CN108034929A - 一种应用于真空溅射设备的基板承载装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，包括：外框；安装在所述外框上的多根交叉设置的第一支撑条和第二支撑条，所述第一支撑条和第二支撑条的交叉处形成所述节点，至少部分节点上固定安装有用于支撑基板的支撑顶针。本发明通过在外框上安装形成为网状的支撑条，对基板上下左右全范围都有稳固作用，具有更为稳固的支撑和振动抑制，能极大地减小振动和破片；第一支撑条和第二支撑条具有较小的宽度，可以降低对温度的隔绝效应，同时交叉设置的第一支撑条和第二支撑条之间形成的网口在外框内均匀分布，可以避免因加热温度差异产生的膜质不均匀。

Description

一种应用于真空溅射设备的基板承载装置
技术领域
本发明涉及屏幕显示技术领域，尤其涉及一种应用于真空溅射设备的基板承载装置。
背景技术
应用于平板显示（FPD）行业的的真空溅射设备，为了实现在基板上的溅射成膜，需要设置有承载装置，将基板放置在承载装置上进行传送。
为了承载并稳固基板，降低基板在传送中的振动和破片，如图1所示，通常在载片装置的外框1´上设置有多根支撑杆（Bar）2´，支撑杆2´及外框1´上均安装有支撑顶针（pin）3´，用于在传送时对基板进行稳固支撑，并降低基板的振动，从而避免破片和刮伤。
由于有支撑杆（Bar）和支撑顶针（pin）的存在，会引起该支撑杆区域A和非支撑杆区域B的加热温度差异，从而产生一些膜质的不均匀，导致出现Mura现象。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，以降低对热的隔绝，减少成膜膜质不均匀。
为了解决上述技术问题，本发明提供一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，包括：
外框；
安装在所述外框上的多根交叉设置的第一支撑条和第二支撑条，所述第一支撑条和第二支撑条的交叉处形成所述节点，至少部分节点上固定安装有用于支撑基板的支撑顶针。
其中，所述外框为矩形，所述支撑顶针以所述外框的中心对称分布。
其中，所述交叉设置的多根第一支撑条和第二支撑条之间形成多个网口，所述多个网口在所述外框内均匀分布。
其中，所述第一支撑条沿横向相互平行且间隔排列，所述第二支撑条沿纵向相互平行且间隔排列。
其中，所述第一支撑条和所述第二支撑条均斜向交叉设置。
其中，所述第一支撑条或所述第二支撑条的横截面为圆形，所述圆形的直径为5毫米~30毫米。
其中，所述第一支撑条或所述第二支撑条的横截面为矩形，所述矩形的长边为5毫米~30毫米。
其中，所述第一支撑条或所述第二支撑条的横截面为正方形，所述正方形的边长为5毫米~30毫米。
其中，所述第一支撑条和所述第二支撑条为金属条，所述支撑顶针为绝缘材料。
其中，所述外框上固定安装有支撑顶针，其高度与固定安装在所述节点上的支撑顶针的高度相等。
本发明实施例的有益效果在于：通过在外框上安装形成为网状的支撑条，对基板上下左右全范围都有稳固作用，具有更为稳固的支撑和振动抑制，能极大地减小振动和破片；第一支撑条和第二支撑条具有较小的宽度，可以降低对温度的隔绝效应，同时交叉设置的第一支撑条和第二支撑条之间形成的网口在外框内均匀分布，可以避免因加热温度差异产生的膜质不均匀。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有载片装置的结构示意图。
图2是本发明实施例一种应用于真空溅射设备的基板承载装置的结构示意图。
图3是本发明实施例一种应用于真空溅射设备的基板承载装置的侧视结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附图，用以示例本发明可以用以实施的特定实施例。
请参照图2所示，本发明实施例提供一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，包括：
外框1；
安装在外框1上的多根交叉设置的第一支撑条21和第二支撑条22，第一支撑条21和第二支撑条22的交叉处形成节点，至少部分节点上固定安装有用于支撑基板的支撑顶针3。
具体地，外框1呈矩形，第一支撑条21和第二支撑条22可以通过焊接、铆接、螺栓连接等任意方式安装在外框1上，优选通过螺栓连接，以便于拆卸。外框1上页固定安装有支撑顶针3，其高度与固定安装在节点上的支撑顶针3的高度相等，以保证对基板的稳固支撑。
第一支撑条21和第二支撑条22形成的每个节点上均可固定安装支撑顶针3，也可以在部分节点上固定安装支撑顶针3。如果是在部分节点上固定安装支撑顶针3，为了保持对基板的均匀支撑，支撑顶针3以外框1的中心对称分布。根据基板振动情况，支撑顶针的数量和位置还可以进行相应调整。
交叉设置的第一支撑条21和第二支撑条22之间还形成网口20，网口20在外框1内均匀分布，可以避免因加热温度差异产生的膜质不均匀。同时，根据基板振动情况，在模拟和实际测试的数据达到最低规格值范围内，可以减少外框1内网口20的密度，即相应调宽第一支撑条21与第二支撑条22的间隔，使网口20面积增大，数量减少。
第一支撑条21沿横向相互平行且间隔排列，第二支撑条22沿纵向相互平行且间隔排列，由此形成纵横交叉的支撑网2。由于外框1为矩形，此时第一支撑条21与外框1的左右两条边垂直连接，第二支撑条2与外框1的上下两条边垂直连接。由于横向和纵向均有支撑条，数量相对于现有技术的支撑杆更多，可以有效提高对基板振动的抑制效果。作为另一种示例，第一支撑条21和第二支撑条22还可以是均斜向交叉设置，即分别非垂直地与外框1连接。形成网状的第一支撑条21和第二支撑条22对基板上下左右全范围都有稳固作用，具有更为稳固的支撑和振动抑制，能极大地减小振动和破片。
本实施例的第一支撑条21和第二支撑条22具有较小的宽度，可以极大地较少对热的隔绝。具体地，在一些实施例中，第一支撑条21或第二支撑条22的横截面为圆形，圆形的直径为5毫米~30毫米；在一些实施例中，第一支撑条21或第二支撑条2的横截面为矩形，矩形的长边为5毫米~30毫米；在另一些实施例中，第一支撑条21或第二支撑条22的横截面为正方形，正方形的边长为5毫米~30毫米。
第一支撑条21和第二支撑条22为金属条，以保证支撑的刚性；而支撑顶针3为绝缘材料，当支撑顶针3支撑基板时，可以避免与基板发生电传导。
本发明实施例的基板承载装置是一个工作时直立的承载平台，一般通称为托盘（Tray），应用于大型真空溅射设备，托盘分为内托盘和外托盘，两者夹住基板，从而可以对基板在真空腔室进行传送。本发明实施例的基板承载装置是在内托盘增加网状支撑条，支撑条的节点上固定安装支撑顶针，用于基板的制程。
