CN107635941B - 玻璃基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

一种玻璃基板的制造方法，其在将从搬入口(2a)搬入到腔室(2)内的玻璃基板(3)沿着水平方向搬运的同时，在腔室(2)内的玻璃基板(3)的搬运路径上设置的处理区域(4)中利用处理气体(5)实施蚀刻处理之后，从搬出口(2b)向腔室(2)外搬出处理后的玻璃基板(3)，其中，通过在搬入口(2a)以及搬出口(2b)各自的开口的上缘(2aa(2ba))侧和下缘(2ab(2bb))侧分别使开口宽度调节构件(8、9)移动，从而基于腔室(2)内外的气压差来调节搬入口(2a)以及搬出口(2b)各自的沿着上下方向的开口宽度。

Description

玻璃基板的制造方法

技术领域

本发明涉及使用氟化氢等处理气体对玻璃基板实施蚀刻处理的玻璃基板的制造方法。

背景技术

众所周知，玻璃基板以平板显示器(FPD)、智能手机、平板型PC等移动设备为代表而组装于各种各样的电子器件，其中，平板显示器以液晶显示器、等离子显示器、有机EL显示器、场发射显示器等为代表。

然而，在玻璃基板的制造工序中，有时产生因静电的带电而引起的问题。例如，在为了对玻璃基板实施规定的处理而将玻璃基板载置于载置台上时，存在因静电的带电而导致玻璃基板贴附于载置台的情况，在要使结束处理的玻璃基板从载置台剥离时，有时该玻璃基板会发生破损。

于是，作为针对上述那样的问题的对策，已知如下的方法：将氟化氢等处理气体喷涂于玻璃基板而实施蚀刻处理，使该玻璃基板的表面粗糙化，由此避免发生因静电的带电而引起的问题。而且，专利文献1公开了该方法的一个具体例。

在该文献中公开了如下的方法：在搬运中的玻璃基板的搬运路径的上游侧从吹出嘴对该玻璃基板喷涂处理气体而实施蚀刻处理，并且，在搬运路径的下游侧由吸嘴吸引处理气体而进行排气。需要说明的是，虽然在该文献中未明确示出，但在采用这种方法的情况下，为了防止处理气体漏出，大多情况下在腔室内实施蚀刻处理。在该腔室形成有用于向腔室内搬入玻璃基板的搬入口、以及用于向腔室外搬出玻璃基板的搬出口。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2011/105331号

发明内容

发明要解决的课题

然而，在采用专利文献1所公开的方法对玻璃基板实施蚀刻处理的情况下，仍然产生下述的要解决的问题。

即，由于在腔室形成有玻璃基板的搬入口以及搬出口，因此，当因腔室内外的气压差而产生通过搬入口、搬出口向腔室内流入的气流和向腔室外流出的气流时，在该气流的作用下，处理气体的流动发生紊乱，从而存在玻璃基板的表面的粗糙化发生不均匀的问题。

鉴于上述情况而完成的本发明的技术课题在于，在形成有玻璃基板的搬入口以及搬出口的腔室内使用处理气体对玻璃基板实施蚀刻处理的情况下，能够实现其可靠的执行。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题而创造的本发明是一种玻璃基板的制造方法，其在将从搬入口搬入到腔室内的玻璃基板沿着水平方向搬运的同时，在腔室内的玻璃基板的搬运路径上设置的处理区域中利用处理气体对所述玻璃基板实施蚀刻处理之后，从搬出口向腔室外搬出处理后的玻璃基板，该玻璃基板的制造方法的特征在于，通过在搬入口以及搬出口各自的开口的上缘侧和下缘侧分别使开口宽度调节构件移动，从而基于腔室内外的气压差来调节搬入口以及搬出口各自的沿着上下方向的开口宽度。在此，“将玻璃基板沿着水平方向搬运”不仅包括将玻璃基板沿着非倾斜方向即水平方向搬运的情况，还包括将玻璃基板沿着相对于水平面在上下30°以下的范围内倾斜的方向搬运的情况。另外，这些情况下的玻璃基板的姿态不仅包括玻璃基板相对于搬运方向的两侧方而成为非倾斜状态的姿态，还包括玻璃基板从搬运方向的一侧方相对于另一侧方在30°以下的范围内成为倾斜状态的姿态(以下相同)。

