CN108196394B - 彩膜基板及其制备方法、显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及显示装置，属于显示技术领域。所述彩膜基板包括：衬底基板，衬底基板的显示区域内设置有色阻层；色阻层包括：色阻块和透明块，透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元。本发明解决了显示面板的显示效果较差的问题。本发明用于制造彩膜基板。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及显示装置。
背景技术
随着科技的发展，具有红绿蓝白(简称：RGBW)像素结构的显示面板的应用越来越广泛。
具有RGBW像素结构的显示面板包括彩膜基板，彩膜基板包括衬底基板，衬底基板的显示区域内设置有色阻层，该色阻层包括：色阻区域和在透明区域，色阻区域内设置有色阻块(如红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块)，透明区域内未设置有任何结构。
由于色阻层在色阻区域的厚度和透明区域的厚度不一致，因此，彩膜基板的平整度较差，显示面板的显示效果较差。
发明内容
本申请提供了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及显示装置，可以解决相关技术中显示面板的显示效果较差的问题，所述技术方案如下：
一方面，提供一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：衬底基板，所述衬底基板的显示区域内设置有色阻层；所述色阻层包括：色阻块和透明块，所述透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元。
可选的，所述色阻层还包括：透明的防反射块，且所述防反射块位于所述透明块与所述衬底基板之间。
可选的，所述透明块的厚度与所述防反射块的厚度之和等于所述色阻块的厚度。
可选的，所述色阻层还包括：黑矩阵，所述彩膜基板还包括：保护层，所述彩膜基板中的所述色阻块和所述透明块均为像素块，所述黑矩阵位于所述彩膜基板中任意两个相邻的所述像素块之间；所述保护层设置在所述色阻层远离所述衬底基板的一侧。
另一方面，提供一种彩膜基板的制备方法，所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板的显示区域内形成色阻层，所述色阻层包括：色阻块和透明块，所述透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元。
可选的，所述色阻层还包括：透明的防反射块，且所述防反射块位于所述透明块与所述衬底基板之间。
可选的，所述透明块的厚度与所述防反射块的厚度之和等于所述色阻块的厚度。
可选的，所述色阻层还包括黑矩阵，所述色阻层中的所述色阻块和所述透明块均为像素块，所述黑矩阵位于所述色阻层中任意两个相邻的所述像素块之间，所述方法还包括：在所述色阻层远离所述衬底基板的一侧形成保护层。
又一方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括上述彩膜基板。
再一方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括上述显示面板。
本申请提供的技术方案带来的有益效果是：由于衬底基板的显示区域内的色阻层包括色阻块和透明块，也即在色阻层的透明区域内设置有透明块，因此减小了色阻层在色阻区域和在透明区域的厚度差值；提高了彩膜基板的平整度，进而提高了包括该彩膜基板的显示面板的显示效果。
另外，由于该透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元，也即该彩膜基板可以具备触控功能或指纹识别功能，因此在制造包括该彩膜基板的显示面板时，无需在显示面板中单独形成一层触控模组或一层指纹识别模组，减小了显示面板的厚度。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为相关技术提供的一种彩膜基板的结构示意图；
图2为相关技术提供的另一种彩膜基板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制备方法流程图；
图6为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制备方法流程图；
图7为本发明实施例提供的一种在衬底基板的显示区域内形成色阻层的方法流程图；
图8为本发明实施例提供的另一种在衬底基板的显示区域内形成色阻层的方法流程图；
图9为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
