CN108129026A - 一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在坯体上施面釉；使用精雕墨水在面釉上喷墨打印图案；在打印有精雕墨水的坯体表面上施哑光保护釉；以及将所得砖坯烧成。所得的瓷砖能够产生亮光凹陷线条效果。

Description

一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种采用喷墨机打印精雕墨水来产生亮光凹陷线条效果的瓷砖制备技术，属于建筑陶瓷装饰领域。
背景技术
随着陶瓷喷墨技术的普及和发展，喷墨产品的市场占有率也越来越高，而喷墨印花技术的主要设备喷墨印花机也得到了高速发展，不断的推动着这一领域里设备、墨水、产品等方面的技术革新。喷墨印花机功能越来越强大，通道也从最初的4通道扩展到现在的最多12通道，喷头也涌现了很多型号。而陶瓷墨水厂家的墨水也是从各种发色墨水到功能墨水迅速推陈出新，极大丰富了陶瓷产品的种类。
中国专利申请201610574716.1公开了在立体装饰面料层上涂布色料保护隔离釉，然后喷墨印刷具有凹陷效果的功能墨水，最后施透明釉形成表面保护层，烧成制得瓷砖。中国专利申请201510873924.7公开了在坯体上依次施面釉、喷墨印花、喷墨打印下陷墨水、淋生料厚抛釉，然后烧成，得到具有下陷纹理的仿大理石厚釉砖。其中，下陷墨水的化学组成为：V2O5 20-30％、Bi2O3 50-60％、Ba2CO3 7-8％、ZnO3-4％、SiO2 3-4％、Al2O3 3.5-4％(K2O+Na2O)1.5-2.5％。但是，以上发明的产品的凹陷线条没有亮光，抛光后整砖都是亮面，线条的光泽对比度体现不了。
发明内容
针对上述问题，本发明的目的在于提供一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖及其制备方法。
第一方面，本发明提供一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
在坯体上施面釉；
使用精雕墨水在面釉上喷墨打印图案；
在打印有精雕墨水的坯体表面上施哑光保护釉；以及
将所得砖坯烧成。
根据本发明，所得的瓷砖中，打印了精雕墨水的地方就会在保护釉上形成凹陷纹理，并且精雕墨水的成分烧成后会发出亮光光泽，与没有打印精雕墨水部位的哑光保护釉形成高低落差和光泽度对比，因此所得的瓷砖能够产生亮光凹陷线条效果。本发明制备的瓷砖产品形成的凹陷线条是亮光的，是无需抛光的自然面哑光产品。
较佳地，所述面釉的化学组成为：按重量计，57～62％SiO2、22～25wt％Al2O3、0.1～0.5％CaO、0.2～0.4％MgO、3.5～4.2％K2O和2.3～2.7％Na2O。
较佳地，面釉的比重为1.40～1.43，施釉量为620-630克/平方米。
较佳地，所述精雕墨水含有：按重量计，Bi2O3：5～10％、SiO2：20～30％、Al2O3：5～10％、ZnO：5～15％、CaO：5～10％、B2O3：10～15％。该精雕墨水效果明显，例如可以只使用一组GS40的喷头打印就可以有凹凸发亮的线条出来，不需要使用两组。另外，所述精雕墨水还可含有：按质量计，分散剂：6～8％、醇醚溶剂：40～60％。
较佳地，精雕墨水通道的设计图打印灰度在50～70之间。
较佳地，喷墨打印的工艺参数包括：分辨率360dpi、墨滴大小40～160pl、出墨量0～40g/m2(25m/min)。
较佳地，所述保护釉的化学组成为：按重量计，Na2O：5.5～6.5％、MgO：4.0～4.5％、Al2O3：18.7～19.3％、SiO2：49～52％、BaO：12～12.6％、CaO：5～5.5％、ZnO：2.6～3.0％。
较佳地，所述保护釉的比重为1.40～1.43，施釉量为410～420克/平方米。
第二方面，本发明提供一种由上述任一种制备方法制备的能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖。
附图说明
图1为本发明一个示例的能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖的照片；
图2为本发明一个示例的能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖的照片。
具体实施方式
以下，参照下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。以下各配方中，如无特别说明，含量百分比或份数均以质量计。
本发明人发现，喷墨印花机大型号喷头和精雕墨水的使用，能够让产品表面生产亮光的凹陷线条纹理，能够在仿石和仿木产品里大量使用，这对于传统的采用丝网印花或者下陷釉是无法达到的效果。
