CN107954607A - 湿式制程设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种湿式制程设备，包含一槽体、多个液浮载板以及多个导轮，所述槽体内形成有一槽室，所述槽室用以容置一基板，所述多个液浮载板设置在所述基板下方并用以对所述基板喷射一处理液，所述多个导轮用以输送所述基板，各导轮包含一轮轴部以及一轮体部，所述轮轴部具有一径向及一轴向，所述径向垂直于所述轴向，所述导轮绕所述轴向旋转，所述轮体部沿所述径向延伸于所述轮轴部，所述轮体部具有一胎面，所述胎面上形成有多个导轮出水孔，所述多个导轮出水孔用以对所述基板喷射所述处理液。

Description

湿式制程设备

技术领域

本发明涉及一种湿式制程设备，特别是涉及一种可在制程中减少对基板的磨耗及可对基板进行双面制程的湿式制程设备。

背景技术

一般而言，业界多采用湿式制程来对触控面板的玻璃基板进行加工，湿式制程例如为将玻璃基板经过蚀刻制程进行图案化的蚀刻或是经过清先制程进行表面清洗等。当玻璃基板在进行上述的湿式制程时，多利用滚轮进行固定与输送。因此，在玻璃基板与滚轮接触的一面，滚轮容易对玻璃基板磨耗，另外玻璃基板与滚轮接触的一面也因滚轮的设置而无法有效进行湿式制程，即公知利用滚轮对玻璃基板进行固定与输送的作法，仅可对玻璃基板进行单面制程。

发明内容

因此，本发明提供一种可在制程中减少对基板的磨耗及可对基板进行双面制程的湿式制程设备，以解决上述问题。

为了达成上述目的，本发明公开一种湿式制程设备，用以支撑一基板，所述基板具有一板体部及一侧边部，所述侧边部延伸于所述板体部，所述板体部具有一上表面及一下表面，所述下表面相反于所述上表面，所述湿式制程设备包含一槽体、多个液浮载板以及多个导轮，所述槽体内形成有一槽室，所述槽室用以容置所述基板，所述多个液浮载板设置在所述下表面下方，所述多个液浮载板用以对所述下表面喷射一处理液，以对所述下表面进行表面处理并支撑所述板体部，所述多个导轮对应于所述侧边部并用以输送所述基板，各导轮包含一轮轴部以及一轮体部，所述轮轴部具有一径向及一轴向，所述径向垂直于所述轴向，所述导轮绕所述轴向旋转，所述轮体部沿所述径向延伸于所述轮轴部，所述轮体部具有一胎面，所述胎面上形成有多个导轮出水孔，所述多个导轮出水孔用以对所述侧边部喷射所述处理液，以对所述侧边部进行表面处理并支撑所述侧边部。

根据本发明其中之一实施方式，所述轮轴部内形成有一供液腔室，用以供应所述处理液，所述轮体部内形成有多个供液信道，各供液信道连通于所述供液腔室与所述多个导轮出水孔的其中之一。

根据本发明其中之一实施方式，各供液信道为一直线型信道。

根据本发明其中之一实施方式，各供液信道的走向通过所述轮轴部的轴心，且各导轮出水孔的法线垂直于所述胎面。

根据本发明其中之一实施方式，各供液信道的走向相切于所述轮轴部的外周围，且各导轮出水孔的法线垂直于所述胎面。

根据本发明其中之一实施方式，各供液信道为一曲线型信道，且各导轮出水孔的法线不垂直于所述胎面。

根据本发明其中之一实施方式，所述轮体部内形成有一储液腔室，用以储存并供应所述处理液，所述轮体部内还形成有多个供液信道，各供液信道连通于所述储液腔室与所述多个导轮出水孔的其中之一。

根据本发明其中之一实施方式，所述槽体形成有连通于所述槽室的一入口，所述多个导轮用以将所述基板沿一输送方向通过所述入口送入所述槽室内。

根据本发明其中之一实施方式，所述槽体还形成有相对于所述入口的一出口，所述多个导轮还用以将所述基板沿所述输送方向通过所述出口送出所述槽室外。

根据本发明其中之一实施方式，所述湿式制程设备还包含一入口闸门以及一出口闸门，所述入口闸门枢接于所述槽体邻近所述入口处，所述入口闸门用以选择性地关盖所述入口，所述出口闸门枢接于所述槽体邻近所述出口处，所述出口闸门用以选择性地关盖所述出口。

