CN108000263A - 一种瓷砖抛光装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种瓷砖抛光装置，包括机架、支撑腿和抛光室，所述机架上水平设置有的输送带，所述机架下端固定连接有支撑腿，所述支撑腿上安装有减振装置，所述抛光室由抛光室顶板和两侧板组成，所述抛光室内抛光室顶板上设有预抛光装置、抛光装置和抛光修正装置，所述预抛光装置、抛光装置和抛光修正装置通过转轴固定连接在抛光室顶板上，所述抛光修正装置的修正盘底面设有均匀分布的金刚石丸片，所述磨盘和抛光修正盘前后水平位置安装有压辊，所述机架首位端处压辊前后设置有限高块，所述抛光室下侧安装有收集池。本发明结构简单操作方便，抛光效果好，产品优质合格率高，而且有效防止粉尘外扬对环境影响小。

Description

一种瓷砖抛光装置
技术领域
本发明涉及瓷砖加工领域，具体是一种瓷砖抛光装置。
背景技术
在瓷砖制造的过程中，需要对生产后的瓷砖进行再加工处理，生产后的瓷砖需要在抛光机对瓷砖进行抛光，抛光后的瓷砖粗糙度降低，表面变得光亮平整，使瓷砖美观，且增加瓷砖耐磨和耐压性。现在生产技术中使用的瓷砖抛光机多数由电机带动多个磨盘转动，瓷砖在传送装置的输送下经过这些磨盘，由磨盘对瓷砖表面进行抛光。现有的抛光机容易产生粉尘飞扬，不仅影响环境而且还会对现场的工作人员的身体健康造成严重影响，而且大多数磨盘的高度都是一致的，一次性将瓷砖抛光到位，但是由于未抛光前瓷砖的厚度不一，较厚的瓷砖直接进入磨盘容易损坯瓷砖，增加瓷砖的报废率，因此需要提供一种新的瓷砖抛光装置。
发明内容
本发明的目的在于提供一种瓷砖抛光装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种瓷砖抛光装置，包括机架、支撑腿和抛光室，所述机架上水平设置有的输送带，所述机架下端固定连接有支撑腿，所述支撑腿上安装有减振装置，所述抛光室由抛光室顶板和两侧板组成，所述抛光室内抛光室顶板上设有预抛光装置、抛光装置和抛光修正装置，所述预抛光装置、抛光装置和抛光修正装置通过转轴固定连接在抛光室顶板上，所述抛光修正装置的修正盘底面设有均匀分布的金刚石丸片，所述磨盘和抛光修正盘前后水平位置安装有压辊，所述机架首位端处压辊前后设置有限高块，所述抛光室下侧安装有收集池。
作为本发明进一步的方案：所述抛光室对应的机架位置的底部设有收集池。
作为本发明再进一步的方案：所述机架的尾部抛光出口设置的限高块上安装有平滑度检测器。
作为本发明再进一步的方案：所述磨盘为高弹性高强度软磨块。
作为本发明再进一步的方案：所述抛光室内抛光室顶板上依次设有预抛光装置、抛光装置和抛光修正装置。
作为本发明再进一步的方案：所述抛光室下侧安装有收集池。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
一种瓷砖抛光装置，其在抛光室下侧安装有收集池，并在收集池内部安装有风机管道连通抛光室，将产生的粉尘吸入收集池内沉淀到水中，产生的碎石可以从光滑的斜面板落入收集池，方便对废料的收集，在磨盘最后的抛光位置设有抛光修正盘，抛光修正盘对已经进行抛光的瓷砖进行修正，使瓷砖抛光效果更好，压辊的设置可以防止抛光后的瓷砖发生变形而弯曲翘曲，本发明的结构简单，效率高，抛光效果好，合格率高，大大降低产品报废率，确保收益，而且本装置干净卫生，对环境影响小，有效防止粉尘对人们健康造成损害。
附图说明
图1为瓷砖抛光装置的结构示意图。
图2为瓷砖抛光装置中减振装置的结构示意图。
图中：1-机架；2-支撑腿；3-收集池；4-抛光室；5-抛光进口；6-抛光出口；7-瓷砖；8-限高块；11-输送带；12-压辊；21-减振装置；31-水；32-纱网；33-斜面板；34-风机管道；41-抛光室顶板；42-预抛光装置；43-抛光装置；44-抛光修正装置；45-转轴；46-弹性元件；47-安装盘；48-磨盘；49-抛光修正盘；81-感应器；211-减振弹簧；212-支撑杆。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1～2，本发明实施例中，一种瓷砖抛光装置，包括机架1、支撑腿2和抛光室4，所述机架1上水平设置有的输送带11，所述机架1下端固定连接有支撑腿2，所述支撑腿2上安装有减振装置21，所述减振装置21包括减振弹簧221和支撑杆222,所述抛光室4由抛光室顶板41和两侧板组成，所述抛光室4的两侧板设于所述机架1上，所述抛光室4内抛光室顶板41上设有预抛光装置42、抛光装置43和抛光修正装置44，所述预抛光装置42、抛光装置43和抛光修正装置44通过转轴45固定连接在抛光室顶板41上，所述预抛光装置42包括转轴45、安装盘47、弹性元件46和磨盘48，所述转轴45与安装盘47通过螺栓固定连接，所述弹性元件46通过螺栓固定安装在安装盘47和磨盘48之间，所述抛光装置43包括转轴45、安装盘47和磨盘48，所述抛光修正装置44包括转轴45、安装盘47和抛光修正盘49，所述抛光修正盘49通过螺栓固定安装在安装盘47上，所述抛光修正盘49底面设有均匀分布的金刚石丸片，所述磨盘48和抛光修正盘49前后水平位置安装有压辊12，所述首位端压辊12前后设置有限高块8，所述限高块8前端设置有感应器81，所述抛光室4下侧安装有收集池3，所述收集池3内有一定容积的水31，所述收集池3上方离水面一定距离处设置有纱网32，所述纱网32固定连接在收集池3内壁上，所述收集池3上方设有有与抛光室4相连的光滑斜面板33，所述收集池3安装有风机管道34连通抛光室4，所述风机管道34两端设置成漏斗状。
本发明的工作原理是：使用本发明进行抛光处理时，瓷砖7在通过输送带11从抛光进口5进入抛光室4，抛光进口5前端设有限高块8，瓷砖7经过限高块8时高度不能满足最小尺寸，瓷砖7的端面接触到限高块8端面感应器81，机械手或其他装夹装置将不合格品剔除，瓷砖7经压辊12从抛光进口5进入抛光室4，首先经过预抛光装置42进行首次抛光，预抛光装置42设有弹性元件46避免瓷砖较厚时磨盘8加工对瓷砖造成不可修复的损坏，磨盘8前后压辊12可以保证瓷砖7经过抛光后不会发生变形翘曲，瓷砖7经过预抛光装置42抛光后，再经过抛光装置43加工至成品，在经过抛光修正装置44进一步进行抛光修正达到要求的平滑度，加工后的瓷砖7从抛光出口6送出，再次经过限高块8进行高度监测，抛光出口6处的限高块8上同时设置有平滑度检测器，对加工不合格的产品可再次抛光处理，抛光过程产生的粉尘则有风机通过风机管道34从抛光室4吸入收集池3内，收集池3内的纱网32防止粉尘外泄，粉尘下落浸入水31中，固体废屑通过光滑的斜面板落入到收集池3中，等待集中处理。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (6)