本发明一实施方式提供一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖的制备方法，包括以下步骤：在坯体上施面釉；使用精雕墨水在面釉上喷墨打印图案；在打印有精雕墨水的坯体表面上施哑光保护釉；以及将所得砖坯烧成。以下，具体说明该瓷砖的制备方法。
首先，制备砖坯(坯体)。其可由公知的陶瓷原料按常规方法制备，例如依次进行坯料球磨、喷粉造粒、压坯干燥，得到干燥坯。
然后，在砖坯上施面釉。面釉可以起覆盖和发色作用。一个示例中，面釉的化学组成为：按重量计，57～62％SiO2、22～25wt％Al2O3、0.1～0.5％CaO、0.2～0.4％MgO、3.5～4.2％K2O和2.3～2.7％Na2O。
施面釉的方式包括但不限于喷釉、淋釉等。面釉的比重可为1.40～1.43。面釉的施釉量可为620～630克/平方米。
在施有面釉的砖面上进行图案打印。所使用的墨水可为精雕墨水。精雕墨水是可以做出凹陷亮光的线条效果的墨水，与下陷墨水只是凹陷线条不同。精雕墨水可购自商用，例如购自麦瑞思墨水公司。一个示例中，所述精雕墨水中，作为有效成分，可含有：按重量计，Bi2O3：5～10％、SiO2：20～30％、Al2O3：5～10％、ZnO：5～15％、CaO：5～10％、B2O3：10～15％。精雕墨水的溶剂例如可为醇醚溶剂，其含量可为40～60％。精雕墨水中含有很多溶剂类低温材料，烧成后会有亮光。另外，精雕墨水还可以含有其它添加剂例如分散剂，分散剂的含量可为6～8％。打印仪器可为喷墨印花机。喷墨印花机优选使用大型号喷头。大型号喷头例如是指墨滴大小可以超过100皮升的喷头。一个示例中，在喷墨印花机上安装一组赛尔公司大型号的GS40喷头。打印时，分辨率可为360dpi。墨滴大小可为40～160pl(皮升(pL))。出墨量可为0～40克/m2(25m/min)(例如30或40g/m2(25m/min))。精雕墨水通道的设计图打印灰度可在50～70之间，该灰度既可以确保精雕墨水能够对后面施的保护釉生产凹陷和亮光效果，又可以对喷头产生保护，因为长期使用100％的灰度会伤害喷头。可以通过该灰度的深浅来控制凹陷深度。例如凹陷深度可为0.3～0.5mm。打印的图案可为线条图案。
打印完精雕墨水后施加哑光保护釉。哑光保护釉可以和精雕墨水现成的亮光线条形成光泽度的差异对比。一个示例中，保护釉的化学组成为：按重量计，Na2O：5.5～6.5％、MgO：4.0～4.5％、Al2O3：18.7～19.3％、SiO2：49～52％、BaO：12～12.6％、CaO：5～5.5％、ZnO：2.6～3.0％。该保护釉是哑光效果，具有耐磨的特点。
施保护釉的方式包括但不限于喷釉、淋釉等。保护釉的比重可为1.40～1.43。保护釉的施釉量可为410～420克/平方米。保护釉太多会导致精雕墨水被完全覆盖产生不了凹陷线条，太少又了线条的凹凸效果也不明显。
然后进行烧成。最高烧成温度可为1155～1175℃。烧成周期可为63～67分钟。
经过高温烧成，打印了精雕墨水的地方就会在保护釉上形成凹陷纹理，并且会发出亮光光泽，与没有打印精雕墨水部位的哑光保护釉形成高低落差和光泽度对比来(参见图1、图2)。
烧成后无需抛光。另外，烧成后还可以进行磨边。
另外，应理解，上述步骤仅是示例，本发明不限于此，例如，在用精雕墨水进行图案打印之前还可以进行普通的印花。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
1)制备砖坯；
2)在砖坯上喷面釉，面釉化学组成为：
SiO2 Al2O3 CaO MgO K2O Na2O
57.04 24.78 0.31 0.24 4.02 2.66
面釉的施釉参数：比重1.42，重量：625克/平方米；
3)使用喷墨打印机安装一组赛尔GS40型号喷头，安装陶瓷精雕墨水，精雕墨水购自麦瑞思墨水公司，型号为128型，化学组成为：Bi2O3：5.1％、SiO2：20.3％、Al2O3：6.7％、ZnO：5％、CaO：5.3％、B2O3：10.5％、分散剂：6.1％、醇醚溶剂：41％；
精雕墨水通道的设计图打印灰度为65；
赛尔GS40喷头的技术参数：
分辨率360dpi、墨滴大小40-160pl、出墨量40gl/m2(25m/min)；
4)完成喷墨印花后，喷一层哑光保护釉，哑光保护釉的化学组成为：Na2O：6.14％、MgO：4.21％、Al2O3：19％、SiO2：50.6％、BaO：12.3％、CaO：5.29％、ZnO：2.88％；
保护釉的施釉参数：比重1.41，重量：410克/平方米；
5)高温烧成，磨边。最高烧成温度为1173℃，烧成周期为64分钟。
图1为本实施例所得的瓷砖的表面照片，可以看出，该瓷砖具有亮光凹陷线条效果。

Claims (10)