通过上述说明可知，本发明实施例的有益效果在于：通过在外框上安装形成为网状的支撑条，对基板上下左右全范围都有稳固作用，具有更为稳固的支撑和振动抑制，能极大地减小振动和破片；第一支撑条和第二支撑条具有较小的宽度，可以降低对温度的隔绝效应，同时交叉设置的第一支撑条和第二支撑条之间形成的网口在外框内均匀分布，可以避免因加热温度差异产生的膜质不均匀。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种应用于真空溅射设备的基板承载装置，其特征在于，包括：
外框；
安装在所述外框上的多根交叉设置的第一支撑条和第二支撑条，所述第一支撑条和第二支撑条的交叉处形成所述节点，至少部分节点上固定安装有用于支撑基板的支撑顶针。
2.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述外框为矩形，所述支撑顶针以所述外框的中心对称分布。
3.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述交叉设置的多根第一支撑条和第二支撑条之间形成多个网口，所述多个网口在所述外框内均匀分布。
4.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述第一支撑条沿横向相互平行且间隔排列，所述第二支撑条沿纵向相互平行且间隔排列。
5.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述第一支撑条和所述第二支撑条均斜向交叉设置。
6.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述第一支撑条或所述第二支撑条的横截面为圆形，所述圆形的直径为5毫米~30毫米。
7.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述第一支撑条或所述第二支撑条的横截面为矩形，所述矩形的长边为5毫米~30毫米。
8.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述第一支撑条或所述第二支撑条的横截面为正方形，所述正方形的边长为5毫米~30毫米。
9.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述第一支撑条和所述第二支撑条为金属条，所述支撑顶针为绝缘材料。
10.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述外框上固定安装有支撑顶针，其高度与固定安装在所述节点上的支撑顶针的高度相等。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109148353A (zh) * 2018-08-15 2019-01-04 深圳市华星光电技术有限公司 一种基板承托盘
CN111979522A (zh) * 2020-08-14 2020-11-24 苏州迈为科技股份有限公司 支撑装置
CN114164409A (zh) * 2021-12-09 2022-03-11 广州华星光电半导体显示技术有限公司 一种应用于真空溅射设备的基板承载装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103493195A (zh) * 2011-04-29 2014-01-01 泰拉半导体株式会社 基板支撑用的支撑板以及使用该支撑板的基板处理装置
CN104773407A (zh) * 2014-01-10 2015-07-15 上海和辉光电有限公司 一种用于装载基板的承接盘
CN205803309U (zh) * 2016-06-27 2016-12-14 昆山国显光电有限公司 基板支撑结构以及退火炉
CN106526908A (zh) * 2016-08-30 2017-03-22 武汉华星光电技术有限公司 一种气浮型的支撑顶针装置及方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202138720U (zh) * 2011-07-25 2012-02-08 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板放置盒
TW201330170A (zh) * 2011-11-28 2013-07-16 Tera Semicon Corp 用於支撐基板之支撐插銷及使用該插銷之基板處理裝置
CN103500727A (zh) * 2013-10-17 2014-01-08 上海和辉光电有限公司 基板支撑装置
US10301740B2 (en) * 2015-12-14 2019-05-28 Solarcity Corporation Systems, methods and apparatus for electroplating photovoltaic cells
CN106428916B (zh) * 2016-10-27 2018-10-19 武汉华星光电技术有限公司 一种基板承载件和基板中转箱

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103493195A (zh) * 2011-04-29 2014-01-01 泰拉半导体株式会社 基板支撑用的支撑板以及使用该支撑板的基板处理装置
CN104773407A (zh) * 2014-01-10 2015-07-15 上海和辉光电有限公司 一种用于装载基板的承接盘
CN205803309U (zh) * 2016-06-27 2016-12-14 昆山国显光电有限公司 基板支撑结构以及退火炉
CN106526908A (zh) * 2016-08-30 2017-03-22 武汉华星光电技术有限公司 一种气浮型的支撑顶针装置及方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109148353A (zh) * 2018-08-15 2019-01-04 深圳市华星光电技术有限公司 一种基板承托盘
WO2020034251A1 (zh) * 2018-08-15 2020-02-20 深圳市华星光电技术有限公司 一种基板承托盘
CN111979522A (zh) * 2020-08-14 2020-11-24 苏州迈为科技股份有限公司 支撑装置
CN114164409A (zh) * 2021-12-09 2022-03-11 广州华星光电半导体显示技术有限公司 一种应用于真空溅射设备的基板承载装置
CN114164409B (zh) * 2021-12-09 2024-03-01 广州华星光电半导体显示技术有限公司 一种应用于真空溅射设备的基板承载装置

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