CN108190878A - 一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法 - Google Patents
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- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 102
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 52
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 32
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 claims abstract description 13
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims abstract description 11
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 claims 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 19
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 17
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002567 K2S2O8 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
本发明涉及一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,属于氧化石墨烯制备技术领域。本发明在温度为‑5~5℃、搅拌条件下,将鳞片石墨和硝酸钠加入到浓硫酸中反应30~60min,然后缓慢加入高锰酸钾并反应不低于36h,在温度为‑5~15℃条件下逐滴滴加稀硫酸终止反应,再逐滴滴加双氧水至无气泡产生得到氧化石墨烯溶液;将氧化石墨烯溶液依次进行酸洗、水洗至至中性,再依次经超声处理、干燥处理即得氧化石墨烯粉体。本发明方法制备的氧化石墨烯的片层结构完整,避免了中温深度氧化、高温水解由于C原子造成的空洞和拓扑缺陷;氧化石墨烯经还原后得到的还原氧化石墨烯缺陷率低;本发明方法具有操作简单、步骤少、成本低、产率高的特点。
Description
技术领域
本发明涉及一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,属于工业硅提纯技术领域。
背景技术
氧化石墨烯是石墨粉末经化学氧化及剥离后的产物,又被称为功能化石墨烯,是石墨烯的氧化物,也是低成本、大规模制备石墨烯的前驱体。理想的氧化石墨烯是单一的原子层结构,具有聚合物、胶体、薄膜、以及两性分子的特性,同时也兼具独特的分子筛分功能和快速渗透的特性。在水净化以及清洁能源等领域具有广阔的应用前景。与价格昂贵的碳纳米管相比,氧化石墨烯的价格低廉,制备工艺简单。在制备过程中,引入大量羧基、羟基、环氧基,赋予了氧化石墨烯优异的化学性能,能与多种材料复合,氧化石墨烯复合材料包括聚合物类复合材料以及无机物类复合材料,具有广泛的应用前途。
由于石墨的惰性,石墨的氧化过程必须在苛刻的氧化环境中进行,目前氧化石墨烯的制备有三种工艺,Broide法、Staudenmelar法、Hummers法。这三种方法的基本原理都是在强酸体系下,强氧化剂打开碳层结构,将氧原子引入碳层之间,形成羧基、羟基、环氧基等含氧集团,扩大层间距。但由于前两种制备方法时间长,危险系数大。目前主要以Hummers法或者各种改良的Hummers法为主要的研究方向。[Wang Z J,Zhou X Z,Zhang J,Boey F,Zhang H.J.Phys.Chem.C,2009,113(32):14071~14075]用过K2S2O8和P2O5对本体石墨进行预氧化处理后,再进行Hummers法氧化,得到的氧化石墨烯,氧化程度有所提高。传统Hummers法制备氧化石墨烯有三个过程,低温边缘氧化、中温深度氧化和高温水解。但由于中温强氧化、高温水解,极易对石墨的片层结构造成不可逆的影响,造成空洞和拓扑缺陷,影响了氧化石墨烯的性能和应用,尤其是对氧化石墨烯还原得到还原氧化石墨烯产品,缺陷率高,极大的限制了氧化石墨烯以及还原氧化石墨烯的应用。
