下限；

获取基于损伤的第二掩模板经过光电转换而得到的第二电信号，并根据所述第二电信号与所述参考电信号设定阈值上限。

本公开的一种示例性实施例中，所述掩模板探伤方法还包括：

在发出警报的同时还反馈一控制信号至曝光设备，以使所述曝光设备在预设时段后停止工作。

本公开示例性实施方式所提供的掩模板探伤装置及探伤方法，通过在掩模板载物台的下方接收透过掩模板的光信号并将光信号转换为相应的电信号，再将基于待测掩模板获取到的电信号与基于完好掩模板获取到的参考电信号进行对比，以根据对比结果判断待测掩模板的表面状态是否异常例如是否存在划伤或污染，从而在掩模板的表面状态异常时发出警报。基于此，所述掩模板探伤装置可在生产过程中及时的发现掩模板表面的划伤或污染，这样不仅能够有效的避免产生批量产品的不良，还可以通过警报的方式提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示意性示出本公开示例性实施例中掩模板探伤装置的结构框图；

图2示意性示出本公开示例性实施例中掩模板探伤装置的结构示意图；

图3示意性示出本公开示例性实施例中计算模块的结构框图；

图4示意性示出本公开示例性实施例中阈值下限的设定过程示意图；

图5示意性示出本公开示例性实施例中阈值上限的设定过程示意图；

图6示意性示出本公开示例性实施例中掩模板探伤方法的流程图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而，示例实施例能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施例使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知技术方案以避免使本公开的各方面变得模糊。

此外，附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。附图中各层的厚度和形状不反映真实比例，仅是为了便于说明本公开的内容。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对它们的重复描述。

本示例实施方式提供了一种掩模板探伤装置10，用于对掩模板进行探伤检测；如图1所示，该掩模板探伤装置10可以包括：

光量接收器101，设置于掩模板载物台100的一端并能沿掩模板载物台100的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；

光电转换模块102，用于将光信号转换为电信号；

计算模块103，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；

报警模块104，用于在对比结果超出阈值范围时发出警报。

需要说明的是：所述参考电信号是基于无颗粒且无损伤的完好掩模板经过光电转换而得到的电信号，其可在掩模板探伤检测的过程中用作对比标准。

本公开示例性实施方式所提供的掩模板探伤装置10，通过在掩模板载物台100的下方接收透过掩模板的光信号并将光信号转换为相应的电信号，再将基于待测掩模板获取到的电信号与基于完好掩模板获取到的参考电信号进行对比，以根据对比结果判断待测掩模板的表面状态是否异常例如是否存在划伤或污染，从而在掩模板的表面状态异常时发出警报。基于此，所述掩模板探伤装置10可在生产过程中及时的发现掩模板表面的划伤或污染，这样不仅能够有效的避免产生批量产品的不良，还可以通过警报的方式提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。

本示例实施方式中，如图2所示，所述掩模板探伤装置10还可以包括一组并行设置在掩模板载物台100上方两侧的导轨105，以及设置在导轨105上且与光量接收器101相连的电机106。其中，所述导轨105可以为线性导轨，分别设置在掩模板载物台100的两个长边方向；所述电机106可用于控制光量接收器101沿掩模板载物台100的下方运动，例如控制光量接收器101从掩模板载物台100的一端匀速移动到掩模板载物台100的另一端。

示例的，所述光量接收器101可以为条形接收器，该条形接收器的两端分别通过两个连接件与导轨105上的两电机106相连。每次装载完掩模板之后，该光量接收器101可在导轨105与电机106的控制下移动至掩模板下方的初始位置，此时光源的遮光罩打开，光量接收器101匀速的从掩模板的一端移动到掩模板的另一端，从而得到掩模板的整面光量信息。

本示例实施方式中，如图3所示，所述计算模块103可以包括：信号存储单元1031，用于存储基于未损伤的参考掩模板经过光电转换而得到的参考电信号。

需要说明的是：所述未损伤的参考掩模板可以是指尚未进行曝光工艺的掩模板，即每次新装载的掩模板。也就是说，在准备采用掩模板进行生产之前先对其进行原始透光量的采集，并将采集到的光信号转换为电信号，该电信号即为后续作为对比标准的参考电信号。

这样一来，由于参考电信号是基于同一张掩模板经过光电转换而得到的，因此数据误差小，对比结果更加准确。

本示例实施方式中，参考图3所示，所述计算模块103还可以包括：阈值设定单元1032，用于为掩模板的探伤设定阈值范围。其中，所述阈值设定单元1032具体可以分为第一阈值设定子单元即阈值下限设定子单元以及第二阈值设定子单元即阈值上限设定子单元。