综上所述，本发明湿式制程设备的导轮是对应于基板的侧边部，且导轮的胎面上设置有多个导轮出水孔，用以喷射所述处理液，使基板的侧边部与导轮的胎面间形成有薄膜层流，以减少导轮的胎面对基板的侧边部的磨耗。此外，本发明湿式制程设备的所使用的处理液可为一蚀刻液或一清洗液，且本发明湿式制程设备可利用一喷洒模块对基板的板体部的上表面进行蚀刻或清洗等的湿式制程外，本发明湿式制程设备也可利用液浮载板对基板的板体部的下表面喷射处理液，以对板体部的下表面也进行蚀刻或清洗等的湿式制程，从而使本发明湿式制程设备达到对基板进行双面湿式制程的目的。有关本发明前述及其他技术内容、特点与功效，在以下配合参考附图实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。

附图说明

图1为本发明第一实施例湿式制程设备的示意图。

图2为图1所示湿式制程设备沿剖面线X-X的剖面示意图。

图3为图1所示导轮放大示意图。

图4为图3所示导轮沿剖面线Y-Y的剖面示意图。

图5为本发明第二实施例导轮的示意图。

图6为本发明第三实施例导轮的示意图。

图7为本发明第四实施例导轮的示意图。

图8为本发明第五实施例导轮的示意图。

图9为本发明第六实施例导轮的剖面示意图。

图10为本发明第七实施例导轮的剖面示意图。

图11为本发明第八实施例导轮的剖面示意图。

其中，附图标记说明如下：

1000 湿式制程设备

1 基板

10 上表面

11 下表面

12 侧边部

13 板体部

2 槽体

20 槽室

21 入口

22 出口

3000、3000'、3000”、3000”'、3000””、4000、5000、6000 导轮

30、40、60 轮轴部

301 径向

302 轴向

303 供液腔室

304 轴心

305 外周围

31、41、61 轮体部

310、510、610 胎面

311、311'、311”、311”'、311””、511、611 导轮出水孔

3110、5110 法线

312、412、512、612 供液通道

3120、4120 走向

313 储液腔室

4 喷洒模块

40 水刀喷头

41 喷洒供液泵

42 喷嘴

5 液浮载板

8 入口闸门

9 出口闸门

A 水路模块

B 水路供液泵

E 处理液

X1 输送方向

X2 回复方向

R1 第一转向

R2 第二转向

X-X、Y-Y 剖面线

具体实施方式

以下实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本发明。请参阅图1以及图2，图1为本发明第一实施例一湿式制程设备1000的示意图，图2为图1所示湿式制程设备1000沿剖面线X-X的剖面示意图。如图1以及图2所示，湿式制程设备1000可用以支撑一基板1并对基板1进行双面制程，基板1具有一侧边部12以及一板体部13，其中板体部13具有一上表面10以及相对于上表面10的一下表面11。在此实施例中，基板1可为一触控面板的玻璃基板，而湿式制程设备1000可用以对所述玻璃基板进行一湿式制程，所述湿式制程例如可为将所述玻璃基板经过蚀刻制程进行图案化的蚀刻或是经过清先制程进行表面清洗等。

另外，湿式制程设备1000包含一槽体2、多个导轮3000、一喷洒模块4以及多个液浮载板5，槽体2内形成有一槽室20、一入口21以及一出口22，槽室20可用以容置基板1，入口21与出口22均连通于槽室20，且入口21相对出口22，即入口21与出口22是位在槽体2的相对两侧壁上，基板1可通过入口21进入槽体2，使基板1能容置在槽室20内，基板1还可通过出口22离开槽体2。进一步地，湿式制程设备1000还包含一入口闸门8以及一出口闸门9，入口闸门8枢接于槽体2邻近入口21处，出口闸门9枢接于槽体2邻近出口22处。当基板1通过入口21进入槽体2的槽室20内后，入口闸门8相对槽体2枢转以关盖入口21，且出口闸门9相对槽体2枢转以关盖出口22，借此入口闸门8与出口闸门9便可密封槽室20，使基板1能在槽室20进行所述湿式制程；而当基板1完成所述湿式制程后，入口闸门8相对槽体2枢转以打开入口21，且出口闸门9相对槽体2枢转以打开出口22，使完成所述湿式制程的基板1能通过出口22离开槽体2，并使另一基板1通过入口21进入槽体2的槽室20内，使另一基板1能进行所述湿式制程。