发明内容
针对上述现有技术存在的问题及不足,本发明提供一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法。本发明方法制备的氧化石墨烯的片层结构完整,避免了中温深度氧化、高温水解由于C原子造成的空洞和拓扑缺陷;氧化石墨烯经还原后得到的还原氧化石墨烯缺陷率低;本发明方法具有操作简单、步骤少、成本低、产率高的特点。
一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,具体步骤如下:
在温度为-5~5℃、搅拌条件下,将鳞片石墨和硝酸钠加入到浓硫酸中反应30~60min,然后缓慢加入高锰酸钾并反应不低于36h,在温度为-5~15℃条件下逐滴滴加稀硫酸终止反应,再逐滴滴加双氧水至无气泡产生得到氧化石墨烯溶液;将氧化石墨烯溶液依次进行酸洗、水洗至至中性,再依次经超声处理、干燥处理即得氧化石墨烯粉体。
进一步,所述鳞片石墨和硝酸钠的质量比为2:(1~2),鳞片石墨与浓硫酸的固液比g:mL为1:(40~70);
进一步,所述鳞片石墨与高锰酸钾的质量比为1:(3~5);
进一步,所述稀硫酸质量百分数浓度为5~10%,浓硫酸与稀硫酸的体积比为1:(3~5);
进一步,所述酸洗为采用质量百分数浓度为5~10%的稀盐酸进行洗涤;
进一步,所述超声处理的超声波功率为50~250w,超声处理至无沉淀物;干燥处理为喷雾干燥、真空干燥或冷冻干燥;
所述双氧水为市售双氧水,浓硫酸为市售浓硫酸;
本发明的有益效果是:
(1)本发明方法具有操作简单、步骤少、成本低、产率高、适合大规模生产的低缺陷的氧化石墨烯;
(2)本发明方法制备的氧化石墨烯的片层结构完整,避免了中温深度氧化、高温水解由于C原子造成的空洞和拓扑缺陷,保持了片层结构的完整性;氧化石墨烯经还原后得到的还原氧化石墨烯缺陷率低。
附图说明
图1为实施例1制备的氧化石墨烯的XRD图;
图2为实施例1制备的氧化石墨烯的Raman图;
图3为实施例1制备的氧化石墨烯的XPS图。
具体实施方式
下面结合具体实施方式,对本发明作进一步说明。
实施例1:一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,具体步骤如下:
在温度为-5℃、搅拌条件下,将1g鳞片石墨和0.5g硝酸钠加入到40mL浓硫酸中反应30min,然后缓慢加入3g高锰酸钾并反应36h,在温度为-5℃条件下逐滴滴加稀硫酸终止反应,再逐滴滴加双氧水至无气泡产生得到氧化石墨烯溶液;将氧化石墨烯溶液依次进行酸洗、水洗至至中性,再依次经超声处理、干燥处理即得氧化石墨烯粉体;
本实施例中鳞片石墨和硝酸钠的质量比为2:1,鳞片石墨与浓硫酸的固液比g:mL为1:40;鳞片石墨与高锰酸钾的质量比为1:3;稀硫酸质量百分数浓度为5%,浓硫酸与稀硫酸的体积比为1:5;
本实施例中酸洗为采用质量百分数浓度为5%的稀盐酸进行洗涤2次;
本实施例中超声处理的超声波功率为50w,超声处理至无沉淀物;干燥处理为冷冻干燥;
本实施例氧化石墨烯粉体的XRD图如图1所示,从图1可知,天然鳞片石墨经过长时间低温氧化后,原鳞片石墨对应的特征衍射峰消失,在2θ=10.3°附近出现氧化石墨烯的特征衍射峰,由布拉格公示可知对应的晶面间距是说明经过长时间低温一步氧化,制备出了氧化石墨烯;
本实施例氧化石墨烯粉体的Raman图如图2所示,从图2可知,经长时间低温氧化后,氧化石墨烯出现了D峰(1347cm-1)和G峰(1592cm-1),且D峰强度相较于鳞片石墨明显增强,这是由于低温氧化过程中氧原子的插入导致氧化石墨烯的缺陷增多,使得氧化石墨烯的D峰强度明显增强,ID:IG常用来表征石墨烯的缺陷密度,低温一步氧化制备的氧化石墨烯相较于Chen等人(Chen W,Yan L,Bangal P R.Carbon,2010,48:1146-1152)用Hummers制备的氧化石墨烯,ID:IG从0.95降低到0.72,说明经过长时间低温氧化,可以得到缺陷率较低的氧化石墨烯;
本实施例氧化石墨烯粉体的XPS图如图3所示,从图3可知,经过长时间低温氧化后,相较于天然鳞片石墨,C-O、C=O、O-C=O峰明显增强,说明得到了氧化程度较高的氧化石墨烯。
实施例2:一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,具体步骤如下:
在温度为-2℃、搅拌条件下,将1g鳞片石墨和0.75g硝酸钠加入到50mL浓硫酸中反应40min,然后缓慢加入4g高锰酸钾并反应42h,在温度为-1℃条件下逐滴滴加稀硫酸终止反应,再逐滴滴加双氧水至无气泡产生得到氧化石墨烯溶液;将氧化石墨烯溶液依次进行酸洗、水洗至至中性,再依次经超声处理、干燥处理即得氧化石墨烯粉体;
