CN108103437B - 用于沉积的掩模、制造掩模的方法及制造显示装置的方法 - Google Patents

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Abstract

公开了用于沉积的掩模、制造用于沉积的掩模的方法以及制造显示装置的方法，用于沉积的掩模能够通过在第一方向上施加到掩模的相对端的张力而联接到框架，并且包括具有第一厚度的第一肋部以及包括多个图案孔和至少一个蚀刻部的图案部，沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，所述至少一个蚀刻部具有小于第一厚度的第二厚度并且连接在多个图案孔中的一部分之间。

Description

用于沉积的掩模、制造掩模的方法及制造显示装置的方法
相关申请的交叉引用
于2016年11月25日在韩国知识产权局提交的且名称为“用于沉积的掩模、制造掩模的方法及制造显示装置的方法”的第10-2016-0158055号韩国专利申请通过引用以其整体并入本文中。
技术领域
实施方式涉及用于沉积的掩模、制造该掩模的方法及制造显示装置的方法。
背景技术
移动电子设备被广泛使用。近来，对于移动电子设备，除了诸如移动电话的小型化电子设备之外，平板电脑(PC)被广泛使用。
为了支持各种功能，移动电子设备包括用于向用户提供视觉信息(诸如，图像)的显示装置。
在本背景技术部分中公开的信息是在实现本公开之前发明人已知的，或者是在实现本公开的过程中获取的技术信息。因此，它可以包含不形成本国公众已知的现有技术的信息。
发明内容
实施方式可以通过提供用于沉积的掩模实现，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力而联接到框架，所述掩模包括具有第一厚度的第一肋部以及包括多个图案孔和至少一个蚀刻部的图案部，沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，所述至少一个蚀刻部具有小于第一厚度的第二厚度并且连接在所述多个图案孔中的一部分之间。
图案部还可以包括具有比第二厚度小的第三厚度的至少一个图案凹部。
所述至少一个图案凹部可以包括多个图案凹部，以及所述多个图案凹部可以以菱形形状设置。
所述至少一个图案凹部可以包括多个图案凹部，以及每个图案孔可以位于所述多个图案凹部之中的相邻图案凹部之间。
所述多个图案孔中的一部分可以以菱形形状设置。
所述至少一个蚀刻部可以包括多个蚀刻部，以及所述多个蚀刻部可以在第一方向上彼此间隔开。
所述至少一个蚀刻部可以包括沿着第一方向延伸的多个蚀刻部，以及所述多个蚀刻部可以在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开。
所述至少一个蚀刻部可以包括沿着第一方向延伸的第一蚀刻部以及沿着与第一方向交叉的第二方向延伸的第二蚀刻部。
第一蚀刻部可以与第二蚀刻部交叉。
所述至少一个蚀刻部可以具有沿着第一方向或与第一方向交叉的第二方向延伸的之字形形状。
所述多个图案孔可以设置在之字形形状的顶点处。
图案部可以具有等于或小于第一厚度的厚度。
图案部可以包括位于除了图案孔和蚀刻部之外的区域中的第二肋部，第二肋部具有比所述至少一个蚀刻部的第二厚度大的厚度。
实施方式可以通过提供制造用于沉积的掩模的方法实现，所述掩模包括第一肋部和图案部，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力而联接到框架，所述方法包括：使第一激光束照射图案部的一部分并形成被第一激光束蚀刻的至少一个蚀刻部；以及使第二激光束照射至少一个蚀刻部的一部分并形成多个图案孔，沉积材料能够传输经过所述多个图案孔。
第一肋部可以具有第一厚度，以及所述至少一个蚀刻部可以具有小于第一厚度的第二厚度。
可以使第一激光束在第一方向或与第一方向交叉的第二方向上沿着之字形路径照射。
所述至少一个蚀刻部可以包括多个蚀刻部，以及所述多个蚀刻部可以在第一方向上彼此间隔开。
所述至少一个蚀刻部可以包括多个蚀刻部，以及所述多个蚀刻部可以在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开。
可以使第一激光束沿着之字形路径连续照射。
可以使第二激光束照射之字形路径的顶点。
可以使第一激光束沿着之字形路径照射多次。
所述至少一个蚀刻部可以包括被第一激光束照射一次的第一凹槽和被第一激光束照射两次的第二凹槽，第二凹槽具有比第一凹槽的厚度小的厚度。
可以使第二激光束照射第二凹槽，以及所述多个图案孔可以形成在第二凹槽中。
可以使第一激光束在第一方向和与第一方向交叉的第二方向上照射。
所述至少一个蚀刻部可以包括在第一方向上延伸的第一蚀刻部以及在与第一方向交叉的第二方向上延伸的第二蚀刻部。
第一蚀刻部可以与第二蚀刻部交叉。
所述至少一个蚀刻部可以包括被第一激光束照射一次的连接凹槽；以及被第一激光束照射两次的至少一个图案凹部，所述至少一个图案凹部具有比连接凹槽的厚度小的厚度。
所述至少一个图案凹部可以包括多个图案凹部，以及图案孔可以通过使第二激光束照射多个图案凹部中的至少一部分而形成。
多个图案孔和多个图案凹部可以在第一方向和第二方向上交替布置。
实施方式可以通过提供使用用于沉积的掩模制造显示装置的方法实现，其中，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力而联接到框架，所述方法包括：将显示基板和用于沉积的掩模插入到腔室中；以及将沉积材料沉积在显示基板之上，沉积材料从沉积源喷射并穿行经过用于沉积的掩模，其中，用于沉积的掩模包括具有第一厚度的第一肋以及包括多个图案孔和至少一个蚀刻部的图案部，沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，所述至少一个蚀刻部具有小于第一厚度的第二厚度并且连接在所述多个图案孔中的一部分之间。
图案部还可以包括具有比第二厚度小的第三厚度的至少一个图案凹部。
所述至少一个图案凹部可以包括多个图案凹部，以及所述多个图案凹部可以以菱形形状布置。
所述至少一个图案凹部可以包括多个图案凹部，以及每个图案孔可以设置在所述多个图案凹部之中的相邻图案凹部之间。
所述多个图案孔中的一部分可以以菱形形状设置。
所述至少一个蚀刻部可以包括多个蚀刻部，以及所述多个蚀刻部可以在第一方向上彼此间隔开。
所述至少一个蚀刻部可以包括多个蚀刻部，以及所述多个蚀刻部可以在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开。