根据这样的方法，即便在因腔室内外的气压差而产生通过搬入口、搬出口向腔室内流入的气流、向腔室外流出的气流的情况下，也能够尽可能地避免因这些气流使处理气体的流动发生紊乱的情况。即，通过基于腔室内外的气压差来调节搬入口以及搬出口各自的沿着上下方向的开口宽度，能够将向腔室内流入的气流、向腔室外流出的气流的流速(流量)控制为不会对处理气体的流动造成影响的大小。其结果是，能够可靠地执行利用处理气体对玻璃基板进行蚀刻的蚀刻处理。

在上述的方法中，优选的是，对玻璃基板的下表面喷涂处理气体，并且，对于搬出口以及搬入口，分别以成为配置于上缘侧的开口宽度调节构件比配置于下缘侧的开口宽度调节构件更远离正在搬出口以及搬入口的开口中通过的玻璃基板的状态的方式调节开口宽度。

在玻璃基板通过搬入口以及搬出口时，这些开口的一部分成为以玻璃基板为分界沿上下被分割的状态。即，开口的一部分被分割为玻璃基板的上表面侧和下表面侧。在此，在产生了通过搬入口、搬出口向腔室内流入的气流的情况下，从玻璃基板的下表面侧流入到腔室内的气流容易使向玻璃基板的下表面喷涂的处理气体(以下记为下表面处理气体)的流动发生紊乱。因此，预先形成为与玻璃基板的上表面侧相比在下表面侧气流难以向腔室内流入的状态，这有利于避免下表面处理气体的流动发生紊乱。而且，若以成为配置于上缘侧的开口宽度调节构件比配置于下缘侧的开口宽度调节构件更远离正在开口中通过的玻璃基板的状态的方式调节开口宽度，则与玻璃基板的上表面侧相比，能够在下表面侧减小开口处的气流的流路剖面面积。这样，与玻璃基板的上表面侧相比，在玻璃基板的下表面侧气流难以向腔室内流入，在避免使下表面处理气体的流动发生紊乱的方面是优选的。

在上述的方法中也可以是，玻璃基板的沿着搬运方向的长度大于搬入口与处理区域的沿着搬运路径的相互间距离、以及处理区域与搬出口的沿着搬运路径的相互间距离。

在该情况下，在搬运中的玻璃基板的最后部结束通过搬入口之前，玻璃基板的前头部已经到达处理区域。另外，在玻璃基板的最后部结束通过处理区域之前，玻璃基板的前头部已经到达搬出口。由此，以搬运中的玻璃基板为分界，从搬入口到处理区域为止的区域在腔室内沿上下被分割，或者从处理区域到搬出口为止的区域在腔室内沿上下被分割。因此，从玻璃基板的下表面侧流入到腔室内的气流容易使下表面处理气体的流动进一步发生紊乱。根据以上情况，在玻璃基板的沿着搬运方向的长度具有上述那样的长度的情况下，若以成为配置于上缘侧的开口宽度调节构件比配置于下缘侧的开口宽度调节构件更远离正在开口中通过的玻璃基板的状态的方式调节开口宽度，使得与玻璃基板的上表面侧相比，在下表面侧气流难以向腔室内流入，则能够更加有效地利用该效果。

在上述的方法中也可以是，将处理器以在该处理器与腔室的顶棚部之间形成间隙的方式设置于腔室的底部，该处理器通过对玻璃基板喷涂处理气体而实施蚀刻处理。

在以成为配置于上缘侧的开口宽度调节构件比配置于下缘侧的开口宽度调节构件更远离正在搬入口、搬出口的开口中通过的玻璃基板的状态的方式调节开口宽度的情况下，与玻璃基板的下表面侧相比，在上表面侧气流容易向腔室内流入。然而，若将处理器以该处理器与腔室的顶棚部之间形成间隙的方式设置于腔室的底部，其中，该处理器通过对玻璃基板喷涂处理气体而实施蚀刻处理，则容易引导从玻璃基板的上表面侧流入到腔室内的气流向形成于处理器与腔室的顶棚部之间的间隙流入。其结果是，气流难以停留在处理器的附近，在避免使下表面处理气体的流动发生紊乱的方面更为优选。