本实施例中鳞片石墨和硝酸钠的质量比为2:1.5,鳞片石墨与浓硫酸的固液比g:mL为1:50;鳞片石墨与高锰酸钾的质量比为1:4;稀硫酸质量百分数浓度为7%,浓硫酸与稀硫酸的体积比为1:3;
本实施例中酸洗为采用质量百分数浓度为7%的稀盐酸进行洗涤3次;
本实施例中超声处理的超声波功率为150w,超声处理至无沉淀物;干燥处理为冷冻干燥。
实施例3:一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,具体步骤如下:
在温度为0℃、搅拌条件下,将1g鳞片石墨和1g硝酸钠加入到60mL浓硫酸中反应50min,然后缓慢加入5g高锰酸钾并反应48h,在温度为0℃条件下逐滴滴加稀硫酸终止反应,再逐滴滴加双氧水至无气泡产生得到氧化石墨烯溶液;将氧化石墨烯溶液依次进行酸洗、水洗至至中性,再依次经超声处理、干燥处理即得氧化石墨烯粉体;
本实施例中鳞片石墨和硝酸钠的质量比为1:1,鳞片石墨与浓硫酸的固液比g:mL为1:60;鳞片石墨与高锰酸钾的质量比为1:5;稀硫酸质量百分数浓度为8%,浓硫酸与稀硫酸的体积比为1:4;
本实施例中酸洗为采用质量百分数浓度为5%的稀盐酸进行洗涤2次;
本实施例中超声处理的超声波功率为200w,超声处理至无沉淀物;干燥处理为冷冻干燥。
实施例4:一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,具体步骤如下:
在温度为5℃、搅拌条件下,将1g鳞片石墨和0.9g硝酸钠加入到70mL浓硫酸中反应60min,然后缓慢加入3.5g高锰酸钾并反应52h,在温度为5℃条件下逐滴滴加稀硫酸终止反应,再逐滴滴加双氧水至无气泡产生得到氧化石墨烯溶液;将氧化石墨烯溶液依次进行酸洗、水洗至至中性,再依次经超声处理、干燥处理即得氧化石墨烯粉体;
本实施例中鳞片石墨和硝酸钠的质量比为2:1.8,鳞片石墨与浓硫酸的固液比g:mL为1:70;鳞片石墨与高锰酸钾的质量比为1:3.5;稀硫酸质量百分数浓度为10%,浓硫酸与稀硫酸的体积比为1:3.5;
本实施例中酸洗为采用质量百分数浓度为10%的稀盐酸进行洗涤2次;
本实施例中超声处理的超声波功率为250w,超声处理至无沉淀物;干燥处理为冷冻干燥。
以上结合附图对本发明的具体实施方式作了详细说明,但是本发明并不限于上述实施方式,在本领域普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本发明宗旨的前提下作出各种变化。
Claims (6)
1.一种在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,其特征在于,具体步骤如下:
在温度为-5~5℃、搅拌条件下,将鳞片石墨和硝酸钠加入到浓硫酸中反应30~60min,然后缓慢加入高锰酸钾并反应不低于36h,在温度为-5~15℃条件下逐滴滴加稀硫酸终止反应,再逐滴滴加双氧水至无气泡产生得到氧化石墨烯溶液;将氧化石墨烯溶液依次进行酸洗、水洗至至中性,再依次经超声处理、干燥处理即得氧化石墨烯粉体。
2.根据权利要求1所述在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,其特征在于:所述鳞片石墨和硝酸钠的质量比为2:(1~2),鳞片石墨与浓硫酸的固液比g:mL为1:(40~70)。
3.根据权利要求1所述在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,其特征在于:所述鳞片石墨与高锰酸钾的质量比为1:(3~5)。
4.根据权利要求1所述在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,其特征在于:所述稀硫酸质量百分数浓度为5~10%,浓硫酸与稀硫酸的体积比为1:(3~5)。
5.根据权利要求1所述在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,其特征在于:所述酸洗为采用质量百分数浓度为5~10%的稀盐酸进行洗涤。
6.根据权利要求1所述在低温条件下的一步法制备氧化石墨烯的方法,其特征在于:所述超声处理的超声波功率为50~250w,超声处理至无沉淀物;干燥处理为喷雾干燥、真空干燥或冷冻干燥。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20180622 |