1.一种瓷砖抛光装置，包括机架（1）、支撑腿（2）和抛光室（4），其特征在于，所述机架（1）上水平设置有的输送带（11），所述机架（1）下端固定连接有支撑腿（2），所述支撑腿（2）上安装有减振装置（21），所述减振装置（21）包括减振弹簧（221）和支撑杆（222）,所述抛光室（4）由抛光室顶板（41）和两侧板组成，所述抛光室（4）的两侧板设于所述机架（1）上，所述抛光室（4）内抛光室顶板（41）上设有预抛光装置（42）、抛光装置（43）和抛光修正装置（44），所述预抛光装置（42）、抛光装置（43）和抛光修正装置（44）通过转轴（45）固定连接在抛光室顶板（41）上，所述预抛光装置（42）包括转轴（45）、安装盘（47）、弹性元件（46）和磨盘（48），所述转轴（45）与安装盘（47）通过螺栓固定连接，所述弹性元件（46）通过螺栓固定安装在安装盘（47）和磨盘（48）之间，所述抛光装置（43）包括转轴（45）、安装盘（47）和磨盘（48），所述抛光修正装置（44）包括转轴（45）、安装盘（47）和抛光修正盘（49），所述抛光修正盘（49）通过螺栓固定安装在安装盘（47）上，所述抛光修正盘（49）底面设有均匀分布的金刚石丸片，所述磨盘（48）和抛光修正盘（49）前后水平位置安装有压辊（12），所述首位端压辊（12）前后设置有限高块（8），所述限高块（8）前端设置有感应器（）81，所述抛光室（4）下侧安装有收集池（3），所述收集池（3）内有水（31），所述收集池（3）上方离水面一定距离处设置有纱网（32），所述纱网（32）固定连接在收集池（3）内壁上，所述收集池（3）上方设有有与抛光室（4）相连的光滑斜面板（33），所述收集池（3）安装有风机管道（34）连通抛光室（4）。
2.根据权利要求1所述的一种瓷砖抛光装置，其特征在于，所述抛光室（4）对应的机架（1）位置的底部设有收集池（3）。
3.根据权利要求1所述的一种瓷砖抛光装置，其特征在于，所述机架（1）的尾部抛光出口（6）设置的限高块（8）上安装有平滑度检测器。
4.根据权利要求1所述的一种瓷砖抛光装置，其特征在于，所述磨盘（48）为高弹性高强度软磨块。
5.根据权利要求1所述的一种瓷砖抛光装置，其特征在于，所述抛光室（4）内抛光室顶板（41）上依次设有预抛光装置（42）、抛光装置（43）和抛光修正装置（44）。
6.根据权利要求1所述的一种瓷砖抛光装置，其特征在于，所述抛光室（4）下侧安装有收集池（3）。
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