CN107844219B - 触控基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

提供了一种触控基板及其制作方法、显示装置，提高了触控的灵敏度、消影效果以及产品的轻薄化。所述触控基板包括：衬底基板；以及设置在所述衬底基板的第一表面上的第一触控电极、黑矩阵和第二触控电极；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影至少部分地交叠；并且其中，在所述第一触控电极和所述第二触控电极的交叠区域中，所述黑矩阵设置在所述第一触控电极和所述第二触控电极之间。

Description

触控基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及触控技术领域，尤其涉及一种触控基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
目前，触控屏技术已经日益广泛地应用在显示技术中。现有的触控屏技术主要有电阻式、电容式和红外光学式。由于电容触控屏比电阻触控屏具有更高的反应速度，并且可实现多点触控，在触控屏领域很有市场前景；红外光学触控屏技术主要应用在大尺寸触控屏方面。对于电容式触控屏，目前通常可以用以下三种技术来实现：一种是直接在显示面板上贴合触控屏的OGS技术；一种是在将触控面板嵌入到面板中的in-cell技术；还有一种就是将触控屏嵌入到显示面板和偏光片之间的on-cell技术。
发明内容
发明人发现，对于现有的触控屏来说，灵敏度、消影效果以及产品的轻薄化都有待提高。有鉴于此，本发明的实施例提供了一种触控基板及其制作方法、显示装置，提高了触控的灵敏度、消影效果以及产品的轻薄化。
根据本发明的一个方面，本发明实施例提供了一种触控基板，包括：衬底基板；以及设置在所述衬底基板的第一表面上的第一触控电极、黑矩阵和第二触控电极；所述第一触控电极和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影至少部分地交叠，且所述第一触控电极和所述第二触控电极之间相互绝缘；在所述第一触控电极和所述第二触控电极的交叠区域中，所述黑矩阵设置在所述第一触控电极和所述第二触控电极之间。
在本发明实施例中，触控基板包括设置在所述衬底基板的第一表面上的第一触控电极、设置在所述第一触控电极背离所述衬底基板一侧的黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵背离所述衬底基板一侧的第二触控电极。与现有技术中同层设置第一触控电极和第二触控电极的模式相比，本发明实施例利用这种层叠的布置形式，有效地增加了第一触控电极和第二触控电极之间的电容，从而提高了触控的灵敏度。与现有技术中的互电容模式的触控基板相比，本发明实施例不仅提供了更大的电容，还可以省略架桥的布置。同时，层叠的布置形式使得能够将包括所述第一触控电极和第二触控电极的触控组件设置在显示装置的内侧（即，in-cell布置方式），进一步提高了产品的轻薄化。
在一些实施例中，所述第一触控电极和所述第二触控电极分别是由金属线交叉构成的网格；所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影完全地覆盖所述第一触控电极在所述衬底基板上的正投影和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影。
可选地，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影完全地覆盖所述第一触控电极在所述衬底基板上的正投影和所述第二触控电极在所述衬底基板上的正投影，由此更有效地提高了消影效果。
在一些实施例中，在所述交叠区域中，所述第一触控电极和第二触控电极分别与所述黑矩阵直接接触；并且其中，所述黑矩阵的材料为绝缘材料。