在上述的方法中优选的是，设置移动机构，该移动机构贯穿腔室内外并且用于使开口宽度调节构件移动，经由移动机构并通过在腔室外的操作而使开口宽度调节构件移动。

这样，能够经由移动机构并通过在腔室外的操作而使开口宽度调节构件移动，因此，无需进行为了使开口宽度调节构件移动而对腔室进行开闭等的作业。由此，容易防止随着腔室的开闭而处理气体向腔室外漏出等不良情况的发生。

在上述的方法中优选的是，使用板状构件来作为开口宽度调节构件。

这样，仅通过在搬入口以及搬出口各自的开口的上缘侧和下缘侧分别使板状构件移动，便能够调节搬入口以及搬出口各自的沿着上下方向的开口宽度。因此，能够减少对向腔室内流入的气流、向腔室外流出的气流的流速(流量)进行控制所需的成本、精力。

发明效果

根据本发明，在形成有玻璃基板的搬入口以及搬出口的腔室内使用处理气体对玻璃基板实施蚀刻处理的情况下，能够实现其可靠的执行。

附图说明

图1是示出本发明的第一实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置的概要纵剖侧视图。

图2是示出在本发明的第一实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置中的搬入口的附近的纵剖侧视图。

图3是示出在本发明的第一实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置中的供给路的纵剖主视图。

图4是示出在本发明的第一实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置中的供给路的附近的纵剖侧视图。

图5是示出本发明的第二实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置的概要纵剖侧视图。

图6是示出在本发明的第二实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置中的开口宽度调节构件的主视图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式的玻璃基板的制造方法进行说明。

<第一实施方式>

首先，说明本发明的第一实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置。

如图1所示，玻璃基板的制造装置1构成为，在将从搬入口2a搬入到腔室2内的玻璃基板3沿着水平方向进行搬运的同时，在腔室2内的玻璃基板3的搬运路径上设置的处理区域4中利用作为处理气体5的氟化氢实施蚀刻处理之后，从搬出口2b向腔室2外搬出处理后的玻璃基板3。该玻璃基板的制造装置1能够利用配置于腔室2内外的多个辊6，来将玻璃基板3沿着水平呈一直线地延伸的搬运路径以平置的姿态进行搬运。

腔室2的外形形成为长方体状，防止处理气体5从形成于其内部的空间7向腔室2外流出。该腔室2具备用于搬入玻璃基板3的搬入口2a以及用于搬出玻璃基板3的搬出口2b。搬入口2a以及搬出口2b形成于腔室2的侧壁部2c，并且，形成为在沿着玻璃基板3的主面(上表面以及下表面)并与该玻璃基板3的搬运方向正交的宽度方向(图1中是与纸面垂直的方向，以下仅记为宽度方向)上为长条的矩形。

需要说明的是，腔室2的材质为对处理气体5(氟化氢)的耐腐蚀性优异的聚氯乙烯。另外，在腔室2内(空间7内)以及腔室2外分别设置有气压计(省略图示)，能够利用两个气压计来测定腔室2内外的气压差。

对于搬入口2a以及搬出口2b各自的开口，沿着上下方向(与玻璃基板3的主面正交的高度方向)的开口宽度能够由一对开口宽度调节构件8、9调节，该一对开口宽度调节构件8、9能够在开口的上缘2aa(2ba)侧和下缘2ab(2bb)侧分别沿着腔室2的侧壁部2c在上下方向上移动。搬入口2a以及搬出口2b的开口宽度的调节由作业者基于利用上述的两个气压计测定出的腔室2内外的气压差来进行。由此，能够控制因腔室2内外的气压差而产生的、通过搬入口2a、搬出口2b向腔室2内流入的气流10(向腔室2外流出的气流10)的流速(流量)。需要说明的是，一对开口宽度调节构件8、9各自的材质为聚氯乙烯。

开口宽度调节构件8(9)由在侧视下形成为L字状且在宽度方向上为长条的构件构成，且沿着搬入口2a以及搬出口2b延伸。需要说明的是，开口宽度调节构件8(9)也可以由在宽度方向上为长条的矩形的板状构件构成。另外，开口宽度调节构件8(9)能够沿着以在上下方向上延伸的方式设置于腔室2的侧壁部2c的导轨11进行移动。此外，开口宽度调节构件8(9)与作为用于使该开口宽度调节构件8(9)移动的移动机构的滚珠丝杠机构12连结。