如图1以及图2所示，各导轮3000对应基板1的侧边部12并沿一输送方向X1或相反于输送方向X1的一回复方向X2排列。进一步地，各导轮3000耦接于一导轮驱动机构(未绘示在图中)，借此多个导轮3000便能沿输送方向X1将基板1通过入口21送入槽室20内，或是导轮3000还可将基板1沿输送方向X1通过出口22送出槽室20外。在实施例中，所述导轮驱动机构可包含马达、传动齿轮、传动皮带、传动杆等且耦接于多个导轮3000，借此所述导轮驱动机构便能驱动导轮3000而将基板1沿如图1以及图2所示的输送方向X1移动，或所述导轮驱动机构还能驱动导轮3000而将基板1沿如图2所示的相反于输送方向X1的回复方向X2移动。

此外，喷洒模块4设置在槽体2的槽室20内，喷洒模块4可用以对基板1的上表面10喷洒一处理液E。在此实施例中，喷洒模块4可包含多个水刀喷头40、一喷洒供液泵41以及一喷嘴42，多个水刀喷头40设置在多个导轮组30上方，喷嘴42设置在槽体2邻近入口21处，喷洒供液泵41连接于多个水刀喷头40及喷嘴42，喷洒供液泵41用以供给处理液E至多个水刀喷头40及喷嘴42，使喷嘴42能在基板1通过入口21进入槽体2时，朝基板1的上表面10喷洒处理液E，且使各水刀喷头40能在基板1进入槽室20后，朝基板1的上表面10喷洒处理液E。值得一提的是，水刀喷头40与喷嘴42可为一选择性配置，即本发明湿式制程设备1000可选择性配置有水刀喷头40与喷嘴42的至少其中之一，端视实际情况而定。

如图1以及图2所示，多个液浮载板5设置在喷洒模块4下方，多个液浮载板5可用以对基板1的下表面11喷射处理液E，以对下表面11进行表面处理并支撑板体部13。此外，湿式制程设备1000可还包含一水路模块A以及一水路供液泵B，水路模块A耦接于多个液浮载板5，水路供液泵B连接于水路模块A，且水路供液泵B用以供给处理液E至水路模块A，借此处理液E便能通过水路模块A由多个液浮载板5喷出。

请参阅图1至图4，图3为图1所示导轮3000的放大示意图，图4为图3所示导轮3000沿剖面线Y-Y的剖面示意图。如图1至图4所示，各导轮3000包含一轮轴部30以及一轮体部31，轮轴部30具有一径向301及一轴向302，径向301垂直于轴向302，且导轮3000绕轴向302旋转，轮体部31沿径向301延伸于轮轴部30，轮体部31具有一胎面310，胎面310上形成有多个导轮出水孔311，多个导轮出水孔311用以对基板1的侧边部12喷射处理液E，以对侧边部12进行表面处理并支撑侧边部12。进一步地，轮轴部30内形成有一供液腔室303，用以供应处理液E，轮体部31内形成有多个供液通道312，各供液通道312连通于供液腔室303与多个导轮出水孔311的其中之一，借此供液腔室303内的处理液E便可通过各供液通道312自导轮出水孔311喷出于胎面310外。这样一来，如图3以及图4所示，当导轮3000绕轴向302沿一第一转向R1旋转时，由导轮出水孔311喷出胎面310的处理液E便可对基板1产生一推力，使基板1沿输送方向X1移动，而当导轮3000绕轴向302沿相反于第一转向R1的一第二转向R2旋转时，由导轮出水孔311喷出胎面310的处理液E便可对基板1产生一推力，使基板1沿回复方向X2移动。

在此实施例中，各导轮出水孔311可为一圆孔结构，但本发明不受此限，例如请参阅图5至图8，图5为本发明第二实施例一导轮3000'的示意图，图6为本发明第三实施例一导轮3000”的示意图，图7为本发明第四实施例一导轮3000”'的示意图，图8为本发明第五实施例一导轮3000””的示意图。导轮3000'、导轮3000”、导轮3000”'、导轮3000””与上述导轮3000的主要差异为，导轮3000'的一导轮出水孔311'为一单排长条孔结构，导轮3000”的一导轮出水孔311”为一弧形孔结构，导轮3000”'的一导轮出水孔311”'为一波浪形孔结构，导轮3000””的一导轮出水孔311””为一双排长条孔结构，其中导轮出水孔311'的走向垂直于输送方向X1，导轮出水孔311””的走向平行于输送方向X1，至于采用上述何者设计，端视实际需求而定。