可选地，在所述交叠区域中，所述第一触控电极和第二触控电极分别与所述黑矩阵直接接触，并且所述黑矩阵的材料为绝缘材料。由此，（例如，使用光刻的方式）仅施加三层材料即可实现触控电极的布置。并且，由于所述黑矩阵的投影完全地覆盖所述第一触控电极的投影和所述第二触控电极的投影，中间的黑矩阵可以用作绝缘层，从而将所述第一触控电极和第二触控电极完全间隔开。因此，上述布置方式进一步提高了产品的轻薄化，并简化了制作工艺。本领域技术人员能够理解，还可以在所述第一触控电极/第二触控电极和所述黑矩阵之间设置平坦层。
在一些实施例中，所述第一触控电极和第二触控电极的材料为金属。
可选地，使用金属材料制作所述第一触控电极和第二触控电极，从而增强了触控电极的导电性。由此，可以进一步缩小触控电极的线宽，从而改善触控基板的透射率等光学性能。然而本领域技术人员能够理解，也可以使用其他的导电材料（例如ITO）来制作所述第一触控电极和第二触控电极。
在一些实施例中，所述第一触控电极和第二触控电极均具有中心对称的形状，且对称中心在所述衬底基板上的正投影重叠。
在一些实施例中，第一触控电极和第二触控电极具有相同的形状。
可选地，每个第一触控电极和对应的第二触控电极具有相同的形状。因此，可以使用同一个掩模来制作所述第一触控电极和第二触控电极，减少了制作工艺中的掩模板数量，简化了制作工艺并降低了制作成本。
在一些实施例中，所述第一触控电极在所述衬底基板上的正投影和第二触控电极在所述衬底基板上的正投影是相互错位的。
可选地，所述第一触控电极在所述衬底基板上的正投影和第二触控电极在所述衬底基板上的正投影是相互错位的（dislocated）。因此，可以利用原本面积较小的第一触控电极和第二触控电极来检测较大的面积，在确保灵敏度的基础上进一步简化了制作工艺并降低了制作成本。
在一些实施例中，所述黑矩阵的线宽为5μm ~10μm，所述第一触控电极和第二触控电极的线宽为3μm ~5μm。
可选地，所述黑矩阵的线宽为5μm ~10μm，所述第一触控电极和第二触控电极的线宽为3μm ~5μm。结合本领域的对位精度，当对位精度为例如±3μm时，采用上述线宽来制作黑矩阵、第一触控电极和第二触控电极，能够确保所述黑矩阵的投影完全地覆盖所述第一触控电极的投影和所述第二触控电极的投影，从而保证产品良好的光学性能。
根据本发明的另一个方面，本发明实施例提供了一种如以上实施例所述的触控基板的制作方法，包括：提供衬底基板；以及在所述衬底基板的第一表面上设置第一触控电极、黑矩阵和第二触控电极。
本发明实施例中，触控基板包括设置在所述衬底基板的第一表面上的第一触控电极、设置在所述第一触控电极背离所述衬底基板一侧的黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵背离所述衬底基板一侧的第二触控电极。与现有技术中同层设置第一触控电极和第二触控电极的模式相比，本发明实施例利用这种层叠的布置形式，有效地增加了第一触控电极和第二触控电极之间的电容，从而提高了触控的灵敏度。与现有技术中的互电容模式的触控基板相比，本发明实施例不仅提供了更大的电容，还可以省略架桥的布置。同时，层叠的布置形式使得能够将包括所述第一触控电极和第二触控电极的触控组件设置在显示装置的内侧（即，in-cell布置方式），进一步提高了产品的轻薄化。
在一些实施例中，在所述衬底基板的第一表面上设置第一触控电极、黑矩阵和第二触控电极包括：在所述衬底基板的第一表面上设置所述第一触控电极，在所述第一触控电极背离所述衬底基板的表面上设置所述黑矩阵，所述黑矩阵和所述第一触控电极直接接触；以及在所述黑矩阵背离所述衬底基板的表面上设置第二触控电极，所述第二触控电极和所述黑矩阵直接接触。