所述第一阈值设定子单元可用于获取基于携带颗粒的第一掩模板经过光电转换而得到的第一电信号，并根据该第一电信号与参考电信号来设定阈值下限。其中，所述颗粒是指第一掩模板表面的污染物，该颗粒的大小可以根据需求来具体设定，例如可以选择加工工艺中最常见的颗粒异物的尺寸平均值或上限(下限)值，然而本公开不限于此。基于此，如图4所示，当设定阈值下限时，可在掩模板40的透光区域401放置一指定大小的颗粒402，该颗粒402的存在会直接导致透光量的下降，从而引起第一电信号的衰减。这样一来，通过计算衰减信号的百分比即参考电信号和第一电信号的差值与参考电信号的百分比，便可以此作为阈值下限。

所述第二阈值设定单元可用于获取基于损伤的第二掩模板经过光电转换而得到的第二电信号，并根据该第二电信号与参考电信号来设定阈值上限。其中，所述第二掩模板可以采用表面受损的铬Cr膜掩模板。基于此，如图5所示，当设定阈值上限时，可检测透光区域401受损的掩模板40的透光量，该受损区域的存在会直接导致透光量的上升，从而引起第二电信号的增强。这样一来，通过计算增强信号的百分比即第二电信号和参考电信号的差值与参考电信号的百分比，便可以此作为阈值上限。

需要说明的是：阈值范围的设定仅需在使用该掩模板之初设定一次即可。当然，当更换不同的掩模板时，便需要对新更换的掩模板重新设定阈值范围。

基于以上描述，可选地，所述计算模块103还具有智能学习功能，其例如可以根据已学习的多个参考电信号来对基于待测掩模板所得到的电信号进行对比匹配，从而判断对比结果是否超出阈值范围。

本示例实施方式中，所述掩模板探伤装置10还可以进一步包括：反馈模块，用于在发出警报的同时反馈一控制信号至曝光设备，以使曝光设备在预设时段后停止工作。其中，该预设时段可以根据工作人员进行现场确认所需的时间而定。

这样一来，所述掩模板探伤装置10便可以在掩模板的表面状态异常时反馈给曝光设备，以使曝光设备在一定时间段后自动停止工作，该时间段是为工作人员进行现场确认预留的时间，如果超出该时间段依然无人确认，则为了减少损失，曝光设备可先自动停止工作，直至工作人员进行恢复。

举例而言，在实际生产过程中，曝光设备在对每张待曝光基板进行曝光之前，所述掩模板探伤装置10都会对掩模板进行一次完整的扫描，通过将扫描得到的光信号转换为电信号并将该电信号与参考电信号进行对比，便可以根据对比结果判断其是否超出阈值范围，在阈值范围以内时曝光工艺正常进行，在超出阈值范围时则进行报警，工作人员进行现场确认。在此基础上，若超出一定时间仍无人确认，曝光设备还可自动停止工作以减小损失。

基于此，本示例实施方式还提供了一种掩模板探伤方法，用于对掩模板进行探伤检测；如图6所示，该掩模板探伤方法可以包括：

S1、接收透过待测掩模板的光信号并将光信号转换成电信号；

S2、将电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；

S3、在对比结果超出所述阈值范围时发出警报。

本公开示例性实施方式所提供的掩模板探伤方法，通过接收透过掩模板的光信号并将光信号转换为相应的电信号，再将基于待测掩模板获取到的电信号与基于完好掩模板获取到的参考电信号进行对比，以根据对比结果判断待测掩模板的表面状态是否异常例如是否存在划伤或污染，从而在掩模板的表面状态异常时发出警报。基于此，所述掩模板探伤方法可在生产过程中及时的发现掩模板表面的划伤或污染，这样不仅能够有效的避免产生批量产品的不良，还可以通过警报的方式提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。

下面结合附图对本示例实施方式所提供的掩模板探伤方法进行详细的描述。

在步骤S1中，接收透过待测掩模板的光信号并将光信号转换成电信号。

本示例实施方式中，参考图2所示，所述接收透过待测掩模板的光信号具体可以包括：通过并行设置在掩模板载物台100上方的导轨105以及设置在导轨105上的电机106控制光量接收器101沿掩模板载物台100的下方运动例如从掩模板载物台100的一端匀速移动到掩模板载物台100的另一端，以使光量接收器101接收透过待测掩模板的整面光量信息即光信号。

本示例实施方式中，所述将光信号转换成电信号具体可以通过光电转换模块102来实现。

在步骤S2中，将电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围。

本示例实施方式中，所述参考电信号的获取方法可以包括：基于未损伤的参考掩模板获取参考光信号并将该参考光信号转换成参考电信号以进行存储。

需要说明的是：所述未损伤的参考掩模板可以是指尚未进行曝光工艺的掩模板，即每次新装载的掩模板。也就是说，在准备采用掩模板进行生产之前先对其进行原始透光量的采集，并将采集到的光信号转换为电信号，该电信号即为后续作为对比标准的参考电信号。