1.一种能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
在坯体上施面釉；
使用精雕墨水在面釉上喷墨打印图案；
在打印有精雕墨水的坯体表面上施哑光保护釉；以及
将所得砖坯烧成。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述面釉的化学组成为：按重量计，57～62%SiO2、22～25wt% Al2O3、0.1～0.5% CaO、0.2～0.4% MgO、3.5～4.2% K2O和2.3～2.7%Na2O。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，面釉的比重为1.40～1.43，施釉量为620～630克/平方米。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述精雕墨水含有：按重量计，Bi2O3：5～10%、SiO2：20～30%、Al2O3：5～10%、ZnO：5～15%、CaO：5～10%、B2O3：10～15%。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述精雕墨水还含有：按重量计，分散剂：6～8%、醇醚溶剂：40～60%。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的制备方法，其特征在于，精雕墨水通道的设计图打印灰度在50～70之间。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，喷墨打印的工艺参数包括：分辨率360dpi、墨滴大小40～160pl、出墨量0～40g/m2(25m/min)。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述保护釉的化学组成为：按重量计，Na2O：5.5～6.5%、MgO：4.0～4.5%、Al2O3：18.7～19.3%、SiO2：49～52%、BaO：12～12.6%、CaO：5～5.5%、ZnO：2.6～3.0%。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述保护釉的比重为1.40～1.43，施釉量为410～420克/平方米。
10.一种由权利要求1至9中任一项所述的制备方法制备的能够产生亮光凹陷线条效果的瓷砖。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110228999A (zh) * 2019-07-04 2019-09-13 广东冠星陶瓷企业有限公司 一种精雕磁木大板瓷质砖的制备方法
CN111704480A (zh) * 2020-07-01 2020-09-25 江西新明珠建材有限公司 一种石纹线大理石瓷砖的制造方法
CN112358326A (zh) * 2021-01-14 2021-02-12 佛山市三水区康立泰无机合成材料有限公司 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖
CN113248150A (zh) * 2021-06-22 2021-08-13 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 一种可提升雕刻深度的精雕保护釉、瓷砖及其制备方法
CN113968753A (zh) * 2021-10-21 2022-01-25 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104016728A (zh) * 2014-06-03 2014-09-03 广东蒙娜丽莎新型材料集团有限公司 具有凸起颗粒效果的瓷砖及其制备方法
CN105272378A (zh) * 2015-12-01 2016-01-27 佛山欧神诺陶瓷股份有限公司 一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品
CN106336247A (zh) * 2016-08-24 2017-01-18 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种釉面具有凹线条线抛光瓷片的制造方法
CN106366765A (zh) * 2016-08-29 2017-02-01 佛山市高明区海帝陶瓷原料有限公司 一种陶瓷喷墨用可下陷光致变色陶瓷墨水及其制备方法
CN107217808A (zh) * 2017-05-04 2017-09-29 万利(中国)有限公司 一种拨开釉装饰砖的结构及制备工艺
CN107311699A (zh) * 2017-06-16 2017-11-03 江西和美陶瓷有限公司 一种多体系釉料立体综合装饰陶瓷砖及其制备方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104016728A (zh) * 2014-06-03 2014-09-03 广东蒙娜丽莎新型材料集团有限公司 具有凸起颗粒效果的瓷砖及其制备方法
CN105272378A (zh) * 2015-12-01 2016-01-27 佛山欧神诺陶瓷股份有限公司 一种结合下陷纹理的仿大理石厚釉砖的制备方法及产品
CN106336247A (zh) * 2016-08-24 2017-01-18 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种釉面具有凹线条线抛光瓷片的制造方法
CN106366765A (zh) * 2016-08-29 2017-02-01 佛山市高明区海帝陶瓷原料有限公司 一种陶瓷喷墨用可下陷光致变色陶瓷墨水及其制备方法
CN107217808A (zh) * 2017-05-04 2017-09-29 万利(中国)有限公司 一种拨开釉装饰砖的结构及制备工艺
CN107311699A (zh) * 2017-06-16 2017-11-03 江西和美陶瓷有限公司 一种多体系釉料立体综合装饰陶瓷砖及其制备方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110228999A (zh) * 2019-07-04 2019-09-13 广东冠星陶瓷企业有限公司 一种精雕磁木大板瓷质砖的制备方法
CN111704480A (zh) * 2020-07-01 2020-09-25 江西新明珠建材有限公司 一种石纹线大理石瓷砖的制造方法
CN112358326A (zh) * 2021-01-14 2021-02-12 佛山市三水区康立泰无机合成材料有限公司 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖
CN112358326B (zh) * 2021-01-14 2021-04-02 佛山市三水区康立泰无机合成材料有限公司 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖
CN113248150A (zh) * 2021-06-22 2021-08-13 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 一种可提升雕刻深度的精雕保护釉、瓷砖及其制备方法
CN113968753A (zh) * 2021-10-21 2022-01-25 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法

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