可选地，在所述交叠区域中，所述第一触控电极和第二触控电极分别与所述黑矩阵直接接触，并且所述黑矩阵的材料为绝缘材料。由此，（例如，使用光刻的方式）仅施加三层材料即可实现触控电极的布置。并且，由于所述黑矩阵的投影完全地覆盖所述第一触控电极的投影和所述第二触控电极的投影，中间的黑矩阵可以用作绝缘层，从而将所述第一触控电极和第二触控电极完全间隔开。因此，上述布置方式进一步提高了产品的轻薄化，并简化了制作工艺。本领域技术人员能够理解，还可以在所述第一触控电极/第二触控电极和所述黑矩阵之间设置平坦层。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述触控基板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述触控基板的实施例，重复之处不再赘述。
在一些实施例中，所述显示装置包括阵列排布的多个像素单元；所述第一触控电极和所述第二触控电极分别是由金属线交叉构成的网格，所述第一触控电极和所述第二触控电极中的每一个具有至少一个开口，每个开口内包含有至少一个像素单元；所述金属线位于相邻的所述像素单元之间。
在一些实施例中，所述显示装置还包括：与所述衬底基板相对布置的对置基板；以及布置在所述衬底基板和对置基板之间的液晶层；其中，所述衬底基板的第一表面面对所述对置基板。
在一些实施例中，所述显示装置还包括：与所述衬底基板相对布置的电致发光显示面板；其中，所述衬底基板的第一表面面对所述电致发光显示面板。
在一些实施例中，所述黑矩阵包括多个黑矩阵开口，所述触控基板还包括设置在所述衬底基板的第一表面上的多个滤光片，所述滤光片设置于所述黑矩阵开口中。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为根据本发明实施例的触控基板的局部结构示意图；
图2为图1所示的触控基板沿A-A'线的截面示意图；
图3为根据本发明另一实施例的触控基板的局部结构示意图；
图4为根据本发明实施例的触控基板的制作方法的流程图；
图5为根据本发明实施例的显示装置的结构示意图；以及
图6为根据本发明另一实施例的显示装置的结构示意图；以及
图7为根据本发明另一实施例的显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明专利保护的范围。
根据本发明的一个方面，如图1和图2所示，本发明实施例提供了一种触控基板100，包括：衬底基板101；以及设置在所述衬底基板的第一表面上的第一触控电极102、黑矩阵103和第二触控电极104；其中，所述第一触控电极102和所述第二触控电极104在所述衬底基板101上的正投影至少部分地交叠，且所述第一触控电极和所述第二触控电极之间相互绝缘；并且其中，在所述第一触控电极102和所述第二触控电极104的交叠区域中，所述黑矩阵103设置在所述第一触控电极102和所述第二触控电极104之间。
在本发明实施例中，触控基板包括设置在所述衬底基板的第一表面上的第一触控电极、设置在所述第一触控电极背离所述衬底基板一侧的黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵背离所述衬底基板一侧的第二触控电极。与现有技术中同层设置第一触控电极和第二触控电极的模式相比，本发明实施例利用这种层叠的布置形式，有效地增加了第一触控电极和第二触控电极之间的电容，从而提高了触控的灵敏度。与现有技术中的互电容模式的触控基板相比，本发明实施例不仅提供了更大的电容，还可以省略架桥的布置。同时，层叠的布置形式使得能够将包括所述第一触控电极和第二触控电极的触控组件设置在显示装置的内侧（即，in-cell或on-cell布置方式，如图5和图6的实施例所示），进一步提高了产品的轻薄化。
在本发明的实施例中，所述触控基板100可以包括多个第一触控电极102和多个第二触控电极104。所述多个第一触控电极102和多个第二触控电极104一一对应。可选地，第一触控电极102是发射电极，第二触控电极104是接收电极。本领域技术人员能够理解，第一触控电极102也可以是接收电极，并且第二触控电极104也可以是发射电极。
在一些实施例中，如图1所示，所述第一触控电极102和所述第二触控电极104是由金属线交叉构成的网格；所述黑矩阵103在所述衬底基板101上的正投影完全地覆盖所述第一触控电极102在所述衬底基板101上的正投影和所述第二触控电极104在所述衬底基板101上的正投影。