所述至少一个蚀刻部可以包括沿着第一方向延伸的第一蚀刻部以及沿着与第一方向交叉的第二方向延伸的第二蚀刻部。
第一蚀刻部可以与第二蚀刻部交叉。
所述至少一个蚀刻部可以具有沿着第一方向或与第一方向交叉的第二方向延伸的之字形形状。
所述多个图案孔可以设置在之字形形状的顶点处。
图案部可以具有等于或小于第一厚度的厚度。
图案部可以包括位于除了图案孔和蚀刻部之外的区域中的第二肋部，第二肋部具有比所述至少一个蚀刻部的第二厚度大的厚度。
附图说明
通过参照附图详细地描述示例性实施方式，对于本领域技术人员而言，特征将变得明显，附图中：
图1示出了根据实施方式的用于沉积的掩模的平面图；
图2示出了图1的掩模的A部分的放大平面图；
图3示出了沿着图2的线I-I'截取的掩模的剖视图；
图4示出了图2中所示的图案部的变型的放大平面图；
图5示出了沿着图4的线II-II'截取的图案部的剖视图；
图6示出了图2中所示的图案部的另一变型的放大平面图；
图7示出了沿着图6的线III-III'截取的剖视图；
图8示出了沿着图6的线IV-IV'截取的剖视图；
图9示出了为了形成图2中所示的蚀刻部而连续照射图案部的一部分的第一激光束的照射路径的放大平面图；
图10示出了为了形成图2中所示的蚀刻部而多次照射图案部的一部分的第一激光束的照射路径的放大平面图；
图11示出了为了形成图4中所示的蚀刻部而连续照射图案部的一部分的第一激光束的照射路径的放大平面图；
图12示出了为了形成图4中所示的蚀刻部而多次照射图案部的一部分的第一激光束的照射路径的放大平面图；
图13示出了为了形成图6中所示的蚀刻部而连续照射图案部的一部分的第一激光束的照射路径的放大平面图；
图14示出了用于制造包括图1的用于沉积的掩模的显示装置的设备的剖视图；
图15示出了由图14中所示的用于制造显示装置的设备制造的显示装置的平面图；以及
图16示出了沿着图15的线V-V'截取的显示装置的剖视图。
具体实施方式
现在将在下文中参照附图更充分地描述示例性实施方式；然而，它们可以以不同的形式体现，并且不应被解释为限于本文中所阐述的实施方式。更确切地，这些实施方式被提供以使得本公开将是透彻和完整的，并且将向本领域技术人员充分传达示例性实施。
在附图中，为了说明的清楚，层和区域的尺寸可能被夸大。还将理解，当层或元件被称为在另一层或元件“上”时，其可以直接在该另一层或元件上，或者也可以存在中间层。此外，还将理解，当层被称为在两层“之间”时，它可以是该两层之间的唯一层，或者也可以存在一个或更多个中间层。在全文中，相同的附图标记表示相同的元件。
将理解，尽管术语“第一”，“第二”等在本文中可以用于描述各种部件，但这些部件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个部件与另一部件区分开。如本文中所使用的，除非上下文另有明确指示，否则单数形式“一”、“一个”和“所述”也旨在包括复数形式。将进一步理解，本文中使用的术语“包括(includes)”、“包括(including)”、“包括(comprises)”和/或“包括(comprising)”指定所阐述的特征或部件的存在，但不排除一个或更多个其它特征或部件的存在或添加。
当可以不同地实施某个实施方式时，可以以与所描述的顺序不同地执行特定过程顺序。例如，两个连续描述的过程可以基本上同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。
在实施方式中，显示装置可以包括各种装置。例如，显示装置可以包括液晶显示装置或有机发光显示装置。为了便于描述，以下主要描述显示装置是有机发光显示装置的情况。
图1示出了根据实施方式的用于沉积的掩模110的平面图，图2示出了图1的掩模110的A部分的放大平面图，以及图3示出了沿着图2的线I-I'截取的掩模110的剖视图。
参照图1至图3，用于沉积的掩模110可以包括第一肋部111和图案部112。
第一肋部111可以形成用于沉积的掩模110的主体或支撑件。第一肋部111可以具有第一厚度t1(例如，在所述掩模的沉积方向上)。为了实现高分辨率显示，沉积在显示基板上的沉积材料的图案应该是精细的。例如，用于沉积的掩模110可以具有薄的厚度。例如，为了实现高分辨率显示，第一肋部111的第一厚度t1可以是薄的。在实施方案中，第一厚度t1可以是例如约10μm至约50μm。例如，第一肋部111的第一厚度t1可以根据要实现的显示装置的分辨率而具有预定值，并且可以根据显示装置相关技术以后的发展而小于约10μm。
图案部112可以被限定为用于沉积的掩模110中的除了第一肋部111之外的区域，并且可以是所述掩模的被沉积材料实际穿行经过的区域。图案部112可以包括多个图案孔112h(沉积材料可传输经过所述多个图案孔112，例如在所述掩模的沉积方向上)以及位于图案孔112h中的一部分之间的或者连接图案孔112h中的一部分的蚀刻部112e。在实施方案中，蚀刻部112e可以具有比第一肋部111的第一厚度t1小的第二厚度t2(例如，在所述掩模的沉积方向上)。图案部112还可以包括类似于第一肋部111的、形成图案部112的主体的或支撑图案部112的第二肋部112r。例如，第二肋部112r(形成图案部112的主体)和第一肋部111(形成用于沉积的掩模110的主体)可以是不同的或有区别的元件，第二肋部112r可以与第一肋部111一起形成用于沉积的掩模110的主体(例如，第二肋部112r可以与第一肋部111连续以形成单个的整体件)。例如，第二肋部112r和第一肋部111可以用作赋予用于沉积的掩模110刚性的元件。
在实施方案中，第一肋部111和第二肋部112r可以具有相同的厚度。例如，第一肋部111的第一厚度t1可以对应于或者可以等于第二肋部112r的厚度t。应注意，第二肋部112r的厚度t表示“图案部112的厚度”。
在其它掩模中，第二肋部112r的厚度t可以等于蚀刻部112e的第二厚度t2。在这种情况下，图案部112中的图案孔112h的布置结构可能容易因施加到用于沉积的掩模110的外力而变形。根据实施方式，可以通过使第二肋部112r的厚度t形成为与第一肋部111的第一厚度t1相同而保证图案部112的刚性。例如，当第二肋部112r的厚度t形成得厚(例如，与第一肋部111的第一厚度t1相同)时，可以防止图案孔112h的布置结构因施加到用于沉积的掩模110的外力而变形。
如上所述，在实施方案中，第二肋部112r的厚度t可以与第一肋部111的第一厚度t1相同。在实施方案中，即使第二肋部112r的厚度t稍小于第一肋部111的第一厚度t1，第二肋部112r的厚度t也可以基本上对应于第一肋部111的第一厚度t1，例如，第二肋部112r的厚度t可以约等于第一肋部111的第一厚度t1。在实施方案中，第二肋部112r的厚度t可以至少大于蚀刻部112e的第二厚度t2。
