CN107651839B - 一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法 - Google Patents
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Abstract
一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,包括如下步骤:(1)制备表面具有凹凸纹理的砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面依次进行喷底釉和喷剥开釉,进行高温烧制,获得具有凹凸纹理的瓷砖;(2)制备平面砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面喷底釉后,根据预设计的剥开纹理,在砖坯的表面喷剥开墨水,剥开墨水的布置方向与所述凹凸纹理平行;再采用旋转式喷釉柜在具有剥开墨水的砖坯表面喷剥开釉,进行高温烧制,获得具有剥开纹理的平面瓷砖;(3)将具有凹凸纹理的瓷砖和具有剥开纹理的平面瓷砖,相互交错间隔铺设;本发明提出的一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其获得的砖面效果不仅立体感更强,而且纹理效果更加丰富多样、防滑效果好。
Description
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷技术领域,尤其涉及一种一石多面的瓷砖的制备和铺 设方法。
背景技术
在现有建筑陶瓷制备工艺中,为了提高砖面的装饰效果和立体效果,通常 是采用在砖面设计不同凹凸纹理,以使砖面形成一定的立体效果和纹理装饰效 果,但其砖面的纹理变化较为生硬、单一,砖面的立体效果受到一定的限制, 并且在其并且在制备工艺的过程中,随着凹凸纹理的增加,往往存在着因部分 的凹凸纹理难以确保淋釉均匀而造成缺釉的现象,导致严重影响砖面的美观和 缺陷降级的问题。
发明内容
本发明的目的在于提出一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其获得的 砖面效果不仅立体感更强,而且纹理效果更加丰富多样、防滑效果好。
其为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,包括如下步骤:
(1)制备表面具有凹凸纹理的砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面依次 进行喷底釉和喷剥开釉,进行高温烧制,获得具有凹凸纹理的瓷砖;
(2)制备平面砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面喷底釉后,根据预设 计的剥开纹理,在砖坯的表面喷剥开墨水,剥开墨水的布置方向与所述凹凸纹 理平行;再采用旋转式喷釉柜在具有剥开墨水的砖坯表面喷剥开釉,进行高温 烧制,获得具有剥开纹理的平面瓷砖;
(3)铺设过程:将具有凹凸纹理的瓷砖和具有剥开纹理的平面瓷砖,相互 交错间隔铺设。
本发明提出的一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,将具有凹凸纹理效果的 瓷砖与具有剥开纹理效果的瓷砖来进行特殊的铺设组合,从而形成纹理更加丰 富、立体感十足的一石多面的砖面效果。其中,凹凸纹理效果由于经过压机压 制后,其边缘较为规整,骨架感明显;而剥开纹理是经过高温熔融的效果,其 边缘较为平滑、过渡自然;因此通过设计同样或者类似的凹凸条纹和剥开条纹 效果,即基本相同或者类似的方向和间距,使其出现在不同结构的瓷砖上形成 不同效果,再通过有规律的间隔铺设,使凹凸条纹的凹陷位与剥开位相互辉映 和搭配组合,从而达到一种特殊的复制效果,不仅获得了更强的立体效果,同时展现了纹理效果的多样性和规律性,大大提高了瓷砖铺贴效果的多样性,增 加产品的立体效果和视觉效果,立体感强且更加丰富,同时起到了显著的防滑 作用。需要说明的是,所述剥开墨水的布置方向与所述凹凸纹理平行是包括大 致平行,因为剥开墨水在砖面具有一定的渗透和扩散作用。这里所说的一石多 面的瓷砖的“一石多面”是指“一种图案有多种表达形式”,即“一石”指的是 “一种图案”;“多面”指的是“由凹凸条纹形成的表面,以及由剥开墨水和剥 开釉形成的表面”。
另外,为了避免在制备工艺的过程中,因部分的凹凸纹理难以确保淋釉均 匀,而造成缺釉的问题,因此在喷釉的过程中,均采用了旋转式喷釉柜进行喷 釉,利用旋转喷釉的方式,使各个死角能够全方位地充分均匀喷釉,从而使瓷 砖的整体釉面效果更加均匀,在烧制后砖面均无明显缺釉的现象。