可选地，所述第一触控电极102具有至少一个第一开口105，所述第二触控电极104具有至少一个第二开口106；在垂直于所述衬底基板的方向上，所述黑矩阵的投影完全地覆盖所述第一触控电极的投影和所述第二触控电极的投影。例如，在如图1所示的实施例中，第一触控电极102具有5个第一开口105，第二触控电极104具有4个第二开口106。所述黑矩阵103在所述衬底基板101上的正投影完全地覆盖所述第一触控电极102在所述衬底基板101上的正投影和所述第二触控电极104在所述衬底基板101上的正投影，由此更有效地提高了消影效果。
在一些实施例中，如图2所示，在所述交叠区域中，所述第一触控电极102和第二触控电极104分别与所述黑矩阵103直接接触；并且其中，所述黑矩阵103的材料为绝缘材料。
可选地，在所述交叠区域中，所述第一触控电极和第二触控电极分别与所述黑矩阵直接接触，并且所述黑矩阵的材料为绝缘材料。由此，（例如，使用光刻的方式）仅施加三层材料即可实现触控电极的布置。并且，由于所述黑矩阵的投影完全地覆盖所述第一触控电极的投影和所述第二触控电极的投影，中间的黑矩阵可以用作绝缘层，从而将所述第一触控电极和第二触控电极完全间隔开。因此，上述布置方式进一步提高了产品的轻薄化，并简化了制作工艺。本领域技术人员能够理解，还可以在所述第一触控电极/第二触控电极和所述黑矩阵之间设置平坦层。
在一些实施例中，所述第一触控电极102和第二触控电极104的材料为金属。
可选地，使用金属材料制作所述第一触控电极和第二触控电极，从而增强了触控电极的导电性。由此，可以进一步缩小触控电极的线宽，从而改善触控基板的透射率等光学性能。然而本领域技术人员能够理解，也可以使用其他的导电材料（例如ITO）来制作所述第一触控电极和第二触控电极。
在一些实施例中，如图1所示，所述第一触控电极102和第二触控电极104均具有中心对称的形状，且对称中心在所述衬底基板上的正投影重叠。
在一些实施例中，所述触控基板100可以包括多个第一触控电极102和多个第二触控电极104；并且其中，如图3所示，每个第一触控电极102和对应的第二触控电极104具有相同的形状。例如，在如图3所示的实施例中，每个第一触控电极102具有4个第一开口105，对应的第二触控电极104也具有4个第二开口106，并且每个第一触控电极102和对应的第二触控电极104具有相同的形状。
可选地，每个第一触控电极和对应的第二触控电极具有相同的形状。因此，可以使用同一个掩模来制作所述第一触控电极和第二触控电极，减少了制作工艺中的掩模板数量，简化了制作工艺并降低了制作成本。
在一些实施例中，如图3所示，所述第一触控电极102在所述衬底基板101上的正投影和第二触控电极104在所述衬底基板101上的正投影是相互错位的。
可选地，所述第一触控电极在所述衬底基板上的正投影和第二触控电极在所述衬底基板上的正投影是相互错位的。因此，可以利用原本面积较小的第一触控电极和第二触控电极来检测较大的面积（如图3所示），在确保灵敏度的基础上进一步简化了制作工艺并降低了制作成本。
在一些实施例中，如图1至图3所示，所述黑矩阵103的线宽为5μm ~10μm，所述第一触控电极102和第二触控电极104的线宽为3μm ~5μm。
可选地，所述黑矩阵的线宽为5μm ~10μm，所述第一触控电极和第二触控电极的线宽为3μm ~5μm。结合本领域的对位精度，当对位精度为例如±3μm时，采用上述线宽来制作黑矩阵、第一触控电极和第二触控电极，能够确保所述黑矩阵的投影完全地覆盖所述第一触控电极的投影和所述第二触控电极的投影，从而保证产品良好的光学性能。
根据本发明的另一个方面，如图4所示，本发明实施例提供了一种如以上实施例所述的触控基板的制作方法400，包括：S401提供衬底基板；以及S402在所述衬底基板的第一表面上设置第一触控电极、黑矩阵和第二触控电极。