具有RGBW像素结构的显示面板的应用越来越广泛，具有RGBW像素结构的显示面板包括彩膜基板。示例的，图1为相关技术提供的一种彩膜基板的结构示意图，如图1所示，彩膜基板10通常包括衬底基板11，衬底基板11的显示区域内设置有色阻层，色阻层远离衬底基板11的一侧设置有保护层13。色阻层包括色阻区域A1和透明区域A2，色阻区域A1内设置有色阻块121(如红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块)和黑矩阵122，透明区域A2内未设置有任何结构。由于色阻层中色阻区域A1的厚度和透明区域A2的厚度不一致，因此，彩膜基板10在色阻区域A1的厚度D1和透明区域A2的厚度D2不一致，彩膜基板10的平整度较差，显示面板的显示效果较差。
如图2所示，相关技术中，在图1的基础上，通过在保护层13远离色阻层的一侧设置隔垫物14，以减小彩膜基板10在色阻区域A1和透明区域A2的厚度差。但是，在保护层13远离色阻层的一侧设置隔垫物14会降低彩膜基板10的透光率，且对彩膜基板10的平整度的提升效果有限。
另外，相关技术中，为了实现显示面板的触控功能或指纹识别功能，在制造显示面板时，通常需要单独形成一层触控模组或一层指纹识别模组，使得相关技术中显示面板的厚度较大。
图3为本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图，如图3所示，该彩膜基板20可以包括：衬底基板21，该衬底基板21的显示区域内可以设置有色阻层，该色阻层可以包括：色阻块221和透明块222；该透明块222为透明触控电极或透明指纹识别单元。
示例的，色阻层可以包括色阻区域B1和透明区域B2，色阻区域B1内设置有色阻块221，透明区域B2内设置有透明块222。
综上所述，在本发明实施例提供的彩膜基板中，由于衬底基板的显示区域内的色阻层包括色阻块和透明块，也即在色阻层的透明区域内设置有透明块，因此减小了色阻层在色阻区域和在透明区域的厚度差值；提高了彩膜基板的平整度，进而提高了包括该彩膜基板的显示面板的显示效果。
另外，由于该透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元，也即该彩膜基板可以具备触控功能或指纹识别功能，因此在制造包括该彩膜基板的显示面板时，无需在显示面板中单独形成一层触控模组或一层指纹识别模组，减小了显示面板的厚度。
需要说明的是，当透明块为透明触控电极时，透明触控电极可以与触控集成电路连接；当透明块为透明指纹识别单元时，透明指纹识别单元可以与指纹识别集成电路连接。
可选的，色阻层可以包括：多个色阻块221。可选的，如图3所示，色阻层包括三个色阻块221，且三个色阻块221可以为依次排布的红色色阻块、绿色色阻块以及蓝色色阻块。图3示出的三个色阻块221以及一个透明块222可以组成一个像素结构。实际应用中，衬底基板21上可以设置有阵列排布的多个像素结构，另外，衬底基板21上的像素结构还可以包括两个色阻块221(如红色色阻块和蓝色色阻块)和一个透明块222，本发明实施例对比不作限定。
可选的，当透明块222为透明触控电极时，该透明触控电极的厚度范围可以为200微米至800微米。
可选的，请继续参考图3，色阻层还可以包括：黑矩阵223，彩膜基板20还可以包括：保护层23；彩膜基板20中的色阻块221和透明块222均可以称为像素块，黑矩阵223位于彩膜基板20中任意两个相邻的像素块之间；保护层23设置在色阻层远离衬底基板21的一侧。
可选的，保护层23为光学胶。保护层又称上层覆盖层(英文：Over Coating，简称：OC)。示例的，该光学胶的材质可以为有机硅胶。实际应用中，光学胶的材质还可以为其他材质，如丙烯酸树脂、不饱和聚酯、聚氨酯或环氧树脂中的任意一种，本发明实施例对此不作限定。
图4为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的结构示意图，如图4所示，在图3的基础上，色阻层还可以包括：透明的防反射块224，且该防反射块224位于透明块222与衬底基板21之间。
示例的，防反射块224设置在透明区域B2内，需要说明的是，该防反射块224可以用于防止透明块222反射从衬底基板21远离防反射块224的一侧射入的光线；以避免因透明块222反射该光线而在衬底基板21远离防反射块224的一侧形成光影，从而改善了显示面板的消影效果。
可选的，防反射块224的材质为氧化物或氮化物。示例的，防反射块224的材质为氮化硅。实际应用中，防反射块224的材质还可以为其他防反射材质，如防反射块224的材质为二氧化硅，本发明实施例对此不作限定。
可选的，透明块222的厚度与防反射块224的厚度之和等于色阻块221的厚度。此时，色阻层在色阻区域的厚度和在透明区域的厚度相等，可以进一步提高彩膜基板20的平整度。