滚珠丝杠机构12具备：板材12a，其与开口宽度调节构件8(9)直接连结；滚珠丝杠12b，其用于伴随着自身的旋转而经由板材12a将开口宽度调节构件8(9)沿上下方向进给；旋转轴12c，其贯穿腔室2内外且与滚珠丝杠12b同步旋转；以及手柄12d，其用于供作业者经由旋转轴12c使滚珠丝杠12b旋转。通过该滚珠丝杠机构12，作业者能够在腔室2外对手柄12d进行操作，使开口宽度调节构件8(9)移动。

需要说明的是，如图2所示，在本实施方式中，对于搬入口2a以及搬出口2b的各个开口(图2中图示出搬入口2a)，分别以成为配置于上缘2aa侧的开口宽度调节构件8比配置于下缘2ab侧的开口宽度调节构件9更远离正在该搬入口2a以及搬出口2b的开口中通过的玻璃基板3的状态的方式调节开口宽度。即，以使配置于上缘2aa侧的开口宽度调节构件8与玻璃基板3的上表面相互间距离A1大于配置于下缘2ab侧的开口宽度调节构件9与玻璃基板3的下表面相互间距离A2的方式调节开口宽度。作为相互间距离A1的长度与相互间距离A2的长度的比率，优选相互间距离A1的长度为相互间距离A2的长度的2倍以上。

在此，在本实施方式中构成为，通过一对开口宽度调节构件8、9分别沿着腔室2的侧壁部2c在上下方向上移动，来调节搬入口2a以及搬出口2b的沿着上下方向的开口宽度，但不局限于此。例如也可以构成为，通过一对开口宽度调节构件8、9分别沿着腔室2的侧壁部2c在相对于上下方向倾斜的方向上移动，来调节搬入口2a以及搬出口2b的沿着上下方向的开口宽度。另外，在本实施方式中，构成为一对开口宽度调节构件8、9分别沿着腔室2的侧壁部2c移动，但不局限于此。例如也可以构成为，一对开口宽度调节构件8、9分别以从搬入口2a(搬出口2b)的上缘部2aa(2ba)以及下缘部2ab(2bb)进入以及后退的方式移动。

此外，在本实施方式中构成为，通过作业者操作手柄12d使滚珠丝杠12b旋转，从而使开口宽度调节构件8(9)移动，但也可以构成为，不通过作业者而使用马达等动力源来使滚珠丝杠12b旋转，从而使开口宽度调节构件8(9)移动。此外，在本实施方式中构成为，利用滚珠丝杠机构12使开口宽度调节构件8(9)移动，但不局限于此。例如也可以构成为利用齿条-小齿轮机构等使开口宽度调节构件8(9)移动。

如图1所示，在处理区域4配置有处理器13，该处理器13用于对由设置于腔室2内的多个辊6搬运的玻璃基板3喷涂处理气体5而实施蚀刻处理。该处理器13以在与腔室2的顶棚部2d之间形成间隙14的方式设置于腔室2的底部2e，并且具备配置为与搬入到处理区域4的玻璃基板3的下表面对置的主体部13a、以及配置为与玻璃基板3的上表面对置的顶板部13b。在该主体部13a与顶板部13b相互间形成有用于对玻璃基板3实施蚀刻处理的处理空间15。需要说明的是，主体部13a以及顶板部13b的材质为聚氯乙烯。

主体部13a具有：供给路13aa，其向处理空间15供给要喷涂于玻璃基板3的下表面的处理气体5，且相对地设置在玻璃基板3的搬运路径的上游侧；以及回收路13ab，其从处理空间15回收处理气体5，且相对地设置在玻璃基板3的搬运路径的下游侧。由此，从供给路13aa供给至处理空间15的处理气体5在喷涂到玻璃基板3的下表面之后，朝向玻璃基板3的搬运路径的下游侧流动，由回收路13ab从处理空间15回收。另外，在主体部13a内置有能够对主体部13a进行加热的加热构件13ac(例如加热器等)，以防止因处理气体5引起的结露的产生。

如图3所示，供给路13aa通过层叠内置于主体部13a的第一构造体13ad～第五构造体13ah这五层而形成。在位于最下层的第一构造体13ad形成有用于向该第一构造体13ad供给处理气体5的供给口13ada。而且，通过使该第一构造体13ad与层叠于其上方的第二构造体13ae重合，形成从供给口13ada供给的处理气体5的分支流路。此外，通过使第二构造体13ae与层叠于其上方的第三构造体13af重合，形成使上述的分支流路进一步分支的分支流路。在层叠于第三构造体13af的上方的第四构造体13ag形成有用于使分支后的分支流路汇合的空间16，并且安装有形成了多个孔17a的多孔板17，该多个孔17a用于使处理气体5通过。在位于最上层的第五构造体13ah形成有用于使处理气体5向处理空间15流出的流出口(供给路13aa中的处理气体5的流出口)。