为了加强图案部112的刚性，不仅可以考虑第二肋部112r的厚度t，而且也可以考虑第二肋部112r的布置结构。蚀刻部112e的形状可以确定第二肋部112r的布置结构，并且以下参照图2至图8对蚀刻部112e的形状进行描述。
参照图2，蚀刻部112e可以包括在第一方向上重复布置的多个蚀刻部112e，并且所述多个蚀刻部112e可以在第一方向上彼此间隔开。蚀刻部112e可以在第二方向上具有蛇形(serpentine)形状。例如，蚀刻部112e可以布置成不连续的之字形(zigzag)或锯齿形(sawtooth)图案。在实施方案中，多个图案孔112h可以定位在蚀刻部112e的拐点或顶点处(例如，在不连续的之字形或锯齿形图案的不连续处)。参照图3，如上所述，第二肋部112r的厚度t可以等于或者还可以对应于第一肋部111的第一厚度t1。例如，第二肋部112r的厚度t可以大于蚀刻部112e的第二厚度t2。
根据蚀刻部112e和图案孔112h的上述结构，第二肋部112r可以包括在第一方向上重复布置的多个第二肋部112r，并且所述多个第二肋部112r可以沿着第二方向以连接的形式布置。例如，第二肋部112r可以是一个连续件，并且可以包括位于蚀刻部112e之间的在第二方向上纵向延伸的部分。如上所述，第二肋部112r可以是形成图案部112的主体的元件。由于第二肋部112r具有在第二方向上延伸的结构，因此第二肋部112r可以具有抵抗在第二方向上施加到用于沉积的掩模110的外力的预定阻力。例如，可以通过第二肋部112r的在第二方向上延伸的结构来获得增加用于沉积的掩模110在第二方向上的刚性的效果。
例如，用于沉积的掩模110可以通常通过在第一方向上施加的张力而联接到具有框架形状的框架F(参见图14)。在这种情况下，用于沉积的掩模110可以在第一方向上拉伸预定长度，并且用于沉积的掩模110可以在第二方向上收缩预定长度。在实施方案中，在具有图2和图3中所示的图案部112的结构的用于沉积的掩模110在第一方向上被拉伸的情况下，可以有效地防止用于沉积的掩模110在第二方向上的收缩。例如，在第二方向上纵向延伸的第二肋部112r的强度或刚性可以有助于确保图案部112不变形(例如，可以有助于防止在第二方向上的收缩)，使得图案孔112h的定位或位置可以不相对于期望的定位或位置变化。
接下来，参照图4和图5描述另一实施方式。
图4示出了图2中所示的图案部112的变型的放大平面图，以及图5示出了沿着图4的线II-II'截取的图案部212的剖视图。
参照图4，蚀刻部212e可以包括在第二方向(与第一方向交叉)上重复布置的多个蚀刻部212e。所述多个蚀刻部212e可以在第二方向上彼此间隔开。蚀刻部212e可以在第一方向上具有蛇形形状(例如，可以具有不连续的之字形或锯齿形形状或布置)。在实施方案中，多个图案孔212h可以处于蚀刻部212e的拐点或顶点(例如，形成蚀刻部212e的不连续的之字形或锯齿形形状中的不连续)。参照图5，如上所述，第二肋部212r的厚度t可以对应于或约等于第一肋部211的第一厚度t1。在实施方案中，第二肋部212r的厚度t可以大于蚀刻部212e的第二厚度t2。
基于蚀刻部212e和图案孔212h的上述结构，第二肋部212r可以包括在第二方向上重复布置的多个第二肋部212r，并且所述多个第二肋部212r可以沿着第一方向以连接的形式布置。例如，第二肋部212r可以是一个连续件，并且可以包括位于蚀刻部212e之间的在第一方向上纵向延伸的部分。如上所述，第二肋部212r可以是形成图案部212的主体并支撑图案部212的结构的元件。由于第二肋部212r具有在第一方向上延伸的结构，因此第二肋部212r可以具有抵抗在第一方向上施加到用于沉积的掩模210的外力的预定阻力。例如，可通过在第一方向上延伸的第二肋部212r的结构来获得增加用于沉积的掩模210在第一方向上的刚性的效果。
例如，用于沉积的掩模210可以通常通过在第一方向上施加的张力而联接到具有框架形状的框架F(参见图14)。在这种情况下，用于沉积的掩模210可以在第一方向上拉伸预定长度。因此，在具有图4和图5中所示的图案部212的结构的用于沉积的掩模210在第一方向上被拉伸的情况下，可以有效地防止用于沉积的掩模210在第一方向上的拉伸。
接下来，参照图6至图8描述又一实施方式。
图6示出了图2中所示的图案部112的另一变型的放大平面图，图7示出了沿着图6的线III-III'截取的图案部312的剖视图，以及图8示出了沿着图6的线IV-IV'截取的图案部312的剖视图。
参照图6，图案部312可以包括图案孔312h、图案凹部312m和蚀刻部312e。蚀刻部312e可以包括平行于第一方向的第一蚀刻部312e_1和平行于第二方向(与第一方向交叉)的第二蚀刻部312e_2。例如，第一蚀刻部312e_1可以与第二蚀刻部312e_2交叉。
多个图案孔312h和多个图案凹部312m可以位于第一蚀刻部312e_1与第二蚀刻部312e_2交叉的点处。在这种情况下，多个图案孔312h中的一部分和/或多个图案凹部312m中的一部分可以以菱形形状布置(例如，四个图案孔312h可以形成菱形的顶点和/或四个图案凹部312m可以形成菱形的顶点)。例如，每个图案凹部312m可以布置在图案孔312h之中相邻的图案孔312h之间。在实施方案中，图案部312可以包括第二肋部312r，第二肋部312r对应于或形成除了蚀刻部312e之外的区域并形成图案部312的主体和/或支撑图案部312的结构。
参照图7，蚀刻部312e可以具有第二厚度t2。第二厚度t2可以小于第一肋部311的第一厚度t1。在实施方案中，图案凹部312m可以具有第三厚度t3。第三厚度t3可以小于蚀刻部312e的第二厚度t2。
另外，参照图8，第二肋部312r可以具有对应于或约等于第一肋部311的第一厚度t1的厚度t。在实施方案中，蚀刻部312e可以具有比第一肋部311的第一厚度t1和第二肋部312r的厚度t小的第二厚度t2。
通过具有与第一肋部311的第一厚度t1基本上对应或相等的厚度t的第二肋部312r，具有图6至图8中所示的图案部312的用于沉积的掩模310可以具有抵抗在第一方向和第二方向上施加到用于沉积的掩模310的外力的预定阻力。此外，通过加强用于沉积的掩模310的刚性，位于图案孔312h之间并且具有第三厚度t3的图案凹部312m可以具有抵抗在第一方向和第二方向上施加到用于沉积的掩模310的外力的预定阻力。
在下文中，对制造参照图1至图8描述的各种变型所适用的用于沉积的掩模110、210和310的方法进行描述。
