CN107632469A - 显示面板及显示面板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板及显示面板的制作方法。显示面板包括阵列基板，彩膜基板及所述阵列基板和所述彩膜基板中间的液晶层。阵列基板包括第一公共电极和像素电极，彩膜基板包括第二公共电极，面板由亮态转为暗态的下降时间，第一公共电极和第二公共电极加电，像素电极不加电，液晶受竖直电场作用迅速回到初始竖直取向状态，以此加快显示面板的响应时间，消除画面卡顿。

Description

显示面板及显示面板的制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及显示面板的制作方法。
背景技术
由于液晶分子的转动，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)屏幕上每个子像素(sub-pixel)由前一帧色亮度过渡到后一帧色的亮度，会有一个时间过程，也就是我们通常所说的响应时间(Response time)。响应时间是衡量液晶显示性能高低的一个重要参数，响应时间越短，则使用者在看动态画面时越不会有尾影拖曳现象，拥有更好的视觉体验。
现针对响应时间的定义，基本以“黑→白→黑”(亮→暗→亮)全程响应时间为标准。响应时间是由上升时间和下降时间组成。上升时间是指面板由暗态转为亮态的时间，主要是液晶受电场的作用而转动的快慢来决定。下降时间是指面板由亮态转为暗态的时间，主要是液晶受液晶取向时锚定力的作用而转动回到初始取向位置的快慢来决定。当液晶粘度大或在低温环境下时，液晶的下降时间就会变慢，成为响应时间变慢的主要原因，而响应时间变慢会造成画面卡顿。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种显示面板及显示面板的制作方法，以加快响应时间，消除画面卡顿。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种显示面板，包括：
相对设置的阵列基板和彩膜基板，及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层；
所述阵列基板包括第一公共电极(Com-1)及像素(Pixel)电极，所述彩膜基板包括第二公共电极(Com-2)；
在面板由亮态转为暗态的下降时间，所述第一公共电极和所述第二公共电极加电，所述像素电极不加电，液晶受竖直电场作用回到初始竖直取向状态。
本发明采用的另一个技术方案是：
提供了一种显示面板的制作方法，包括：
设置包括第一公共电极和像素电极的阵列基板；
相对所述阵列基板设置包括第二公共电极的彩膜基板；
在所述阵列基板和所述彩膜基板之间设置液晶层；
对所述第一公共电极和所述第二公共电极加电，所述像素电极不加电，在面板由亮态转为暗态的下降时间，使液晶受竖直电场作用回到初始竖直取向状态。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过在显示面板的彩膜基板上设置第二公共电极，对第一公共电极和第二公共电极加电，像素电极不加电，液晶受竖直电场作用迅速回到初始竖直取向状态，使得面板由亮态转为暗态的下降时间加快，提高了显示面板的响应时间，消除了画面卡顿。
附图说明
图1是本发明显示面板的结构示意图；
图2是本发明显示面板在上升时间的状态示意图；
图3是本发明显示面板在下降时间的状态示意图；
图4是本发明所述显示面板的制作方法流程示意图。
具体实施方式
请参阅图1，是本发明显示面板的结构示意图。所述显示面板包括：
相对设置的阵列基板10和彩膜基板20；
位于所述阵列基板10和所述彩膜基板20之间的液晶层30；
所述阵列基板10包括第一基板11及位于所述第一基板11上的第一公共电极12、绝缘层13及像素电极14，所述像素电极14朝向所述彩膜基板20设置；
所述彩膜基板20包括第二基板21及位于所述第二基板21上的第二公共电极22，所述第二公共电极22朝向所述阵列基板10设置；
所述阵列基板10中所述第一基板11为透明玻璃基板；
所述阵列基板10中所述第一公共电极12，像素电极14为透明的ITO(Indium TinOxides，铟锡氧化物)电极；
所述阵列基板10中所述绝缘层13为氮化硅(SiNx)；
所述彩膜基板20中所述第二基板21为透明玻璃基板；
所述彩膜基板20中所述第二公共电极22为透明ITO电极；
所述液晶层30中液晶分子为负性液晶，液晶分子在所述阵列基板10和所述彩膜基板20间原始取向呈竖直取向状态。
不加电状态下，所述第一基板11和所述第二基板21间无电场作用，所述液晶层30中的液晶分子呈竖直取向状态，面板为暗态。
请参阅图2，是本发明显示面板在上升时间的状态示意图。
所述像素电极14和所述第一公共电极12加电，所述第二公共电极22不加电，液晶受水平电场作用逐渐趋向水平转动，面板由暗态转为亮态，此过程为上升时间。
请参阅图3，是本发明显示面板在下降时间的状态示意图。
所述第一公共电极12和所述第二公共电极22加电，所述像素电极14不加电，液晶受竖直电场作用迅速回到初始竖直取向状态，面板由亮态转为暗态，此过程为下降时间。
由于垂直方向的电场力作用强制将液晶转回初始取向方向，液晶的下降时间大大变快，提高了显示面板的整体响应时间。即使在极端低温环境下，显示面板也能保持快速的响应时间，不会出现画面的卡顿。
在本实施例中，所述显示面板为边缘场开关显示面板。
在本实施例中，所述显示面板仅示出了部分结构，所述显示面板的其他结构与现有显示面板的结构相同，如所述显示面板还可能包括其他膜层，例如偏光片等，在此不再赘述。
