CN108165939A - 一种绒面azo薄膜的制备方法 - Google Patents

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沈洪雪
姚婷婷
杨勇
李刚
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Abstract

本发明公开一种绒面AZO薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1、采用熔融法制备超白玻璃，在超白玻璃出炉过程中,采用表面具有绒面结构的模板对超白玻璃表面进行压模，得到表面具有绒面结构的超白玻璃；S2、将制得的超白玻璃进行钢化、切割、清洗工序得到表面具有绒面结构的玻璃基片；S3、将玻璃基片作为衬底，通过磁控溅射在玻璃基片的绒面沉积AZO，得到绒面AZO薄膜；本方法无需酸蚀刻步骤，降低薄膜的制备成本，避免环境污染；AZO薄膜的绒面由表面具有绒面结构的模板决定，能够有效地控制绒面；绒面AZO薄膜的质量容易控制，性能稳定，重复性好。

Description

一种绒面AZO薄膜的制备方法
技术领域
本发明涉及玻璃薄膜制造技术领域，具体是一种绒面AZO薄膜的制备方法。
背景技术
传统磁控溅射制备透明导电AZO薄膜的过程中，由于磁控溅射本身的稳定性、重复性、易于大面积制备等优点，使其成为AZO等氧化物薄膜制备的首选方法。但制备绒面AZO薄膜的过程中，除了AZO薄膜的制备还要对所制备的薄膜进行后续的酸蚀等后处理，以达到绒面的效果。
目前的后续刻蚀方法主要有激光刻蚀和酸蚀两种，而且酸蚀在工业生产中占据主要。在酸蚀的过程中，绒面的结构有很大的随机性，所制备的绒面形状不易控制，在整个酸腐蚀的过程中，大概要腐蚀掉AZO薄膜厚度的三分之一到二分之一左右，造成材料的浪费，使制备绒面AZO薄膜的成本增加，这不利于大规模绒面AZO薄膜的制备，并且后续酸溶液的处理在很大程度上会对环境造成一定的污染。
发明内容
本发明的目的在于提供一种绒面AZO薄膜的制备方法，该方法舍弃酸蚀刻步骤，降低薄膜的制备成本，避免环境污染，且能够对绒面形状有效控制。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种绒面AZO薄膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、采用熔融法制备超白玻璃，在超白玻璃出炉过程中,采用表面具有绒面结构的模板对超白玻璃表面进行压模，得到表面具有绒面结构的超白玻璃；
S2、将制得的超白玻璃进行钢化、切割、清洗工序得到表面具有绒面结构的玻璃基片；
S3、将玻璃基片作为衬底，通过磁控溅射在玻璃基片的绒面沉积AZO，得到绒面AZO薄膜。
进一步的，步骤S3正式磁控溅射前先进行预溅射，对AZO靶材进行活化，去除AZO靶材表面的杂质。
进一步的，磁控溅射时AZO靶功率为100～300W，溅射气体Ar流量30～50sccm，工作气压0.5～2.0Pa，溅射时间30min，本底真空度为7.0*10－4Pa。
进一步的，制备得到的绒面AZO薄膜厚度为200～400nm，绒面AZO薄膜的透过率≥87％，电阻率3.6*10－40～6.6*10－4Ω.cm。
本发明的有益效果是：
一、通过压模的方法得到表面具有绒面结构的超白玻璃，再磁控溅射直接得到绒面AZO薄膜，无需酸蚀刻步骤，降低薄膜的制备成本，避免环境污染；
二、AZO薄膜的绒面由表面具有绒面结构的模板决定，绒面的形状、大小可根据需要进行设计，只需要准备相应绒面的模板即可，能够有效地控制绒面；
三、本方法制备绒面AZO薄膜的厚度比传统方法薄30％～50％，可直接进行后续使用；
四、绒面AZO薄膜的质量容易控制，性能稳定，重复性好。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：
图1是本发明流程示意图；
图2是本发明模板的表面微结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，本发明提供一种绒面AZO薄膜的制备方法，包括以下步骤：
S1、采用熔融法制备超白玻璃，超白玻璃的组分采用现有的常规组分即可，在超白玻璃出炉过程中, 即在超白玻璃成型并出料后，在出料口约600℃时，如图2所示，采用表面具有绒面结构的模板对超白玻璃表面进行压模，得到表面具有绒面结构的超白玻璃；
S2、将制得的超白玻璃进行钢化、切割、清洗工序得到表面具有绒面结构的玻璃基片；
S3、将玻璃基片作为衬底，通过磁控溅射在玻璃基片的绒面沉积AZO，在正式磁控溅射前先进行预溅射，对AZO靶材进行活化，去除AZO靶材表面的杂质；磁控溅射时AZO靶功率为100～300W，溅射气体Ar流量30～50sccm，工作气压0.5～2.0Pa，溅射时间30min，本底真空度为7.0*10－4Pa，得到厚度为200～400nm的绒面AZO薄膜。
经过测试，所制备的绒面AZO薄膜的透过率≥87％，电阻率3.6*10－40～6.6*10－4Ω.cm。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (4)

1.一种绒面AZO薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、采用熔融法制备超白玻璃，在超白玻璃出炉过程中,采用表面具有绒面结构的模板对超白玻璃表面进行压模，得到表面具有绒面结构的超白玻璃；
S2、将制得的超白玻璃进行钢化、切割、清洗工序得到表面具有绒面结构的玻璃基片；
S3、将玻璃基片作为衬底，通过磁控溅射在玻璃基片的绒面沉积AZO，得到绒面AZO薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种绒面AZO薄膜的制备方法，其特征在于，步骤S3正式磁控溅射前先进行预溅射，对AZO靶材进行活化，去除AZO靶材表面的杂质。
3.根据权利要求1或2所述的一种绒面AZO薄膜的制备方法，其特征在于，磁控溅射时AZO靶功率为100～300W，溅射气体Ar流量30～50sccm，工作气压0.5～2.0Pa，溅射时间30min，本底真空度为7.0*10－4Pa。
4.根据权利要求3所述的一种绒面AZO薄膜的制备方法，其特征在于，制备得到的绒面AZO薄膜厚度为200～400nm，绒面AZO薄膜的透过率≥87％，电阻率3.6*10－40～6.6*10－4Ω.cm。
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