供给路13aa中的处理气体5的流出口以及回收路13ab中的处理气体5的流入口均形成为在宽度方向上为长条的狭缝状。该流出口以及流入口的宽度尺寸大于玻璃基板3的宽度尺寸。此外，如图4所示，供给路13aa中的处理气体5的流出口的沿着玻璃基板3的搬运方向的开口宽度由设置于该供给路13aa内的间隔件18调节为固定的宽度。间隔件18以相互分离的状态沿着宽度方向设置有多个。需要说明的是，作为变形例，也可以将沿着宽度方向设置的多个间隔件18设为一组间隔件组，将间隔件组在上下多层设置。

在此，从供给路13aa中的处理气体5的流出口到设置有间隔件18的位置为止的深度尺寸B优选为10mm～40mm的范围内。需要说明的是，在将间隔件组在上下多层设置的情况下，优选从处理气体5的流出口到设置有位于最上层的间隔件组的位置为止的深度尺寸为10mm～40mm的范围内。当该深度尺寸B过小时，因间隔件18而使供给路13aa内的处理气体5的流动发生紊乱，可能导致基于蚀刻处理实现的玻璃基板3的下表面的粗糙化发生不均匀。另一方面，当深度尺寸B过大时，难以将供给路13aa中的处理气体5的流出口的沿着玻璃基板3的搬运方向的开口宽度调节为所希望的宽度。因此，从流出口向处理空间15供给的处理气体5的供给量有可能过多或过少而无法使玻璃基板3的下表面粗糙化到所希望的表面粗糙度。

如图1所示，顶板部13b由单一的板状构件构成，并且具有与搬入到处理区域4的玻璃基板3的上表面对置的平坦面。另外，与主体部13a同样地，在顶板部13b内置有能够对顶板部13b进行加热的加热构件13ba(例如加热器等)，以防止因处理气体5引起的结露的产生。

如图2所示，相对于形成在腔室2的侧壁部2c的搬入口2a，在玻璃基板3的搬运路径的上游侧设置有用于防止处理气体5从腔室2内漏出到外部的挡板19。需要说明的是，虽然省略了图示，但也相对于形成在侧壁部2c的搬出口2b而在玻璃基板3的搬运路径的下游侧设置有与上述的挡板19相同的挡板19。

挡板19具备夹着玻璃基板3的搬运路径而配置于上方侧的第一构件19a和配置于下方侧的第二构件19b。两构件19a、19b分别能够在图2中以实线示出的待机位置与以双点划线示出的工作位置相互间沿上下移动。

在第一构件19a以及第二构件19b这双方处于待机位置的情况下，挡板19成为打开的状态，能够使玻璃基板3通过两构件19a、19b相互间而进行搬运。另一方面，在第一构件19a以及第二构件19b这双方移动到工作位置的情况下，第一构件19a的前端部19aa与第二构件19b的前端部19ba在两者19aa、19ba彼此之间不形成间隙而相互抵接，挡板19成为闭合的状态。

当挡板19成为闭合的状态时，在形成于该挡板19与腔室2的侧壁部2c之间的空间20内，成为气体仅通过形成于侧壁部2c的搬入口2a(搬出口2b)而能够向空间20流入以及从空间20流出的状态。由此，即便在处理气体5通过搬入口2a(搬出口2b)从腔室2内要向外部漏出的情况下，也能够使处理气体5留在空间20内。

以下，说明使用了上述的玻璃基板的制造装置1的本发明的第一实施方式的玻璃基板的制造方法。

首先，使玻璃基板的制造装置1运行，开始由多个辊6对玻璃基板3进行搬运，从搬入口2a向腔室2内搬入玻璃基板3。然后，将玻璃基板3向处理区域4搬入。

当玻璃基板3向处理区域4的搬入完成时，在形成于处理器13的处理空间15内搬运玻璃基板3的同时，将从供给路13aa供给至处理空间15的处理气体5喷涂于玻璃基板3而实施蚀刻处理，并且从回收路13ab回收处理空间15内的处理气体5。