图9示出了为了形成图2中所示的蚀刻部112e而连续照射图案部112的一部分的第一激光束L1a的照射路径的放大平面图，图10示出了为了形成图2中所示的蚀刻部112e而多次照射图案部112的一部分的第一激光束L1a'的照射路径的放大平面图，图11示出了为了形成图4中所示的蚀刻部212e而连续照射图案部212的一部分的第一激光束L2a的照射路径的放大平面图，图12示出了为了形成图4中所示的蚀刻部212e而多次照射图案部212的一部分的第一激光束L2a'的照射路径的放大平面图，以及图13示出了为了形成图6中所示的蚀刻部312e而连续照射图案部312的一部分的第一激光束L3a的照射路径的放大平面图。
图9示出了示出连续照射图2中所示的用于沉积的掩模110的图案部112的一部分的第一激光束L1a的视图。参照图9，可以使第一激光束L1a在大体平行于第二方向的方向上沿着蛇形、之字形或锯齿形路径连续照射。图案部112的已经被第一激光束L1a照射的部分被蚀刻以形成图2中所示的蚀刻部112e。在这种情况下，多个蚀刻部112e可以在第一方向上彼此间隔开。尽管蚀刻部112e在图9中被示出为一条实线，但这是为了便于描述。应注意，当使第一激光束L1a沿着图9的第一激光束L1a的照射路径照射一次或更多次时，可以形成图2的蚀刻部112e。
在沿着图9中所示的路径形成了蚀刻部112e之后，可以使第二激光束附加地照射蚀刻部112e的拐点或顶点IP。图2中所示的多个图案孔112h可以分别形成在蚀刻部112e的已经被第二激光束附加地照射的顶点IP处。在实施方案中，第一激光束L1a和第二激光束可以仅在它们的照射顺序上不同，因为它们可以分别用于依次处理蚀刻部112e和图案孔112h，并且第一激光束L1a和第二激光束可以从基本上相同的设备照射。
第一激光束L1a未照射到的区域(例如，图案部112的除了蚀刻部112e之外的其它区域)可以不被第一激光束L1a蚀刻，而是可以保持为图案部112的原始形式。图案部112的该剩余区域RA可以对应于或者可以是图2中所示的第二肋部112r。在实施方案中，第二肋部112r可以具有对应于或者约等于图2和图3中所示的第一肋部111的第一厚度t1的厚度t。如上所述，在第二肋部112r具有对应于或约等于第一肋部111的第一厚度t1的厚度t的情况下，可以增加用于沉积的掩模110的刚性。
图10示出了示出照射图2中所示的用于沉积的掩模110的图案部112的一部分的第一激光束L1a'的视图。参照图10，可以使第一激光束L1a'大体在第二方向上沿着蛇形、之字形或锯齿形路径照射多次。例如，可以使第一激光束L1a'在照射方向改变的顶点IP处部分重叠。例如，可以使第一激光束L1a'不连续地照射，并且不连续的单独照射步骤可以在顶点IP处重叠。
在这种情况下，通过第一激光束L1a'形成的蚀刻部112e可以包括被第一激光束L1a'照射一次的第一凹槽G1和被第一激光束L1a'双重照射两次的第二凹槽或孔G2。在这种情况下，第二凹槽G2可以比第一凹槽G1被第一激光束L1a'多蚀刻一次，并且第二凹槽G2的厚度可以小于第一凹槽G1的厚度。在实施方案中，如图10中所示，蚀刻部112e可以形成为一条实线。在实施方案中，当使第一激光束L1a'沿着图10的第一激光束L1a'的照射路径照射一次或更多次时，可以形成图2的蚀刻部112e。例如，第二凹槽或孔G2可以形成在之字形图案的顶点IP处。
在通过第一激光束L1a'形成了包括第一凹槽G1和第二凹槽G2的蚀刻部112e之后，可以使第二激光束附加地照射第二凹槽G2。多个图案孔112h可以分别形成在蚀刻部112e的已经被第二激光束附加地照射的第二凹槽G2中。在实施方案中，第一激光束L1a'和第二激光束可以仅在它们的照射顺序上不同，因为它们分别用于依次处理蚀刻部112e和图案孔112h，并且第一激光束L1a'和第二激光束可以从基本上相同的设备照射。
第一激光束L1a'未照射到的区域(例如，图案部112的除了蚀刻部112e之外的其它区域)可以不被第一激光束L1a'蚀刻，而是可以保持为图案部112的原始形式。图案部112的该剩余区域RA可以对应于或者可以变为图2中所示的第二肋部112r。在实施方案中，第二肋部112r可以具有对应于或者约等于图2和图3中所示的第一肋部111的第一厚度t1的厚度t。如上所述，在第二肋部112r具有对应于或约等于第一肋部111的第一厚度t1的厚度t的情况下，可以增加用于沉积的掩模110的刚性。
图11示出了示出图9的第一激光束L1a的照射路径的另一变型的视图，并且示出了第一激光束L2a可以连续照射图4的用于沉积的掩模210的图案部212的一部分。参照图11，可以使第一激光束L2a在大体平行于第一方向的方向上沿着蛇形、之字形或锯齿形路径连续照射。图案部212的已经被第一激光束L2a照射的部分可以被蚀刻以形成图4中所示的蚀刻部212e。在这种情况下，多个蚀刻部212e可以在第二方向上彼此间隔开。在实施方案中，如图11中所示，蚀刻部212e可以呈一条实线的形式。应注意，当第一激光束L2a沿着图11的第一激光束L2a的照射路径照射一次或更多次时，可以形成图4的蚀刻部212e。
在沿着图11中所示的路径形成了蚀刻部212e之后，可以使第二激光束附加地照射蚀刻部212e的顶点IP。图4中所示的多个图案孔212h可以分别形成在蚀刻部212e的已经被第二激光束附加地照射的顶点IP处。在实施方案中，第一激光束L2a和第二激光束可以仅在它们的照射顺序上不同，因为它们分别用于依次处理蚀刻部212e和图案孔212h，并且第一激光束L2a和第二激光束可以从基本上相同的设备照射。
第一激光束L2a未照射到的区域(例如，图案部212的除了蚀刻部212e之外的其它区域)可以不被第一激光束L2a蚀刻，而是可以保持为图案部212的原始形式。图案部212的该剩余区域RA可以对应于或者是图4中所示的第二肋部212r。在实施方案中，第二肋部212r可以具有对应于或约等于图4和图5中所示的第一肋部211的第一厚度t1的厚度t。如上所述，在第二肋部212r具有对应于或约等于第一肋部211的第一厚度t1的厚度t的情况下，可以增加用于沉积的掩模210的刚性。
图12示出了示出照射图4中所示的用于沉积的掩模210的图案部212的一部分的第一激光束L2a'的视图。参照图12，可以使第一激光束L2a'大体在第一方向上沿着蛇形、之字形或锯齿形路径照射多次。例如，第一激光束L2a'可以在照射方向改变的顶点IP处部分重叠。
在这种情况下，由第一激光束L2a'形成的蚀刻部212e可以包括被第一激光束L2a'照射一次的第一凹槽G1和被第一激光束L2a'照射两次(例如，由于照射路径的重叠)的第二凹槽G2。在这种情况下，第二凹槽G2可以比第一凹槽G1被第一激光束L2a'多蚀刻一次，并且第二凹槽G2的厚度可以小于第一凹槽G1的厚度。在实施方案中，如图12中所示，蚀刻部212e可以呈一条实线的形式。应注意，当第一激光束L2a'沿着图12的第一激光束L2a'的照射路径照射一次或更多次时，可以形成图4的蚀刻部212e。