需要说明,对于具有凹凸纹理的砖坯、平面砖坯的制备是分别利用不同的 模芯来进行布料压制而成的,即单机压平面模、单机压凹凸模一起生产。砖面 的凹凸纹理效果还可通过模芯设计不同图案纹理,以获得更加丰富多样的凹凸 纹理。在将多个具有凹凸纹理的瓷砖和具有剥开纹理的平面瓷砖进行组装时, 通过采用砖面识别系统进行识别包装方式,以降低铺贴时的难度,确保形成预 计达到的砖面装饰效果。
进一步说明,所述剥开釉按照质量百分比,包括如下原料:12-20%钾长石、 13-20%钠长石、8-12%球土、15-20%硅灰石、8-12%石灰石、12-14%刚玉粉和 8-10%氧化锌。本发明通过优化了剥开釉料的配方,其中通过减少釉料配方中的 低温熔剂原料,以进一步提高釉料的始熔点,从而缩短釉料在熔融状态时的时 间长度,防止凹陷纹理被融平;并且增加了氧化锌的用量至5-7%,提高釉料高 温熔融时的流动性,尤其是通过在具有凹凸纹理的瓷砖表面喷所述剥开釉,有 效解决了在凹凸纹理的死角位置容易出现缺釉问题,有利于釉料发色,增加瓷 砖的的花色。
进一步说明,所述剥开釉的比重为1.50~1.60,流速为40-60s。将剥开釉的 比重和流速控制在适宜的范围内,以确保其具有良好的悬浮性和保水性,良好 的悬浮性可解决喷釉时易沉淀的问题,良好的保水性可使在喷釉时更好的形成 凹陷效果,剥开纹理更加自然,同时使凹凸纹理的釉面更加均匀。
进一步说明,所述剥开釉的始熔点的温度为1080℃~1100℃。控制所述剥开 釉较高的始熔点,是因为剥开墨水的作用温度点在900℃,而提高釉料的始熔点 可缩短釉料在熔融状态时的时间长度,防止凹陷纹理被融平,提高砖面的立体 效果。
进一步说明,所述旋转式喷釉柜1上设置有两组喷枪2,所述喷枪2包括进 料管21、旋转器22和三个喷头23;所述进料管21的一端连接于所述旋转器22, 所述喷头23连接于所述旋转器22的底部,并呈三脚架分布;所述旋转器22驱 动所述喷头23作水平360°旋转。通过对喷釉柜1上的喷枪2结构的进一步改 进,即利用旋转器22来有效驱动所述喷头23进行水平360°旋转喷釉的方式, 确保凹凸纹理砖面的各个死角均能够均匀喷釉,使整体的釉面更加均匀,有效 解决缺釉问题;另外所述喷枪2可根据不同的喷釉量适配不同型号的喷头23, 以满足不同规格的砖面的喷釉要求。
进一步说明,所述喷头23的口径为0.35~0.6mm。由于所述喷枪2配置了三 个喷头23同时进行喷釉工作,因此为了能够有效控制喷釉的厚度和均匀度,需 要进一步合理控制喷头23的口径,以达到更准确有效地控制喷釉效果。
进一步说明,步骤(1)中在喷底釉和喷剥开釉之间还包括喷墨印花工序, 在喷有底釉的凹凸纹理的砖坯的表面进行喷墨印花;步骤(2)中在喷底釉和喷 剥开墨水之间还包括喷墨印花工序,在喷有底釉的平面砖坯表面进行喷墨印花。 通过在砖坯的表面进行喷墨印花,使印花效果与凹凸纹理和剥开纹理相互映衬 结合,从而进一步提高砖面装饰效果的多样性。
进一步说明,步骤(2)和步骤(3)之间还包括表面处理工序,将获得的 具有凹凸纹理的瓷砖和具有剥开纹理的平面瓷砖进行表面处理,所述表面处理 包括柔抛、哑抛或不抛中的任意一种。利用不同的表面处理工艺,增加了产品 的多样性,使获得的一石多面瓷砖能够满足不同装饰效果的要求,并且其表面 无明显釉面缺陷;并且有效降低了因全抛产生的部分水波纹、辊印棒等缺陷而 影响视觉美观效果。
进一步说明,产品表面的剥开纹理与凹陷纹理的位置相一致。需要说明, 这里所述的一致也同样包括基本一致。将剥开纹理和凹陷纹理设计为基本一致 对称,从而提高了纹理的丰富度和较强的立体效果的同时,还更进一步了增加 视觉对比感,更突显了纹理效果对比效果。
进一步说明,步骤(1)和步骤(2)中所述烧制的温度为1140~1180℃。
本发明的有益效果:通过设计同样或者类似的凹凸条纹和剥开条纹效果,使 其出现在不同结构的瓷砖上,再通过特殊的间隔铺设,从而形成纹理更加丰富、 立体感十足的一石多面的砖面效果;凹凸条纹的凹陷位与剥开位相互辉映和搭 配组合,达到了一种特殊的复制效果,不仅获得了更强的立体效果,同时展现 了纹理效果的多样性和规律性,大大提高了瓷砖铺贴效果的多样性,增加产品 的立体效果和视觉效果,立体感强且更加丰富,同时起到了显著的防滑作用。并 且在喷釉的过程中,均采用了旋转式喷釉柜进行喷釉,利用旋转喷釉的方式, 使各个死角能够全方位地充分均匀喷釉,从而使瓷砖的整体釉面效果更加均匀, 在烧制后砖面均无明显缺釉的现象。
附图说明
图1是本发明一个实施例的旋转式喷釉柜的结构示意图;
图2是本发明一个实施例的一石多面的瓷砖的铺设方法的砖面示意图;
图3是本发明一个实施例的一石多面的瓷砖的铺设方法的砖面 示意图;
图4是本发明一个实施例的一石多面的瓷砖的铺设方法的砖面 示意图;
图5是本发明一个实施例的一石多面的瓷砖的铺设方法的结构 侧视图;