在此实施例中，各供液信道312可为一直线型信道，且各供液通道312的走向3120通过轮轴部30的轴心304，且各导轮出水孔311的法线3110垂直于胎面310。而本发明供液通道312的设置可不局限在此实施例附图所绘示，举例来说，请参阅图9，图9为本发明第六实施例一导轮4000的剖面示意图。导轮4000与上述导轮3000的主要差异为，导轮4000的各供液通道412的走向4120相切于轮轴部30的一外周围305。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。

举例来说，请另参阅图10，图10为本发明第七实施例一导轮5000的剖面示意图。导轮5000与上述导轮3000的主要差异为，导轮5000的各供液信道512为一曲线型信道，且导轮5000的各导轮出水孔511的法线5110不垂直于导轮5000的胎面510。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。举例来说，请另参阅图11，图11为本发明第八实施例一导轮6000的剖面示意图。导轮6000与上述导轮3000的主要差异为，导轮6000的一轮轴部60为一实心轮轴，即轮轴部60内不形成有供液腔室，而是导轮6000的一轮体部61内形成有一储液腔室313，用以储存并供应处理液E。另外，轮体部61内还形成有多个供液通道612，各供液通道612连通于储液腔室313与轮体部61的胎面610上的多个导轮出水孔611的其中之一。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。

相较现有技术，本发明湿式制程设备的导轮是对应于基板的侧边部，且导轮的胎面上设置有多个导轮出水孔，用以喷射所述处理液，使基板的侧边部与导轮的胎面间形成有薄膜层流，以减少导轮的胎面对基板的侧边部的磨耗。此外，本发明湿式制程设备的所使用的处理液可为一蚀刻液或一清洗液，且本发明湿式制程设备可利用一喷洒模块对基板的板体部的上表面进行蚀刻或清洗等的湿式制程外，本发明湿式制程设备也可利用液浮载板对基板的板体部的下表面喷射处理液，以对板体部的下表面也进行蚀刻或清洗等的湿式制程，从而使本发明湿式制程设备达到对基板进行双面湿式制程的目的。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种湿式制程设备，用以支撑一基板，所述基板具有一板体部及一侧边部，所述侧边部延伸于所述板体部，所述板体部具有一上表面及一下表面，所述下表面相反于所述上表面，其特征在于，所述湿式制程设备包含：

一槽体，其内形成有一槽室，所述槽室用以容置所述基板；

多个液浮载板，设置在所述下表面下方，所述多个液浮载板用以对所述下表面喷射一处理液，以对所述下表面进行表面处理并支撑所述板体部；以及

多个导轮，对应于所述侧边部并用以输送所述基板，各导轮包含：

一轮轴部，具有一径向及一轴向，所述径向垂直于所述轴向，所述导轮绕所述轴向旋转；以及

一轮体部，沿所述径向延伸于所述轮轴部，所述轮体部具有一胎面，所述胎面上形成有多个导轮出水孔，所述多个导轮出水孔用以对所述侧边部喷射所述处理液，以对所述侧边部进行表面处理并支撑所述侧边部。

2.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，所述轮轴部内形成有一供液腔室，用以供应所述处理液，所述轮体部内形成有多个供液信道，各供液信道连通于所述供液腔室与所述多个导轮出水孔的其中之一。

3.如权利要求2所述的湿式制程设备，其特征在于，各供液信道为一直线型信道。

4.如权利要求3所述的湿式制程设备，其特征在于，各供液通道的走向通过所述轮轴部的轴心，且各导轮出水孔的法线垂直于所述胎面。

5.如权利要求3所述的湿式制程设备，其特征在于，各供液通道的走向相切于所述轮轴部的外周围，且各导轮出水孔的法线垂直于所述胎面。

6.如权利要求2所述的湿式制程设备，其特征在于，各供液信道为一曲线型信道，且各导轮出水孔的法线不垂直于所述胎面。

7.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，所述轮体部内形成有一储液腔室，用以储存并供应所述处理液，所述轮体部内还形成有多个供液信道，各供液信道连通于所述储液腔室与所述多个导轮出水孔的其中之一。

8.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，所述槽体形成有连通于所述槽室的一入口，所述多个导轮用以将所述基板沿一输送方向通过所述入口送入所述槽室内。

9.如权利要求8所述的湿式制程设备，其特征在于，所述槽体还形成有相对于所述入口的一出口，所述多个导轮还用以将所述基板沿所述输送方向通过所述出口送出所述槽室外。

10.如权利要求9所述的湿式制程设备，其特征在于，还包含：

一入口闸门，枢接于所述槽体邻近所述入口处，所述入口闸门用以选择性地关盖所述入口；以及

一出口闸门，枢接于所述槽体邻近所述出口处，所述出口闸门用以选择性地关盖所述出口。