在通过第一激光束L2a'形成了包括第一凹槽G1和第二凹槽G2的蚀刻部212e之后，可以使第二激光束附加地照射第二凹槽G2。多个图案孔212h可以分别形成在蚀刻部212e的已经被第二激光束附加地照射的第二凹槽G2中。在实施方案中，第一激光束L2a'和第二激光束仅在它们的照射顺序上不同，因为它们分别用于依次处理蚀刻部212e和图案孔212h，并且第一激光束L2a'和第二激光束可以从基本上相同的设备照射。
第一激光束L2a'未照射到的区域(例如，图案部212的除了蚀刻部212e之外的其它区域)可以不被第一激光束L2a'蚀刻，而是可以保持为图案部212的原始形式。图案部212的该剩余区域RA可以对应于或者是图4中所示的第二肋部212r。在实施方案中，第二肋部212r可以具有对应于或约等于图4和图5中所示的第一肋部211的第一厚度t1的厚度t。如上所述，在第二肋部212r具有对应于或约等于第一肋部211的第一厚度t1的厚度t的情况下，可以增加用于沉积的掩模210的刚性。
图13示出了示出图9和图11的第一激光束L1a和第一激光束L2a的照射路径的另一变型的视图，并且示出了第一激光束L3a在第一方向和与第一方向交叉的第二方向上照射图6的用于沉积的掩模310的图案部312的一部分。图6的第一蚀刻部312e_1和第二蚀刻部312e_2可以通过在第一方向和第二方向上照射的第一激光束L3a形成在图案部312中。此处，第一蚀刻部312e_1和第二蚀刻部312e_2可以被布置为使得第一蚀刻部312e_1与第二蚀刻部312e_2交叉。
第一激光束L3a可以在第一蚀刻部312e_1与第二蚀刻部312e_2交叉的点处照射两次。例如，蚀刻部312e可以包括被第一激光束L3a照射一次的连接凹槽CG和被第一激光束L3a照射两次的图案凹部PM。此处，应注意，图13的图案凹部PM与图6的图案凹部312m是相同的元件或处于相同的位置处。在实施方案中，蚀刻部312e可以呈一条实线的形式。应注意，图13的连接凹槽CG和图案凹部PM与图6的最终蚀刻部312e和图案凹部312m对应或共位置。
如上所述，在包括第一蚀刻部312e_1和第二蚀刻部312e_2的蚀刻部312e通过第一激光束L3a形成在图案部312上并且多个图案凹部PM形成在第一蚀刻部312e_1与第二蚀刻部312e_2交叉的点处之后，可以使第二激光束照射图案凹部PM中的至少一部分。可以在图案凹部PM的已经被第二激光束照射的所述至少一部分中形成多个图案孔PH。
此处，应注意，图13的图案孔PH与图6的图案孔312h是相同的元件。图案孔PH和图案凹部PM可以在第一方向和第二方向上交替布置。例如，图案孔PH和图案凹部PM可以以菱形形状布置。
在实施方案中，第一激光束L3a和第二激光束可以仅在它们的照射顺序上不同，因为它们可以分别用于依次处理蚀刻部312e和图案孔312h，并且第一激光束L3a和第二激光束可以从基本上相同的设备照射。
第一激光束L3a未照射到的区域(例如，图案部312的除了蚀刻部312e之外的其它区域)可以不被第一激光束L3a蚀刻，而是可以保持为图案部312的原始形式。图案部312的该剩余区域RA可以对应于或者是图6中所示的第二肋部312r。在实施方案中，第二肋部312r可以具有对应于或约等于图6和图8中所示的第一肋部311的第一厚度t1的厚度t。如上所述，在第二肋部312r具有对应于或约等于第一肋部311的第一厚度t1的厚度t的情况下，可以增加用于沉积的掩模310的刚性。
参照图14，用于制造显示装置的设备100可以包括用于沉积的掩模组件MA、腔室120、第一支撑件130、第二支撑件140、视觉部150、沉积源160和压力调节器170。
用于沉积的掩模组件MA可以包括框架F、用于沉积的掩模110’和支撑杆SS。
框架F可以包括多个框架。框架可以以格子形状或四边形形状配置或者具有格子形状或四边形形状，或者可以如相框中一样在其中间具有空腔形状。
例如，框架F可以限定沉积材料穿行所通过或经过的区域。多个用于沉积的掩模110’可以在第二方向上布置并固定在框架F的上表面上。例如，用于沉积的掩模110’可以通过在第一方向上施加到所述掩模的张力而联接到框架F。在实施方案中，框架F和用于沉积的掩模110’可以分开设置并且彼此联接，或者框架F和用于沉积的掩模110’可以形成为一体。
图14中所示的用于沉积的掩模110’可以是根据参照图1、图2、图4和图6描述的各个实施方式的用于沉积的掩模110、210和310中的一种。因此，此处可以省略对用于沉积的掩模110’的重复的详细描述。关于用于沉积的掩模110’的结构和可以通过该结构获得的效果，参考参照图1至图8描述的内容。
除了上述配置之外，用于沉积的掩模组件MA还可以包括设置在框架F上并且支撑用于沉积的掩模110’的支撑杆SS。在这种情况下，支撑杆SS可以设置在框架F上，使得支撑杆SS平行于框架F的长边和短边中的至少之一。另外，支撑杆SS可以布置在框架F的内部空间中。例如，支撑杆SS的一部分可以在相邻的用于沉积的掩模110’之间布置在用于沉积的掩模110’的纵向方向上，并且防止沉积材料在用于沉积的掩模110’之间穿行。
腔室120可以在其中具有空间，并且腔室120的一部分可以是敞开的。闸阀120a可以设置于腔室120的开口部分并且选择性地打开/关闭腔室120的开口部分。
第一支撑件130可以支撑显示基板S。在这种情况下，第一支撑件130可以以多种方式支撑显示基板S。例如，第一支撑件130可以包括静电卡盘或粘合卡盘。在实施方案中，第一支撑件130可以包括支撑显示基板S的一部分的支架或夹具。在实施方案中，第一支撑件130可以包括可以支撑显示基板S的所有装置。在下文中，为了便于描述，主要描述第一支撑件130包括静电卡盘或粘合卡盘的情况。
用于沉积的掩模组件MA可以安置在第二支撑件140上并由第二支撑件140支撑。在这种情况下，第二支撑件140可以在至少两个不同的方向上精细调节用于沉积的掩模组件MA。例如，第二支撑件140可以在第一方向或第二方向上调节用于沉积的掩模组件MA的位置。
视觉部150可以拍摄显示基板S和用于沉积的掩模组件MA的位置。在这种情况下，可以基于由视觉部150获取的图像通过移动显示基板S和用于沉积的掩模组件MA中的至少之一来使显示基板S和用于沉积的掩模组件MA对齐。
沉积材料可以存储在沉积源160内。沉积源160可以包括加热器160a。沉积材料可以通过从加热器160a施加的热而被蒸发。