本发明实施例中，触控基板包括设置在所述衬底基板的第一表面上的第一触控电极、设置在所述第一触控电极背离所述衬底基板一侧的黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵背离所述衬底基板一侧的第二触控电极。与现有技术中同层设置第一触控电极和第二触控电极的模式相比，本发明实施例利用这种层叠的布置形式，有效地增加了第一触控电极和第二触控电极之间的电容，从而提高了触控的灵敏度。与现有技术中的互电容模式的触控基板相比，本发明实施例不仅提供了更大的电容，还可以省略架桥的布置。同时，层叠的布置形式使得能够将包括所述第一触控电极和第二触控电极的触控组件设置在显示装置的内侧（即，in-cell或on-cell布置方式，如图5和图6的实施例所示），进一步提高了产品的轻薄化。
在一些实施例中，在所述衬底基板的第一表面上设置第一触控电极、黑矩阵和第二触控电极包括：在所述衬底基板的第一表面上设置所述第一触控电极，在所述第一触控电极背离所述衬底基板的表面上设置所述黑矩阵，所述黑矩阵和所述第一触控电极直接接触；以及在所述黑矩阵背离所述衬底基板的表面上设置第二触控电极，所述第二触控电极和所述黑矩阵直接接触。
可选地，在所述交叠区域中，所述第一触控电极和第二触控电极分别与所述黑矩阵直接接触，并且所述黑矩阵的材料为绝缘材料。由此，（例如，使用光刻的方式）仅施加三层材料即可实现触控电极的布置。并且，由于所述黑矩阵的投影完全地覆盖所述第一触控电极的投影和所述第二触控电极的投影，中间的黑矩阵可以用作绝缘层，从而将所述第一触控电极和第二触控电极完全间隔开。因此，上述布置方式进一步提高了产品的轻薄化，并简化了制作工艺。本领域技术人员能够理解，还可以在所述第一触控电极/第二触控电极和所述黑矩阵之间设置平坦层。
基于同一发明构思，如图5和图6所示，本发明实施例还提供了一种显示装置500、600，包括本发明实施例提供的上述触控基板100，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述触控基板的实施例，重复之处不再赘述。
在一些实施例中，如图7所示，所述显示装置500、600包括阵列排布的多个像素单元（R、G和B）；第一触控电极102和所述第二触控电极104分别是由金属线交叉构成的网格，所述第一触控电极102和所述第二触控电极104中的每一个具有至少一个开口（105、106），每个开口内包含有至少一个像素单元（R、G或B）；触控电极的金属线位于相邻的像素单元之间。
在一些实施例中，如图5所示，所述显示装置500还包括：与所述衬底基板101相对布置的对置基板501；以及布置在所述衬底基板101和对置基板501之间的液晶层502；其中，所述衬底基板101的第一表面（即，布置有所述第一触控电极102、黑矩阵103和第二触控电极104的表面）面对所述对置基板501。
在一些实施例中，如图6所示，所述显示装置600还包括：与所述衬底基板101相对布置的电致发光显示面板601；其中，所述衬底基板101的第一表面（即，布置有所述第一触控电极102、黑矩阵103和第二触控电极104的表面）面对所述电致发光显示面板601。
可选地，所述电致发光显示面板可以是OLED显示面板。进一步地，所述OLED显示面板可以是白光OLED显示面板。由此，可以实现on-cell布置形式的OLED触控显示装置。
在一些实施例中，所述黑矩阵包括多个黑矩阵开口，所述触控基板还包括设置在所述衬底基板的第一表面上的多个滤光片，滤光片设置于黑矩阵开口中；在一些实施例中，多个滤光片与多个黑矩阵开口一一对应。
以下，结合如图1、图3、图5和图6所示的实施例，介绍本发明的两个实例。
实例1
步骤11：采用光刻工艺，在衬底基板101（例如，彩膜基板）的第一表面制作金属的第一触控电极102（例如，接收电极）。形成的第一触控电极102如图1所示。所述第一触控电极102与衬底基板101或衬底基板101的对准标记对准。所述第一触控电极102的线宽为4±1μm，对准精度为±3μm。