当对玻璃基板3的蚀刻处理完成时，从处理区域4搬出玻璃基板3。然后，从搬出口2b向腔室2外搬出玻璃基板3。通过以上的工序，得到被实施了蚀刻处理的玻璃基板3。

在玻璃基板的制造装置1的运行中，利用分别设置于腔室2内(空间7内)以及腔室2外的两个气压计来测定腔室2内外的气压差。然后，作业者基于测定出的气压差来操作手柄12d，使开口宽度调节构件8(9)沿上下方向移动，由此调节玻璃基板3的搬入口2a以及搬出口2b的沿着上下方向的开口宽度。

在此，例如在由回收路13ab从处理空间15对处理气体5的回收不可避免地停止的情况下，成为仅继续进行供给路13aa将处理气体5向处理空间15的供给的状态，在腔室2内充满处理气体5之后，有可能向腔室2外漏出。在这种情况下，通过将挡板19设为闭合的状态，来防止处理气体5的漏出。

需要说明的是，在该玻璃基板的制造方法中成为蚀刻处理的对象的玻璃基板3的尺寸不局限于图1所示的尺寸。例如，也可以将具有如下尺寸的玻璃基板3作为蚀刻处理的对象，即，玻璃基板3的沿着搬运方向的长度大于沿着搬运路径的搬入口2a与处理区域4相互间距离、以及处理区域4与搬出口2b相互间距离。

以下，说明由上述的玻璃基板的制造方法带来的主要作用和效果。

根据上述的玻璃基板的制造方法，即便在因腔室2内外的气压差而产生通过搬入口2a、搬出口2b向腔室2内流入的气流10(向腔室2外流出的气流10)的情况下，也能够尽可能地避免因气流10使处理气体5的流动发生紊乱的情况。即，通过基于腔室2内外的气压差来调节搬入口2a以及搬出口2b各自的沿着上下方向的开口宽度，能够将向腔室2内流入的气流10(向腔室2外流出的气流10)的流速(流量)控制为不会对处理气体5的流动造成影响的大小。其结果是，能够可靠地执行利用处理气体5对玻璃基板3进行蚀刻的蚀刻处理。

<第二实施方式>

以下，说明本发明的第二实施方式的玻璃基板的制造方法。需要说明的是，在该第二实施方式的说明中，针对在上述的第一实施方式中已经说明的要素，在第二实施方式的说明所参照的附图中标注相同的标号而省略重复的说明，仅针对与第一实施方式的不同点进行说明。

首先，说明本发明的第二实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置。

如图5以及图6所示，本发明的第二实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置1与上述的第一实施方式的玻璃基板的制造方法所使用的玻璃基板的制造装置1的不同之处在于，腔室2以及一对开口宽度调节构件8、9的结构不同。

如图5所示，在腔室2形成有三个顶棚孔2f，并且具备用于封堵各个该顶棚孔2f的板状的盖体2g。需要说明的是，盖体2g的材质为聚氯乙烯。盖体2g能够封堵顶棚孔2f的开口整体，并且能够安装于腔室2以及从腔室2卸下。

如图6所示，一对开口宽度调节构件8、9分别由板状构件构成，并且，形成有用于供螺栓8a(9a)贯穿的在上下方向上为长条的一对长孔8b(9b)。需要说明的是，一对开口宽度调节构件8、9以及螺栓8a(9a)的材质为聚氯乙烯。而且，通过调节长孔8b(9b)与贯穿该长孔8b(9b)的螺栓8a(9a)的相对的位置关系，并且，将该螺栓8a(9a)固定于形成在腔室2的侧壁部2c的螺纹孔(省略图示)，来对一对开口宽度调节构件8、9各自的上下方向上的位置进行定位，由此能够调节搬入口2a以及搬出口2b的沿着上下方向的开口宽度。通过从腔室2卸下盖体2g，作业者能够经由顶棚孔2f来进行该一对开口宽度调节构件8、9对搬入口2a以及搬出口2b的开口宽度的调节。