沉积源160可以具有多种形状。例如，沉积源160可以是点沉积源，在所述点沉积源中，排出沉积材料所经过的入口部分是圆形的。在实施方案中，沉积源160可以是长的线沉积源，在所述长的线沉积源中，设置有多个入口部分或者入口部分是长的空腔。为了便于描述，以下主要描述沉积源160是点沉积源并且面对用于沉积的掩模组件MA的一个点的情况。
压力调节器170可以连接到腔室120并且将腔室120内部的压力调节到与大气压力或真空相似的压力。在这种情况下，压力调节器170可以包括连接到腔室120的连接管171和设置于连接管171的压力调节泵172。
对通过使用用于制造显示装置的设备100来制造显示装置的方法进行描述。可以制造和制备显示基板S。
压力调节器170可以将腔室120的内部保持为大气压。在打开了闸阀120a之后，可以将显示基板S和用于沉积的掩模组件MA插入到腔室120中。在这种情况下，单独的机械手臂、运输装置(shuttle)等可以设置在腔室120的内部或外部并传递显示基板S和用于沉积的掩模组件MA。
当完成了上述过程时，压力调节器170可以将腔室120的内部保持为几乎真空。此外，视觉部150可以拍摄显示基板S和用于沉积的掩模组件MA，精细驱动第一支撑件130和第二支撑件140，精细调节显示基板S和用于沉积的掩模组件MA中的至少之一，并且从而使显示基板S和用于沉积的掩模组件MA对齐。
接下来，加热器160a可以操作，并且沉积源160可以在朝用于沉积的掩模组件MA的方向上喷射沉积材料。已经穿行经过用于沉积的掩模组件MA的沉积材料可以以预定图案沉积在显示基板S上。
在执行上述过程时，沉积源160和显示基板S中的至少之一可以执行线性运动。在实施方案中，可以在沉积源160和显示基板S二者停止时执行沉积。在下文中，主要描述在沉积源160和显示基板S二者停止时执行沉积的情况。
图15示出了通过图14中所示的用于制造显示装置的设备100制造的显示装置20的平面图，以及图16示出了沿着图15的线V-V'截取的显示装置20的剖视图。
参照图15和图16，显示装置20可以包括基板21之上的显示区域DA和显示区域DA外部的非显示区域NDA。发射部分位于显示区域DA中，并且电力布线等可以位于非显示区域NDA中。此外，焊盘部C可以位于非显示区域NDA中。
显示装置20可以包括显示基板D、中间层28b、相对电极28c和封装层。在这种情况下，显示基板D可以包括基板21、缓冲层22、薄膜晶体管TFT、钝化层27、像素电极28a和像素限定层29。另外，封装层可以包括与基板21相同或相似的封装基板或薄膜封装层E。在封装层包括封装基板的情况下，单独的密封构件可以在基板21和封装基板之间。在下文中，为了便于描述，主要描述封装层包括薄膜封装层E的情况。
基板21可以包括塑料材料或诸如SUS或Ti的金属材料。在实施方案中，基板21可以包括聚酰亚胺(PI)。在下文中，为了便于描述，主要描述基板21包括PI的情况。
发射部分可以形成在基板21之上。在这种情况下，将薄膜晶体管TFT设置到发射部分。钝化层27覆盖薄膜晶体管TFT。有机发光二极管(OLED)28可以位于钝化层27上。
包括有机化合物和/或无机化合物的缓冲层22进一步位于基板21上。缓冲层22可以包括SiOx(x≥1)或SiNx(x≥1)。
在缓冲层22上形成了以预定图案布置的有源层23之后，栅极绝缘层24掩埋有源层23。有源层23包括源极区域23a和漏极区域23c，并且还包括位于它们之间的沟道区域23b。
有源层23可以包括多种材料。例如，有源层23可以包括诸如非晶硅或晶体硅的无机半导体材料。在实施方案中，有源层23可以包括氧化物半导体。在实施方案中，有源层23可以包括有机半导体材料。在下文中，为了便于描述，主要描述有源层23包括非晶硅的情况。
可以通过在缓冲层22上形成非晶硅层然后使非晶硅层晶化以形成多晶硅层并且使多晶硅层图案化来形成有源层23。有源层23的源极区域23a和漏极区域23c根据驱动薄膜晶体管、开关薄膜晶体管等的薄膜晶体管类型而掺杂杂质。
与有源层23对应的栅电极25和掩埋栅电极25的层间绝缘层26形成在栅极绝缘层24的上表面上。
此外，在层间绝缘层26和栅极绝缘层24中形成了接触孔H1之后，在层间绝缘层26上形成源电极27a和漏电极27b，使得源电极27a和漏电极27b分别接触源极区域23a和漏极区域23c。
钝化层27形成在以上所描述的薄膜晶体管TFT上。OLED 28的像素电极28a形成在钝化层27上。像素电极28a经由钝化层27中的接触孔H2接触薄膜晶体管TFT的源电极27a。钝化层27可以包括单层或两层或更多层，所述单层或两层或更多层包括无机材料和/或有机材料。钝化层27可以是其中钝化层27的上表面被平坦化而与下层的弯曲无关的平坦化层，或者可以是依赖于下层的弯曲的弯曲层。在实施方案中，钝化层27可以包括透明绝缘体以实现谐振效应。
在钝化层27上形成了像素电极28a之后，覆盖像素电极28a和钝化层27并且包括无机材料和/或有机材料的像素限定层29被形成并且是敞开的以暴露像素电极28a。
在实施方案中，中间层28b和相对电极28c至少位于像素电极28a上。
像素电极28a用作阳电极，并且相对电极28c用作阴电极。像素电极28a和相对电极28c的极性可以容易地反转。
像素电极28a通过中间层28b与相对电极28c绝缘。通过向中间层28b施加不同极性的电压而在有机发射层中产生光发射。
中间层28b可以包括有机发射层。在实施方案中，中间层28b可以包括有机发射层，并且除了有机发射层之外还包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的至少之一。在实施方案中，中间层28b可以包括有机发射层，并且还包括各种其它功能层。
在这种情况下，可以通过参照图14描述的用于制造显示装置的设备100形成中间层28b。
另外，一个单元像素包括多个子像素。子像素可以发射各种颜色的光。例如，子像素可以包括分别发射红光、绿光和蓝光的子像素，或者包括分别发射红光、绿光、蓝光和白光的子像素。
薄膜封装层E可以包括多个无机层或者包括无机层和有机层。
薄膜封装层E的有机层包括聚合物，并且可以是包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、PI、聚碳酸酯(PC)、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸酯中的任何一种的单层或层叠。有机层可以包括聚丙烯酸酯，并且可以包括聚合的单体组合物，所述聚合的单体组合物包括基于二丙烯酸酯的单体和基于三丙烯酸酯的单体。所述单体组合物还可包括基于单丙烯酸酯的单体。在实施方案中，所述单体组合物还可以包括光引发剂，诸如三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦(TPO)。