步骤12：采用光刻工艺，在第一触控电极102之上制作绝缘的黑矩阵103。所述黑矩阵103与第一触控电极102或第一触控电极102的对准标记对准。黑矩阵103的线宽为7±1μm，对准精度为±3μm。因此，在垂直于衬底基板101的方向上，所述第一触控电极102完全被黑矩阵103覆盖，保证产品的开口率和消影等光学性能。
步骤13：采用光刻工艺，在黑矩阵103之上制作第二触控电极104（例如，发射电极）。形成的第二触控电极104如图1所示。所述第二触控电极104与黑矩阵103或黑矩阵103的对准标记对准。所述第二触控电极104的线宽为4±1μm，对准精度为±3μm。因此，在垂直于衬底基板101的方向上，所述第二触控电极104完全被黑矩阵103覆盖，保证产品的开口率和消影等光学性能。所述第一触控电极102、黑矩阵103和第二触控电极104层叠在一起的俯视图如图1或图3所示。
步骤14：压合所述触控基板和用于液晶显示的阵列基板，其中所述衬底基板101的第一表面（即，布置有所述第一触控电极102、黑矩阵103和第二触控电极104的表面）面对所述阵列基板（如图5所示）。执行液晶（LC）注入、POL(偏光片)贴附和Cover Lens（盖板）贴附等工艺，完成in-cell液晶触控显示装置的制作。
实例2
步骤21：采用光刻工艺，在衬底基板101（例如，彩膜基板）的第一表面制作金属的第一触控电极102（例如，接收电极）。形成的第一触控电极102如图1所示。所述第一触控电极102与衬底基板101或衬底基板101的对准标记对准。所述第一触控电极102的线宽为4±1μm，对准精度为±3μm。
步骤22：采用光刻工艺，在第一触控电极102之上制作绝缘的黑矩阵103。所述黑矩阵103与第一触控电极102或第一触控电极102的对准标记对准。黑矩阵103的线宽为7±1μm，对准精度为±3μm。因此，在垂直于衬底基板101的方向上，所述第一触控电极102完全被黑矩阵103覆盖，保证产品的开口率和消影等光学性能。
步骤23：采用光刻工艺，在黑矩阵103之上制作第二触控电极104（例如，发射电极）。形成的第二触控电极104如图1所示。所述第二触控电极104与黑矩阵103或黑矩阵103的对准标记对准。所述第二触控电极104的线宽为4±1μm，对准精度为±3μm。因此，在垂直于衬底基板101的方向上，所述第二触控电极104完全被黑矩阵103覆盖，保证产品的开口率和消影等光学性能。所述第一触控电极102、黑矩阵103和第二触控电极104层叠在一起的俯视图如图1或图3所示。
步骤24：压合所述触控基板和用于OLED显示的阵列基板，其中所述衬底基板101的第一表面（即，布置有所述第一触控电极102、黑矩阵103和第二触控电极104的表面）面对所述阵列基板（如图6所示）。执行Cover Lens（盖板）贴附等工艺，完成on-cell OLED触控显示装置的制作。
在本发明实施例提供的触控基板及其制作方法、显示装置中，触控基板包括设置在所述衬底基板的第一表面上的第一触控电极、设置在所述第一触控电极背离所述衬底基板一侧的黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵背离所述衬底基板一侧的第二触控电极。与现有技术中同层设置第一触控电极和第二触控电极的模式相比，本发明实施例利用这种层叠的布置形式，有效地增加了第一触控电极和第二触控电极之间的电容，从而提高了触控的灵敏度。与现有技术中的互电容模式的触控基板相比，本发明实施例不仅提供了更大的电容，还可以省略架桥的布置。同时，层叠的布置形式使得能够将包括所述第一触控电极和第二触控电极的触控组件设置在显示装置的内侧（即，in-cell或on-cell布置方式），进一步提高了产品的轻薄化。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种触控基板，包括：
衬底基板；以及
设置在所述衬底基板的第一表面上的多个第一触控电极、黑矩阵和多个第二触控电极，所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极一一对应；