其中:旋转式喷釉柜1,喷枪2,进料管21,旋转器22,喷头23,具有凹 凸纹理的瓷砖3,凹凸纹理31,平面的瓷砖4,剥开纹理41。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1-一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,包括如下步骤:
1、制备剥开釉:
将上述原料进行混合球磨,获得剥开釉,其中,剥开釉的比重为1.50,流 速为40s,始熔点的温度为1100℃。
2、一石多面的瓷砖的制备步骤和铺设方法:
(1)制备表面具有凹凸纹理的砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面依次 进行喷底釉和喷剥开釉,在温度为1140~1180℃条件下进行高温烧制,获得具有 凹凸纹理的瓷砖1;
(2)制备平面砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面喷底釉后,根据预设 计的剥开纹理,在砖坯的表面喷剥开墨水,剥开墨水的布置方向与所述凹凸纹 理平行;再采用旋转式喷釉柜在具有剥开墨水的砖坯表面喷剥开釉,在温度为 1140~1180℃条件下进行高温烧制,获得具有剥开纹理的平面瓷砖1;
(3)铺设过程:将两个具有凹凸纹理的瓷砖1和两个具有剥开纹理的平面 瓷砖1,相互交错间隔铺设,如图2所示。其中具有凹凸纹理的瓷砖1和具有剥 开纹理的平面瓷砖1的表面均无缺釉现象。
实施例2-一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,包括如下步骤:
1、制备剥开釉:
原料 | 钾长石 | 钠长石 | 球土 | 硅灰石 |
百分比 | 20% | 18% | 11% | 19% |
原料 | 石灰石 | 刚玉粉 | 氧化锌 | |
百分比 | 11% | 13% | 8% |
将上述原料进行混合球磨,获得剥开釉,其中,剥开釉的比重为1.60,流 速为60s,始熔点的温度为1080℃。
2、一石多面的瓷砖的制备步骤和铺设方法:
(1)制备表面具有凹凸纹理的砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面依次 进行喷底釉和喷剥开釉,在温度为1140~1180℃条件下进行高温烧制,获得具有 凹凸纹理的瓷砖2;
(2)制备平面砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面喷底釉后,根据预设 计的剥开纹理,在砖坯的表面喷剥开墨水,剥开墨水的布置方向与所述凹凸纹 理平行;再采用旋转式喷釉柜在具有剥开墨水的砖坯表面喷剥开釉,在温度为 1140~1180℃条件下进行高温烧制,获得具有剥开纹理的平面瓷砖2;
(3)铺设过程:将五个具有凹凸纹理的瓷砖2和四个具有剥开纹理的平面 瓷砖2,相互交错间隔铺设,如图3所示。其中具有凹凸纹理的瓷砖2和具有剥 开纹理的平面瓷砖2的表面均无缺釉现象。
实施例3-一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,包括如下步骤:
1、制备剥开釉:
原料 | 钾长石 | 钠长石 | 球土 | 硅灰石 |
百分比 | 19% | 20% | 10% | 18% |
原料 | 石灰石 | 刚玉粉 | 氧化锌 | |
百分比 | 12% | 12% | 9% |
将上述原料进行混合球磨,获得剥开釉,其中,剥开釉的比重为1.55,流 速为50s,始熔点的温度为1090℃。
2、一石多面的瓷砖的制备步骤和铺设方法:
(1)制备表面具有凹凸纹理的砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面依次 进行喷底釉、喷墨印花、喷剥开釉,在温度为1140~1180℃条件下进行高温烧制, 获得具有凹凸纹理的瓷砖3;
(2)制备平面砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面喷底釉后,进行喷墨 印花,并根据预设计的剥开纹理,在砖坯的表面喷剥开墨水,剥开墨水的布置 方向与所述凹凸纹理平行;再采用旋转式喷釉柜在具有剥开墨水的砖坯表面喷 剥开釉,在温度为1140~1180℃条件下进行高温烧制,获得具有剥开纹理的平面 瓷砖3;
(3)铺设过程:将八个具有凹凸纹理的瓷砖3和八个具有剥开纹理的平面 瓷砖3,相互交错间隔铺设,如图4所示。其中具有凹凸纹理的瓷砖3和具有剥 开纹理的平面瓷砖3的表面均无缺釉现象。
对比实施例组