综上所述，在本发明实施例提供的彩膜基板中，由于衬底基板的显示区域内的色阻层包括色阻块和透明块，也即在色阻层的透明区域内设置有透明块，因此减小了色阻层在色阻区域和在透明区域的厚度差值；提高了彩膜基板的平整度，进而提高了包括该彩膜基板的显示面板的显示效果。
另外，由于该透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元，也即该彩膜基板可以具备触控功能或指纹识别功能，因此在制造包括该彩膜基板的显示面板时，无需在显示面板中单独形成一层触控模组或一层指纹识别模组，减小了显示面板的厚度。
图5为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制备方法流程图，如图5所示，该彩膜基板的制备方法可以包括：
步骤501、提供一衬底基板。
步骤502、在衬底基板的显示区域内形成色阻层。
该色阻层包括：色阻块和透明块，透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元。
综上所述，在本发明实施例提供的彩膜基板的制备方法所制备的彩膜基板中，由于衬底基板的显示区域内的色阻层包括色阻块和透明块，也即在色阻层的透明区域内设置有透明块，因此减小了色阻层在色阻区域和在透明区域的厚度差值；提高了彩膜基板的平整度，进而提高了包括该彩膜基板的显示面板的显示效果。
另外，由于该透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元，也即该彩膜基板可以具备触控功能或指纹识别功能，因此在制造包括该彩膜基板的显示面板时，无需在显示面板内单独形成一层触控模组或一层指纹识别模组，减小了显示面板的厚度。
图6为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制备方法流程图，该彩膜基板的制备方法可以用于制备如图3或图4所示的彩膜基板，如图6所示，该彩膜基板的制备方法可以包括：
步骤601、提供一衬底基板。
步骤602、在衬底基板的显示区域内形成色阻层。
需要说明的是，步骤602中在衬底基板的显示区域内形成色阻层的实现方式可以有多种，示例的，下面以该多种可实现方式中的两种可实现方式对色阻层的形成方式进行说明：
在步骤602的第一种可实现方式中，该色阻层可以包括：色阻块和透明块，透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元。可选的，色阻层还可以包括黑矩阵；示例的，色阻层中的色阻块和透明块均为像素块，黑矩阵位于色阻层中任意两个相邻的像素块之间。在色阻层包括色阻块、黑矩阵以及透明块时，如图7所示，步骤602可以包括：
步骤6021A、在衬底基板的显示区域形成透明块。
示例的，在步骤6021A中可以先在衬底基板上形成一层透明材质层，之后采用一次构图工艺对该透明材质层进行处理，以得到透明块。需要说明的是，一次构图工艺包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。示例的，采用一次构图工艺对透明材质层进行处理包括：在透明材质层上涂覆一层光刻胶，然后采用掩膜版对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺进行处理，使完全曝光区的光刻胶被去除，非曝光区的光刻胶保留，之后对完全曝光区在透明材质层上的对应区域进行刻蚀，刻蚀完毕后剥离非曝光区的光刻胶即可在衬底基板的显示区域形成透明块。
步骤6022A、在衬底基板的显示区域形成色阻块。
在步骤6022A中会形成多个色阻块，且该多个色阻块包括红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块。
步骤6023A、在任意两个相邻的像素块之间形成黑矩阵。
在步骤602的第二种可实现方式中，色阻层在第一种可实现方式的基础上还可以包括：透明的防反射块，且该防反射块位于透明块与衬底基板之间。可选的，透明块的厚度与防反射块的厚度之和等于色阻块的厚度。
在色阻层包括色阻块、黑矩阵、透明块以及防反射块时，如图8所示，步骤602可以包括：
步骤6021B、在衬底基板的显示区域形成透明块和防反射块。
需要说明的是，在步骤6021B中透明块和防反射块可以同步形成，也可以分步形成。当透明块和防反射块同步形成时，可以先在衬底基板上形成一层防反射材质层，之后在形成有防反射材质层的衬底基板上形成一层透明材质层；然后可以采用一次构图工艺对防反射材质层和透明材质层一起进行处理，以在衬底基板的显示区域形成透明块和防反射块。当透明块和防反射块分步形成时，可以先在衬底基板上形成一层防反射材质层，接着采用一次构图工艺对防反射材质层进行处理，以在衬底基板的显示区域形成防反射块；之后可以在衬底基板上形成一层透明材质层，接着采用一次构图工艺对透明材质层进行处理，以在衬底基板的显示区域形成透明块。