其中，每个第一触控电极和对应的第二触控电极在所述衬底基板上的正投影至少部分地交叠，且所述第一触控电极和对应的第二触控电极之间相互绝缘；在所述第一触控电极和对应的第二触控电极的交叠区域中，所述黑矩阵设置在所述第一触控电极和对应的第二触控电极之间；
并且其中，所述第一触控电极和对应的第二触控电极分别是由金属线交叉构成的网格；所述第一触控电极和所述第二触控电极由同一个掩模制作；所述第一触控电极在所述衬底基板上的正投影和对应的第二触控电极在所述衬底基板上的正投影具有相互错位的由同一个掩模制作的相同形状；所述第一触控电极和所述第二触控电极中的每一个具有至少一个开口，每个开口内包含有至少一个像素单元；所述金属线位于相邻的像素单元之间。
2.如权利要求1所述的触控基板，其中，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影完全地覆盖所述第一触控电极在所述衬底基板上的正投影和对应的第二触控电极在所述衬底基板上的正投影。
3.如权利要求1或2所述的触控基板，其中，在所述交叠区域中，所述第一触控电极和对应的第二触控电极分别与所述黑矩阵直接接触；并且其中，所述黑矩阵的材料为绝缘材料。
4.如权利要求1或2所述的触控基板，其中，所述第一触控电极和第二触控电极的材料为金属。
5.如权利要求1或2所述的触控基板，其中，所述黑矩阵的线宽为5μm ~10μm，所述第一触控电极和第二触控电极的线宽为3μm ~5μm。
6.一种如权利要求1-5任一项所述触控基板的制作方法，包括：
提供衬底基板；以及
在所述衬底基板的第一表面上设置多个第一触控电极、黑矩阵和多个第二触控电极，所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极一一对应；
其中，每个第一触控电极和对应的第二触控电极在所述衬底基板上的正投影至少部分地交叠，且所述第一触控电极和对应的第二触控电极之间相互绝缘；在所述第一触控电极和对应的第二触控电极的交叠区域中，所述黑矩阵设置在所述第一触控电极和对应的第二触控电极之间；
并且其中，所述第一触控电极和对应的第二触控电极分别是由金属线交叉构成的网格；所述第一触控电极和所述第二触控电极由同一个掩模制作；所述第一触控电极在所述衬底基板上的正投影和对应的第二触控电极在所述衬底基板上的正投影具有相互错位的由同一个掩模制作的相同形状；所述第一触控电极和所述第二触控电极中的每一个具有至少一个开口，每个开口内包含有至少一个像素单元；所述金属线位于相邻的像素单元之间。
7.如权利要求6所述的方法，其中，在所述衬底基板的第一表面上设置多个第一触控电极、黑矩阵和多个第二触控电极包括：
在所述衬底基板的第一表面上设置所述多个第一触控电极，在所述多个第一触控电极背离所述衬底基板的表面上设置所述黑矩阵，所述黑矩阵和所述多个第一触控电极直接接触；以及在所述黑矩阵背离所述衬底基板的表面上设置所述多个第二触控电极，所述多个第二触控电极和所述黑矩阵直接接触。
8.一种显示装置，包括如权利要求1-5任一项所述的触控基板。
9.如权利 要求8所述的显示装置，其中，所述显示装置包括阵列排布的多个像素单元；
所述第一触控电极和对应的第二触控电极中的每一个具有至少一个开口，每个开口内包含有至少一个所述像素单元；所述金属线位于相邻的所述像素单元之间。
10.如权利要求8所述的显示装置，还包括：
与所述衬底基板相对布置的对置基板；以及
布置在所述衬底基板和对置基板之间的液晶层；
其中，所述衬底基板的第一表面面对所述对置基板。
11.如权利要求8所述的显示装置，还包括：
与所述衬底基板相对布置的电致发光显示面板；
其中，所述衬底基板的第一表面面对所述电致发光显示面板。
12.如权利要求8-11之一所述的显示装置，其中所述黑矩阵包括多个黑矩阵开口，所述触控基板还包括设置在所述衬底基板的第一表面上的多个滤光片，所述滤光片设置于所述黑矩阵开口中。
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