对比实施例1-根据实施例1中相同的实验参数条件下,利用现有常规的喷 釉柜进行喷釉,并根据实施例1中的制备步骤分别制备获得具有凹凸纹理的瓷 砖4和具有剥开纹理的平面瓷砖4,并进行相互交错间隔铺设,其中,具有凹凸 纹理的瓷砖4的表面出现了部分缺釉的现象。
对比实施例2-根据实施例1中相同的实验参数条件下,改变剥开釉中的氧 化锌的含量,其原料组分如下表所示:
原料 | 钾长石 | 钠长石 | 球土 | 硅灰石 |
百分比 | 18% | 20% | 12% | 20% |
原料 | 石灰石 | 刚玉粉 | 氧化锌 | |
百分比 | 12% | 14% | 4% |
将上述原料进行混合球磨,获得剥开釉,其中,剥开釉的比重为1.50,流 速为40s,始熔点的温度为1100℃,并根据实施例1中的制备步骤分别制备获得 具有凹凸纹理的瓷砖5和具有剥开纹理的平面瓷砖5,并进行相互交错间隔铺设, 其中,具有凹凸纹理的瓷砖5的凹凸纹理的死角位置出现部分缺釉现象。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本 发明的原理,而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的 解释,本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具 体实施方式,这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其特征在于:包括如下步骤:
(1)制备表面具有凹凸纹理的砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面依次进行喷底釉和喷剥开釉,进行高温烧制,获得具有凹凸纹理的瓷砖;
(2)制备平面砖坯,采用旋转式喷釉柜在砖坯的表面喷底釉后,根据预设计的剥开纹理,在砖坯的表面喷剥开墨水,剥开墨水的布置方向与所述凹凸纹理平行;再采用旋转式喷釉柜在具有剥开墨水的砖坯表面喷剥开釉,进行高温烧制,获得具有剥开纹理的平面瓷砖;
其中,所述剥开釉按照质量百分比,包括如下原料:12-20%钾长石、13-20%钠长石、8-12%球土、15-20%硅灰石、8-12%石灰石、12-14%刚玉粉和8-10%氧化锌;其中,步骤(1)和步骤(2)中所述烧制的温度为1140~1180℃;
(3)铺设过程:将具有凹凸纹理的瓷砖和具有剥开纹理的平面瓷砖,相互交错间隔铺设;
其中,一石多面是指一种图案有多种表达形式。
2.根据权利要求1所述的一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其特征在于:所述剥开釉的比重为1.50~1.60,流速为40~60s。
3.根据权利要求1所述的一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其特征在于:所述剥开釉的始熔点的温度为1080℃~1100℃。
4.根据权利要求1所述的一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其特征在于:所述旋转式喷釉柜上设置有两组喷枪,所述喷枪包括进料管、旋转器和三个喷头;所述进料管的一端连接于所述旋转器,所述喷头连接于所述旋转器的底部,并呈三脚架分布;所述旋转器驱动所述喷头作水平360°旋转。
5.根据权利要求4所述的一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其特征在于:所述喷头的口径为0.35~0.6mm。
6.根据权利要求1所述的一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其特征在于:步骤(1)中在喷底釉和喷剥开釉之间还包括喷墨印花工序,在喷有底釉的凹凸纹理的砖坯的表面进行喷墨印花;步骤(2)中在喷底釉和喷剥开墨水之间还包括喷墨印花工序,在喷有底釉的平面砖坯表面进行喷墨印花。
7.根据权利要求1所述的一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其特征在于:步骤(2)和步骤(3)之间还包括表面处理工序,将获得的具有凹凸纹理的瓷砖和具有剥开纹理的平面瓷砖进行表面处理,所述表面处理包括柔抛、哑抛或不抛中的任意一种。
8.根据权利要求1所述的一种一石多面的瓷砖的制备和铺设方法,其特征在于:产品表面的剥开纹理与凹陷纹理的位置相一致。
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- 2017-10-11 CN CN201710941415.2A patent/CN107651839B/zh active Active
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