本示例实施方式中，所述阈值范围的设定方法可以包括：根据参考电信号为掩模板的探伤设定阈值范围；其中，所述阈值范围包括阈值下限和阈值上限。

所述阈值下限的设定方法为：获取基于携带颗粒的第一掩模板经过光电转换而得到的第一电信号，并根据第一电信号与参考电信号设定阈值下限；其中，所述阈值下限可以设定为参考电信号和第一电信号的差值与参考电信号的百分比。

所述阈值上限的设定方法为：获取基于损伤的第二掩模板经过光电转换而得到的第二电信号，并根据第二电信号与参考电信号设定阈值上限；其中，所述阈值上限可以设定为第二电信号和参考电信号的差值与参考电信号的百分比。

在步骤S3中，在对比结果超出所述阈值范围时发出警报。

需要说明的是：发出警报的动作可以由掩模板探伤装置10的报警模块104直接执行，或者也可以在掩模板探伤装置10的报警模块104向曝光设备发出反馈信息后由曝光设备的报警装置执行，本实施例对此不作具体限定。

在此基础上，所述掩模板探伤方法还可以进一步包括：

S4、在发出警报的同时还反馈一控制信号至曝光设备，以使所述曝光设备在预设时段后停止工作。

这样一来，所述曝光设备在自动停止工作之前为工作人员进行现场确认预留了一定的时间，如果超出该时间依然无人确认，那么曝光设备便可自动停止工作，以减少产生不良产品的损失。

需要说明的是：所述掩模板探伤方法的具体细节已经在对应的掩模板探伤装置中进行了详细的描述，这里不再赘述。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (13)

1.一种掩模板探伤装置，其特征在于，包括：

光量接收器，设置于掩模板载物台的一端并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；

光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；

计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；

报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。

2.根据权利要求1所述的掩模板探伤装置，其特征在于，所述计算模块包括：

信号存储单元，用于存储基于未损伤的参考掩模板经过所述光电转换而得到的参考电信号。

3.根据权利要求1所述的掩模板探伤装置，其特征在于，所述计算模块包括：

阈值设定单元，用于为所述掩模板的探伤设定所述阈值范围。

4.根据权利要求3所述的掩模板探伤装置，其特征在于，所述阈值设定单元包括：

第一阈值设定子单元，用于获取基于携带颗粒的第一掩模板经过所述光电转换而得到的第一电信号，并根据所述第一电信号与所述参考电信号设定阈值下限；

第二阈值设定子单元，用于获取基于损伤的第二掩模板经过所述光电转换而得到的第二电信号，并根据所述第二电信号与所述参考电信号设定阈值上限。

5.根据权利要求4所述的掩模板探伤装置，其特征在于，所述第二掩模板为铬掩模板。

6.根据权利要求1所述的掩模板探伤装置，其特征在于，所述掩模板探伤装置还包括：

反馈模块，用于在发出警报的同时反馈一控制信号至曝光设备，以使所述曝光设备停止工作。

7.根据权利要求1-6任一项所述的掩模板探伤装置，其特征在于，所述掩模板探伤装置还包括：

导轨，并行设置在所述掩模板载物台上方的两侧；

电机，设置在所述导轨上且与所述光量接收器相连，用于控制所述光量接收器沿所述掩模板载物台的下方运动。

8.一种掩模板探伤方法，其特征在于，包括：

接收透过待测掩模板的光信号并将所述光信号转换成电信号；

将所述电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；

在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。

9.根据权利要求8所述的掩模板探伤方法，其特征在于，所述接收透过待测掩模板的光信号包括：

通过并行设置在掩模板载物台上方的导轨以及设置在所述导轨上的电机控制光量接收器沿所述掩模板载物台的下方运动，以使所述光量接收器接收透过所述待测掩模板的光信号。

10.根据权利要求8所述的掩模板探伤方法，其特征在于，所述掩模板探伤方法还包括：

基于未损伤的参考掩模板获取参考光信号并将所述参考光信号转换成参考电信号以进行存储。

11.根据权利要求8所述的掩模板探伤方法，其特征在于，所述掩模板探伤方法还包括：

根据所述参考电信号为所述掩模板的探伤设定所述阈值范围。

12.根据权利要求11所述的掩模板探伤方法，其特征在于，所述根据所述参考电信号为所述掩模板的探伤设定所述阈值范围包括：

获取基于携带颗粒的第一掩模板经过光电转换而得到的第一电信号，并根据所述第一电信号与所述参考电信号设定阈值下限；

获取基于损伤的第二掩模板经过光电转换而得到的第二电信号，并根据所述第二电信号与所述参考电信号设定阈值上限。

13.根据权利要求8所述的掩模板探伤方法，其特征在于，所述掩模板探伤方法还包括：

在发出警报的同时还反馈一控制信号至曝光设备，以使所述曝光设备在预设时段后停止工作。