一对开口宽度调节构件8、9中的开口宽度调节构件8以如下方式进行调节：即便在螺栓8a松动而开口宽度调节构件8借助自重向下方落下时，该开口宽度调节构件8也不会阻碍玻璃基板3在搬入口2a、搬出口2b中的通过。详细说明的话，螺栓8a的固定位置(形成于腔室2的侧壁部2c的螺纹孔的形成位置)与长孔8b的沿着上下方向的长度以如下方式进行调节：即便在开口宽度调节构件8位于最下方的情况下，即，在如图6所示那样螺栓8a位于长孔8b的上端的情况下，开口宽度调节构件8的下端部也位于比玻璃基板3的搬运路径靠上方的位置。在该情况下，虽然无法由开口宽度调节构件8关闭搬入口2a、搬出口2b，但通过还设置前述的挡板19，能够在紧急时防止处理气体5向腔室2外部漏出。

以下，说明使用了上述的玻璃基板的制造装置1的本发明的第二实施方式的玻璃基板的制造方法。

第二实施方式的玻璃基板的制造方法与上述的第一实施方式的玻璃基板的制造方法的不同之处在于，对玻璃基板3的搬入口2a以及搬出口2b的沿着上下方向的开口宽度进行调节的方式不同。

在该第二实施方式的玻璃基板的制造方法中，在玻璃基板的制造装置1的运行中，利用分别设置于腔室2内(空间7内)以及腔室2外的两个气压计来测定腔室2内外的气压差。然后，基于测定出的气压差来调节玻璃基板3的搬入口2a以及搬出口2b的沿着上下方向的开口宽度，在该情况下，在暂时停止玻璃基板的制造装置1的运行的基础上进行开口宽度的调节。即，在从腔室2卸下盖体2g之后，作业者基于测定出的气压差，经由顶棚孔2f对一对开口宽度调节构件8、9各自的上下方向上的位置进行定位。由此，调节玻璃基板3的搬入口2a以及搬出口2b的沿着上下方向的开口宽度。

根据使用了该玻璃基板的制造装置1的本发明的第二实施方式的玻璃基板的制造方法，也能够得到与上述的第一实施方式的玻璃基板的制造方法同样的作用和效果。

附图标记说明：

2 腔室

2a 搬入口

2aa 上缘

2ab 下缘

2b 搬出口

2ba 上缘

2bb 下缘

2d 顶棚部

2e 底部

3 玻璃基板

5 处理气体

8 开口宽度调节构件

9 开口宽度调节构件

12 滚珠丝杠机构

12a 板材

12b 滚珠丝杠

12c 旋转轴

12d 手柄

13 处理器。

Claims (8)

1.一种玻璃基板的制造方法，其在将从搬入口搬入到腔室内的玻璃基板沿着水平方向进行搬运的同时，在所述腔室内的所述玻璃基板的搬运路径上设置的处理区域中利用处理气体对所述玻璃基板实施蚀刻处理之后，从搬出口向所述腔室外搬出处理后的所述玻璃基板，

所述玻璃基板的制造方法的特征在于，

通过在所述搬入口以及所述搬出口各自的开口的上缘侧和下缘侧分别使开口宽度调节构件移动，从而基于所述腔室内外的气压差来调节所述搬入口以及所述搬出口各自的沿着上下方向的开口宽度。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

对所述玻璃基板的下表面喷涂所述处理气体，并且，

对于所述搬出口以及所述搬入口，分别以成为使配置于所述上缘侧的所述开口宽度调节构件比配置于所述下缘侧的所述开口宽度调节构件更远离正在所述搬出口以及所述搬入口的开口中通过的所述玻璃基板的状态的方式调节所述开口宽度。

3.根据权利要求2所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述玻璃基板的沿着搬运方向的长度大于所述搬入口与所述处理区域的沿着所述搬运路径的相互间距离、以及所述处理区域与所述搬出口的沿着所述搬运路径的相互间距离。

4.根据权利要求2所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

将处理器以在该处理器与所述腔室的顶棚部之间形成间隙的方式设置于所述腔室的底部，该处理器通过对所述玻璃基板喷涂所述处理气体而实施蚀刻处理。

5.根据权利要求3所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

将处理器以在该处理器与所述腔室的顶棚部之间形成间隙的方式设置于所述腔室的底部，该处理器通过对所述玻璃基板喷涂所述处理气体而实施蚀刻处理。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

设置移动机构，该移动机构贯穿所述腔室内外并且用于使所述开口宽度调节构件移动，

经由所述移动机构并通过在所述腔室外的操作而使所述开口宽度调节构件移动。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

使用板状构件来作为所述开口宽度调节构件。

8.根据权利要求6所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

使用板状构件来作为所述开口宽度调节构件。

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