薄膜封装层E的无机层可以是包括金属氧化物或金属氮化物的单层或层叠。例如，无机层可以包括SiNx、Al2O3、SiO2和TiO2中的一种。
薄膜封装层E的暴露于外部的最上层可以包括无机层以防止水分传输到OLED 28中。
薄膜封装层E可以包括其中至少一个有机层插入在至少两个无机层之间的至少一个夹层结构。在实施方案中，薄膜封装层E可以包括其中至少一个无机层插入在至少两个有机层之间的至少一个夹层结构。在实施方案中，薄膜封装层E可以包括其中至少一个有机层插入在至少两个无机层之间的夹层结构以及其中至少一个无机层插入在至少两个有机层之间的夹层结构。
薄膜封装层E可以依次包括OLED 28上的第一无机层、第一有机层和第二无机层。
在实施方案中，薄膜封装层E可以依次包括OLED 28上的第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层和第三无机层。
在实施方案中，薄膜封装层E可以依次包括OLED 28上的第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层、第三有机层和第四无机层。
包括LiF的卤化金属层可以附加地布置在OLED 28和第一无机层之间。卤化金属层可以防止OLED 28在通过溅射形成第一无机层时被损坏。
第一有机层可以具有比第二无机层的区域窄的区域。第二有机层可以具有比第三无机层的区域窄的区域。
因此，显示装置20可以包括形成精细图案的中间层28b，中间层28b沉积在精确的位置处，并且因此可以产生精确的图像。此外，即使当中间层28b被重复沉积时，中间层28b也形成恒定的图案，并且显示装置20在连续生产期间提供均匀的质量。
通过总结和回顾的方式，随着用于驱动显示装置的部件被小型化，显示装置在电子设备中的重要性可以逐渐增加，并且可以考虑这样的结构，在该结构中显示装置可弯曲并且相对于平坦状态具有预定角度。
在形成高分辨率显示装置中，用于将沉积材料沉积在显示基板上的用于沉积的掩模的厚度可能逐渐变薄。例如，用于沉积的掩模的刚性可能降低，并且当张力施加到用于沉积的掩模的相对端时，图案孔的布置可能被转变，并且因此沉积在显示基板上的沉积材料的图案可能被转变。
实施方式可以提供具有增加的刚性的掩模。
根据用于沉积的掩模、制造所述掩模的方法以及制造显示装置的方法，可以增加用于沉积的掩模的刚性。
此外，根据实施方式，在用于沉积的掩模通过施加到用于沉积的掩模的相对端的张力而联接到框架的情况下，可以防止图案孔的布置被转变。
此外，根据实施方式，沉积材料可以以相同或相似的图案沉积在显示基板的整个区域之上。
此外，根据实施方式，可以通过将沉积材料以均匀的图案沉积在显示基板上来制造高分辨率显示装置。
本文中已经公开了示例性实施方式，并且尽管采用了具体术语，但它们仅以一般的和描述性的意义使用和解释，而不是出于限制的目的。在一些情况下，对本领域普通技术人员将明显的是，除非另有明确指示，否则随着本申请的提交，联系具体实施方式描述的特征、特性和/或元件可以单独使用或者与联系其它实施方式描述的特征、特性和/或元件结合使用。因此，本领域技术人员将理解，在不偏离如所附权利要求所阐述的本发明的精神和范围的情况下，可以在形式和细节上进行多种改变。

Claims (38)

1.用于沉积的掩模，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力而联接到框架，所述掩模包括：
第一肋部，具有第一厚度；以及
图案部，包括：
多个图案孔，沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，以及
至少一个蚀刻部，所述至少一个蚀刻部具有小于所述第一厚度的第二厚度并且连接在所述多个图案孔中的一部分之间，
其中，所述至少一个蚀刻部包括：
第一蚀刻部，沿着所述第一方向延伸；以及
第二蚀刻部，沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸。
2.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述图案部还包括至少一个图案凹部，所述至少一个图案凹部具有小于所述第二厚度的第三厚度。
3.根据权利要求2所述的掩模，其中：
所述至少一个图案凹部包括多个图案凹部，以及
所述多个图案凹部以菱形形状设置。
4.根据权利要求2所述的掩模，其中：
所述至少一个图案凹部包括多个图案凹部，以及
所述多个图案孔中的每个图案孔位于所述多个图案凹部之中的相邻图案凹部之间。
5.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述多个图案孔中的一部分以菱形形状设置。
6.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述第一蚀刻部与所述第二蚀刻部交叉。
7.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述图案部具有等于或小于所述第一厚度的厚度。
8.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述图案部包括位于除了所述多个图案孔和所述至少一个蚀刻部之外的区域中的第二肋部，所述第二肋部具有比所述至少一个蚀刻部的所述第二厚度大的厚度。
9.用于沉积的掩模，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力而联接到框架，所述掩模包括：
第一肋部，具有第一厚度；以及
图案部，包括：
多个图案孔，沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，以及
至少一个蚀刻部，所述至少一个蚀刻部具有小于所述第一厚度的第二厚度并且连接在所述多个图案孔中的一部分之间，
其中，所述至少一个蚀刻部具有沿着所述第一方向或与所述第一方向交叉的第二方向延伸的之字形形状。
10.根据权利要求9所述的掩模，其中，所述多个图案孔设置在所述之字形形状的顶点处。
11.根据权利要求9所述的掩模，其中：
所述至少一个蚀刻部包括多个蚀刻部，以及
所述多个蚀刻部在所述第一方向上彼此间隔开。
12.根据权利要求9所述的掩模，其中：
所述至少一个蚀刻部包括沿着所述第一方向延伸的多个蚀刻部，以及
所述多个蚀刻部在与所述第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开。