请参阅图4，是本发明所述显示面板的制作方法的流程示意图。所述显示面板的制作方法包括如下步骤：
步骤S1：设置包括第一公共电极12和像素电极14的阵列基板10。
所述第一公共电极12和所述像素电极14为透明ITO电极。
步骤S2：相对所述阵列基板10设置包括第二公共电极22的彩膜基板20。
所述第二公共电极22为透明ITO电极。
步骤S3：在所述阵列基板10和所述彩膜基板20之间设置液晶层30。
所述液晶层30中的液晶分子为负性液晶，在所述阵列基板10和所述彩膜基板20间原始取向呈竖直取向状态，此时面板为暗态。
步骤S4：对所述像素电极14和所述第一公共电极12加电，所述第二公共电极22不加电，使得液晶受水平电场作用趋向水平转动，面板由暗态转为亮态。
步骤S5：对所述第一公共电极12和所述第二公共电极22加电，所述像素电极14不加电，使得液晶受竖直电场作用回到初始竖直取向状态，面板由亮态转为暗态。
其中，步骤S1中的阵列基板10还包括第一基板11及绝缘层13，设置所述第一公共电极12在所述第一基板11和所述绝缘层13之间，设置所述像素电极14在所述绝缘层13上且朝向所述彩膜基板20。
所述第一基板11为透明玻璃基板；
所述绝缘层13为氮化硅。
其中，步骤S2中的彩膜基板20还包括第二基板21，设置所述第二公共电极22在所述第二基板21上且朝向所述阵列基板10。
所述第二基板21为透明玻璃基板。
在本实施例中，所述第二公共电极22在所述阵列基板10上的投影与所述第一公共电极12完全重合。
在本实施例中，所述显示面板为边缘场开关显示面板。
在本实施例中，所述显示面板仅示出了部分结构，所述显示面板的其他结构与现有显示面板的结构相同，如所述显示面板还可能包括其他膜层，例如偏光片等，在此不再赘述。
本发明的显示面板及显示面板的制作方法是通过在所述阵列基板10上设置第一公共电极12和像素电极14及在所述彩膜基板20上设置第二公共电极22，并在面板由亮态转为暗态的下降时间，通过对所述第一公共电极12和所述第二公共电极22加电，所述像素电极14不加电，使得液晶不是由于锚定力的作用而是由于垂直方向的电场力作用强制将液晶转回初始取向的方向，以此加快下降时间，提高显示面板的响应时间，消除画面的卡顿。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
相对设置的阵列基板和彩膜基板，及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层；
所述阵列基板包括第一公共电极及像素电极，所述彩膜基板包括第二公共电极；
在面板由亮态转为暗态的下降时间，所述第一公共电极和所述第二公共电极加电，所述像素电极不加电，液晶受竖直电场作用回到初始竖直取向状态。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括第一基板及绝缘层，所述第一公共电极位于所述第一基板和所述绝缘层之间，所述像素电极位于所述绝缘层上且朝向所述彩膜基板。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板还包括第二基板，所述第二公共电极位于所述第二基板上且朝向所述阵列基板。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二公共电极在所述阵列基板上的投影与所述第一公共电极完全重合。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在面板由暗态转为亮态的上升时间，所述第一公共电极和所述像素电极加电，所述第二公共电极不加电，液晶受水平电场作用趋向水平转动。
6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
设置包括第一公共电极和像素电极的阵列基板；
相对所述阵列基板设置包括第二公共电极的彩膜基板；
在所述阵列基板和所述彩膜基板之间设置液晶层；
对所述第一公共电极和所述第二公共电极加电，所述像素电极不加电，在面板由亮态转为暗态的下降时间，使液晶受竖直电场作用回到初始竖直取向状态。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述设置包括所述第一公共电极和所述像素电极的阵列基板，还包括：第一基板及绝缘层，设置所述第一公共电极在所述第一基板和所述绝缘层之间，设置所述像素电极在所述绝缘层上且朝向所述彩膜基板。
8.根据权利要求6所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述在所述阵列基板相对设置包括第二公共电极的彩膜基板，还包括：第二基板，设置所述第二公共电极在所述第二基板上且朝向所述阵列基板。
9.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第二公共电极在所述阵列基板上的投影与所述第一公共电极完全重合。
10.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在所述对所述第一公共电极和所述第二公共电极加电，所述像素电极不加电，使液晶受竖直电场作用迅速回到初始竖直取向状态，面板由亮态转为暗态步骤之前包括：
对所述第一公共电极和所述像素电极加电，所述第二公共电极不加电，使液晶受水平电场作用趋向水平转动，面板由暗态转为亮态。
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