示例的，采用一次构图工艺对防反射材质层和透明材质层一起进行处理的过程，以及采用一次构图工艺对防反射材质层进行处理的过程，均可以参考上述采用一次构图工艺对透明材质层进行处理的过程。
步骤6022B、在衬底基板的显示区域形成色阻块。
步骤6023B、在任意两个相邻的像素块之前形成黑矩阵。
步骤603、在色阻层远离衬底基板的一侧形成保护层。
综上所述，在本发明实施例提供的彩膜基板的制备方法所制备的彩膜基板中，由于衬底基板的显示区域内的色阻层包括色阻块和透明块，也即在色阻层的透明区域内设置有透明块，因此减小了色阻层在色阻区域和在透明区域的厚度差值；提高了彩膜基板的平整度，进而提高了包括该彩膜基板的显示面板的显示效果。
另外，由于该透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元，也即该彩膜基板可以具备触控功能或指纹识别功能，因此在制造包括该彩膜基板的显示面板时，无需在显示面板内单独形成一层触控模组或一层指纹识别模组，减小了显示面板的厚度。
图9为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，如图9所示，该显示面板可以包括图3或图4任一所示的彩膜基板20、与彩膜基板20相对设置的阵列基板30，以及位于阵列基板30和彩膜基板20之间的液晶40。
综上所述，在本发明实施例提供的显示面板中，由于彩膜基板中衬底基板的显示区域内的色阻层包括色阻块和透明块，也即在色阻层的透明区域内设置有透明块，因此减小了色阻层在色阻区域和在透明区域的厚度差值；提高了彩膜基板的平整度，进而提高了显示面板的显示效果。
另外，由于该透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元，也即该彩膜基板可以具备触控功能或指纹识别功能，因此在制造该显示面板时，无需在显示面板内单独形成一层触控模组或一层指纹识别模组，减小了显示面板的厚度。
本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置可以包括图9所示的显示面板。可选的，该显示装置可以为：液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
需要说明的是，本发明实施例提供的彩膜基板实施例、彩膜基板的制备方法实施例、显示面板的实施例以及显示装置的实施例均可以互相参考，本发明实施例对此不做限定。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未发明的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。
Claims (6)
1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：衬底基板，
所述衬底基板的显示区域内设置有色阻层；所述色阻层包括：色阻块、透明块以及透明的防反射块；
所述透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元；所述防反射块位于所述透明块与所述衬底基板之间；所述透明块的厚度与所述防反射块的厚度之和等于所述色阻块的厚度。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层还包括：黑矩阵，所述彩膜基板还包括：保护层，
所述彩膜基板中的所述色阻块和所述透明块均为像素块，所述黑矩阵位于所述彩膜基板中任意两个相邻的所述像素块之间；
所述保护层设置在所述色阻层远离所述衬底基板的一侧。
3.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板的显示区域内形成色阻层，所述色阻层包括：色阻块、透明块以及透明的防反射块；所述透明块为透明触控电极或透明指纹识别单元；所述防反射块位于所述透明块与所述衬底基板之间；所述透明块的厚度与所述防反射块的厚度之和等于所述色阻块的厚度。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述色阻层还包括黑矩阵，所述色阻层中的所述色阻块和所述透明块均为像素块，所述黑矩阵位于所述色阻层中任意两个相邻的所述像素块之间，所述方法还包括：
在所述色阻层远离所述衬底基板的一侧形成保护层。
5.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求1或2所述的彩膜基板。
6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求5所述的显示面板。
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