13.制造用于沉积的掩模的方法，所述掩模包括第一肋部和图案部，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力而联接到框架，所述方法包括：
使第一激光束照射所述图案部的一部分并形成被所述第一激光束蚀刻的至少一个蚀刻部；以及
使第二激光束照射所述至少一个蚀刻部的一部分并形成多个图案孔，沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，
其中，使所述第一激光束在所述第一方向和与所述第一方向交叉的第二方向上照射，使得所述至少一个蚀刻部包括第一蚀刻部和第二蚀刻部，所述第一蚀刻部在所述第一方向上延伸，并且所述第二蚀刻部在与所述第一方向交叉的所述第二方向上延伸。
14.根据权利要求13所述的方法，其中：
所述第一肋部具有第一厚度，以及
所述至少一个蚀刻部具有小于所述第一厚度的第二厚度。
15.根据权利要求13所述的方法，其中，所述第一蚀刻部与所述第二蚀刻部交叉。
16.根据权利要求13所述的方法，其中，所述至少一个蚀刻部包括：
连接凹槽，被所述第一激光束照射一次；以及
至少一个图案凹部，被所述第一激光束照射两次，所述至少一个图案凹部具有比所述连接凹槽的厚度小的厚度。
17.根据权利要求16所述的方法，其中：
所述至少一个图案凹部包括多个图案凹部，以及
所述多个图案孔是通过使所述第二激光束照射所述多个图案凹部中的至少一部分而形成的。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述多个图案孔和所述多个图案凹部在所述第一方向和所述第二方向上交替布置。
19.制造用于沉积的掩模的方法，所述掩模包括第一肋部和图案部，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力而联接到框架，所述方法包括：
使第一激光束照射所述图案部的一部分并形成被所述第一激光束蚀刻的至少一个蚀刻部；以及
使第二激光束照射所述至少一个蚀刻部的一部分并形成多个图案孔，沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，
其中，使所述第一激光束在所述第一方向或与所述第一方向交叉的第二方向上沿着之字形路径照射。
20.根据权利要求19所述的方法，其中：
所述至少一个蚀刻部包括多个蚀刻部，以及
所述多个蚀刻部在所述第一方向上彼此间隔开。
21.根据权利要求19所述的方法，其中：
所述至少一个蚀刻部包括多个蚀刻部，以及
所述多个蚀刻部在与所述第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开。
22.根据权利要求19所述的方法，其中，使所述第一激光束沿着所述之字形路径连续照射。
23.根据权利要求22所述的方法，其中，使所述第二激光束照射所述之字形路径的顶点。
24.根据权利要求19所述的方法，其中，使所述第一激光束沿着所述之字形路径照射多次。
25.根据权利要求24所述的方法，其中，所述至少一个蚀刻部包括：
第一凹槽，被所述第一激光束照射一次；以及
第二凹槽，被所述第一激光束照射两次，所述第二凹槽具有比所述第一凹槽的厚度小的厚度。
26.根据权利要求25所述的方法，其中：
使所述第二激光束照射所述第二凹槽，以及
所述多个图案孔形成在所述第二凹槽中。
27.通过使用用于沉积的掩模制造显示装置的方法，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力联接到框架，所述方法包括：
将显示基板和所述用于沉积的掩模插入到腔室中；以及
将沉积材料沉积在所述显示基板之上，所述沉积材料从沉积源喷射并穿行经过所述用于沉积的掩模，
其中，所述用于沉积的掩模包括：
第一肋，具有第一厚度；以及
图案部，包括：
多个图案孔，所述沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，以及
至少一个蚀刻部，所述至少一个蚀刻部具有比所述第一厚度小的第二厚度并且连接在所述多个图案孔中的一部分之间，
其中，所述至少一个蚀刻部包括：
第一蚀刻部，沿着所述第一方向延伸；以及
第二蚀刻部，沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸。
28.根据权利要求27所述的方法，其中，所述图案部还包括至少一个图案凹部，所述至少一个图案凹部具有比所述第二厚度小的第三厚度。
29.根据权利要求28所述的方法，其中：
所述至少一个图案凹部包括多个图案凹部，以及
所述多个图案凹部以菱形形状布置。
30.根据权利要求28所述的方法，其中：
所述至少一个图案凹部包括多个图案凹部，以及
所述多个图案孔中的每个图案孔设置在所述多个图案凹部之中的相邻图案凹部之间。
31.根据权利要求27所述的方法，其中，所述多个图案孔中的一部分以菱形形状设置。
32.根据权利要求27所述的方法，其中，所述第一蚀刻部与所述第二蚀刻部交叉。
33.根据权利要求27所述的方法，其中，所述图案部具有等于或小于所述第一厚度的厚度。
34.根据权利要求27所述的方法，其中，所述图案部包括位于除了所述多个图案孔和所述至少一个蚀刻部之外的区域中的第二肋部，所述第二肋部具有比所述至少一个蚀刻部的所述第二厚度大的厚度。
35.通过使用用于沉积的掩模制造显示装置的方法，所述掩模能够通过在第一方向上施加到所述掩模的相对端的张力联接到框架，所述方法包括：
将显示基板和所述用于沉积的掩模插入到腔室中；以及
将沉积材料沉积在所述显示基板之上，所述沉积材料从沉积源喷射并穿行经过所述用于沉积的掩模，
其中，所述用于沉积的掩模包括：
第一肋，具有第一厚度；以及
图案部，包括：
多个图案孔，所述沉积材料能够传输经过所述多个图案孔，以及
至少一个蚀刻部，所述至少一个蚀刻部具有比所述第一厚度小的第二厚度并且连接在所述多个图案孔中的一部分之间，
其中，所述至少一个蚀刻部具有沿着所述第一方向或与所述第一方向交叉的第二方向延伸的之字形形状。
36.根据权利要求35所述的方法，其中，所述多个图案孔设置在所述之字形形状的顶点处。
37.根据权利要求35所述的方法，其中：
所述至少一个蚀刻部包括多个蚀刻部，以及
所述多个蚀刻部在所述第一方向上彼此间隔开。
38.根据权利要求35所述的方法，其中：
所述至少一个蚀刻部包括多个蚀刻部，以及
所述多个蚀刻部在与所述第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开。
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